【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的一个方面涉及光测量装置及光测量方法。
技术介绍
一直以来,已知有一种对成为测定对象的试样照射激发光并检测测量光的光测量装置。作为该种技术,例如在专利文献1中记载有一种绝对荧光量子效率测定装置,其在求出内部量子效率(发光量子收率)时,根据积分球内的基于分光反射率标准的反射率测定值与试样的反射率测定值而求出试样的吸收率。例如在专利文献2中记载有一种量子效率测定装置,其测定在试样透过后的激发光反射至积分空间内那样的状态下被试样吸收的激发光,且测定在透过试样后的激发光不反射至积分空间内那样的状态下自试样产生的光。专利文献2所记载的量子效率测定装置中,通过进行这样的2阶段的测量处理,从而降低再激发(二次激发)所导致的测定误差。在非专利文献1~3中记载有以被试样内包(覆盖)的方式以规定的光束截面照射激发光,且以激发光的照射位置上的试样的面积(以下也简称为“试样的面积”)大于规定的光束截面(光束直径)为前提,计算出内部量子效率或外部量子效率(=内部量子效率×吸收率)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平9-292281号公报专利文献2:日本特开2003-215041号公报非专利文献非专利文献1:“MeasurementofabsolutephotoluminescencequantumefficienciesinconjugatedpolymersChemicalPhysicsLettersVolume241”,Issues1-2,14July1995,Pages89-96,N.C.Greenham,I.D.W.Samuel,G.R.Hayes,R. ...
【技术保护点】
一种光测量装置,其特征在于,是对试样照射激发光并检测测量光的光测量装置,包括:积分器,其配置有所述试样;光学系统,其向所述积分器内输入所述激发光,使所述激发光以规定的光束截面照射至所述试样;光检测器,其检测自所述积分器输出的测量光,并输出1个或多个波长下的所述试样的强度数据;存储部,其存储有修正数据;及光特性计算部,其基于自所述光检测器输出的所述试样的强度数据及所述存储部中存储的所述修正数据,计算出所述试样的光特性,所述修正数据是基于第1修正用强度数据与第2修正用强度数据而计算出的修正值,所述第1修正用强度数据是在对配置于所述积分器的第1光吸收构件以所述规定的光束截面照射所述激发光时自所述积分器输出的第1测量光的检测值,所述第2修正用强度数据是在对配置于所述积分器的第2光吸收构件以所述规定的光束截面照射所述激发光时自所述积分器输出的第2测量光的检测值,所述激发光的所述规定的光束截面被所述第1光吸收构件覆盖,并且覆盖所述第2光吸收构件。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.23 JP 2014-1068161.一种光测量装置,其特征在于,是对试样照射激发光并检测测量光的光测量装置,包括:积分器,其配置有所述试样;光学系统,其向所述积分器内输入所述激发光,使所述激发光以规定的光束截面照射至所述试样;光检测器,其检测自所述积分器输出的测量光,并输出1个或多个波长下的所述试样的强度数据;存储部,其存储有修正数据;及光特性计算部,其基于自所述光检测器输出的所述试样的强度数据及所述存储部中存储的所述修正数据,计算出所述试样的光特性,所述修正数据是基于第1修正用强度数据与第2修正用强度数据而计算出的修正值,所述第1修正用强度数据是在对配置于所述积分器的第1光吸收构件以所述规定的光束截面照射所述激发光时自所述积分器输出的第1测量光的检测值,所述第2修正用强度数据是在对配置于所述积分器的第2光吸收构件以所述规定的光束截面照射所述激发光时自所述积分器输出的第2测量光的检测值,所述激发光的所述规定的光束截面被所述第1光吸收构件覆盖,并且覆盖所述第2光吸收构件。2.如权利要求1所述的光测量装置,其特征在于,所述修正数据是根据第1吸收率与第2吸收率的比而计算出的修正值,所述第1吸收率基于所述第1修正用强度数据而计算出,所述第2吸收率基于所述第2修正用强度数据而计算出。3.如权利要求1所述的光测量装置,其特征在于,所述修正数据是根据第1反射率与第2反射率的比而计算出的修正值,所述第1反射率基于所述第1修正用强度数据而计算出,所述第2反射率基于所述第2修正用强度数据而计算出。4.如权利要求1至3中任一项所述的光测量装置,其特征在于,所述修正数据是多个波长下的修正值。5.如权利要求1至4中任一项所述的光测量装置,其特征在于,所述第1光吸收构件及所述第2光吸收构件由相同的吸收率的材料形成。6.如权利要求1至5中任一项所述的光测量装置,其特征在于,所述激发光的照射位置上的所述试样的面积与所述激发光的照射位置上的所述第2光吸收构件的面积相等,所述激发光的所述规定的光束截面覆盖所述试样,所述光特性计算部基于所述试样的强度数据及所述修正数据,计算出所述试样的吸收率或反射率来作为所述光特性。7.如权利要求1至5中任一项所述的光测量装置,其特征在于,所述激发光的照射位置上的所述试样的面积与所述激发光的照射位置上的所述第1光吸收构件的面积相等,所述激发光的所述规定的光束截面被所述试样覆盖,所述光特性计算部基于所述试样的强度数据及所述修正数据,计算出所述试样的内部量子效率来作为所述光特性。8.如权利要求1至7中任一项所述的光测量装置,其特征在于,被所述第1光吸收构件覆盖的所述规定的光束截面在所述激发光的照射位置上具有比所述第1光吸收构件的面积小的面积,覆盖所述第2光吸收构件的所述规定的光束截面在所述激发光的照射位置上具有比所述第2光吸收构件的面积大的面积。9.一种光测量方法,其特征在于,是对试样照射激发光并检测测量光的光测量方法,包含:对配置于积分器的第1光吸收构件以规定的光束截面照射激发光,为了取得第1修正用强度数据而检测自所述积分器输出的第1测量光的工序;对配置于所述积分器的第2光吸收构件以所述规定的光束截面照射所述激发光,为了取得第2修正用强度数据而检测自所述积分器输出的第2测量光的工序;对配置于所述积分器的所述试样以所述规定的光束截面照射所述激发光,为了取得1个或多个波长下的所述试样的强度数据而检测自所述积分器输出的测量光的工序;基于所述第1修正用强度数据及所述第2修正用强度数据,计算出修正数据的工序;及基于所述试样的强度数据及所述修正数据,计算出所述试样的光特性的工序,所述激发光的所述规定的光束截面被所述第1光吸收构件覆盖,并且覆盖第2光吸收构件。10.如权利要求9所...
【专利技术属性】
技术研发人员:江浦茂,铃木健吾,池村贤一郎,井口和也,
申请(专利权)人:浜松光子学株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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