一种OLED结构及其制备方法技术

本发明专利技术涉及显示器技术领域，尤其涉及一种OLED结构及其制备方法，通过FMM于每个显示器件之上均形成覆盖层，且覆盖层的厚度与该显示器件发射的光的波长相匹配。透过不同厚度的覆盖层可调整三色的视角色偏情形，达到更高的色彩正确性，且通过FMM可以将该覆盖层蒸镀成透明半球状，形成出光增强结构，从而有效的提高了OLED结构的出光效率。且在不更改目前蒸镀机构的设计情况之下，即可透过FMM开口的设计，达到半球状有机层的镀膜。

OLED structure and preparation method thereof

The present invention relates to a display technology field, especially relates to a OLED structure and a preparation method thereof, through the FMM display device are formed on each layer, the wavelength and the thickness of the cover layer and the display device of the light emitted. Through the covering layer of different thickness can be considered three partial role adjustment, color to achieve high accuracy, and through the FMM can be the cover layer evaporated into a transparent hemispherical, forming a light reinforced structure, which effectively improves the optical efficiency of OLED. And without changing the design of the current evaporation mechanism, the coating of the hemispherical organic layer can be achieved through the design of the FMM opening.

【技术实现步骤摘要】
一种OLED结构及其制备方法
本专利技术涉及显示器
，尤其涉及一种OLED结构及其制备方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，消费者对于影音产品的要求越来越高，对显示器厂商而言，生产高分辨率、高画质的显示器是发展方向，而有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)由于其具有自发光、高亮度、广视角、快速反应以及RGB全彩组件皆可制作等特质，已经被广泛应用于显示器中，目前OLED显示面板的应用已经进入实用化阶段，市场上已有汽车音响和移动电话使用OLED显示面板，今后OLED显示面板将广泛应用于行动产品、笔记本电脑、监视器、壁挂电视等轻薄型显示器中，且全彩化的发展将提高OLED产品的竞争力。现今主流的OLED显示屏技术，均采用顶部发光(TopEmission)的OLED结构，利用微共振腔效应，可大幅增加发光强度，但其视角色偏情形也较为严重，且出光效率不高，这是本领域技术人员所不愿看到的。
技术实现思路
针对上述存在的问题，本专利技术公开一种OLED结构，包括：基板，设置有显示区和非显示区；若干显示器件，位于所述基板的显示区，且任一所述显示器件用以发射单一颜色的光，所述若干显示器件发射至少包括三种不同颜色的光；其中，每个所述显示器件之上均设置有覆盖层(cappinglayer)，且所述覆盖层的厚度与该显示器件发射的光的波长相匹配。上述的OLED结构，其中，所述覆盖层中间高，两边低。上述的OLED结构，其中，所述覆盖层的形状为半球形。上述的OLED结构，其中，所述若干显示器件至少包括分别用以发射不同颜色的光的第一显示器件、第二显示器件和第三显示器件，所述第一显示器件之上设置有第一覆盖层，所述第二显示器件之上设置有第二覆盖层，所述第三显示器件之上设置有第三覆盖层；其中，所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的最大厚度均不相同。上述的OLED结构，其中，所述第一显示器件发射的光的波长大于所述第二显示器件发射的光的波长，所述第二显示器件发射的光的波长大于所述第三显示器件发射的光的波长；其中，所述第一覆盖层的最大厚度大于所述第二覆盖层的最大厚度，所述第二覆盖层的最大厚度大于所述第三覆盖层的最大厚度。上述的OLED结构，其中，所述第一显示器件发射红光，所述第二显示器件发射绿光，所述第三显示器件发射蓝光。上述的OLED结构，其中，所述第一覆盖层的最大厚度范围为85nm～95nm，所述第二覆盖层的最大厚度范围为70nm～80nm，所述第三覆盖层的最大厚度范围为55nm～65nm。上述的OLED结构，其中，所述第一显示器件包括第一下电极，红色发光层和第一上电极；所述第二显示器件包括第二下电极，绿色发光层和第二上电极；所述第三显示器件包括第三下电极，蓝色发光层和第三上电极。上述的OLED结构，其中，所述第一上电极、第二上电极和第三上电极为共享电极。上述的OLED结构，其中，所述覆盖层为透明材料。本专利技术还公开了一种OLED结构的制备方法，包括如下步骤：提供一基板，于所述基板上方设置显示区和非显示区；于所述基板的显示区设置若干显示器件，其中任一所述显示器件用以发射一种颜色的光，所述若干显示器件发射至少包括三种不同颜色的光；于每个所述显示器件之上均形成覆盖层，且所述覆盖层的厚度与该显示器件发射的光的波长相匹配。上述的OLED结构的制备方法，其中，设置所述覆盖层中间高，两边低。上述的OLED结构的制备方法，其中，设置所述覆盖层为半球形。上述的OLED结构的制备方法，其中，所述覆盖层的制作工艺为：采用高精密金属掩模板，对所述显示器件上表面进行蒸镀，形成相背于所述显示器上表面凸起的所述覆盖层。上述的OLED结构的制备方法，其中，所述若干显示器件的设置步骤至少包括：设置第一显示器件、设置第二显示器件和设置第三显示器件，且所述第一显示器件、所述第二显示器件和所述第三显示器件分别用以发射不同颜色的光；于每个所述显示器件之上均形成覆盖层的步骤具体为：于所述第一显示器件之上设置第一覆盖层，于所述第二显示器件之上设置第二覆盖层，于所述第三显示器件之上设置第三覆盖层，其中，所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的最大厚度均不相同。上述的OLED结构的制备方法，其中，所述第一显示器件发射的光的波长大于所述第二显示器件发射的光的波长，所述第二显示器件发射的光的波长大于所述第三显示器件发射的光的波长，且所述第一覆盖层的最大厚度大于所述第二覆盖层的最大厚度，所述第二覆盖层的最大厚度大于所述第三覆盖层的最大厚度。上述的OLED结构的制备方法，其中，制备所述第一显示器件发射红光，制备所述第二显示器件发射绿光，制备所述第三显示器件发射蓝光。上述的OLED结构的制备方法，其中，所述第一覆盖层最大厚度范围为85nm～95nm，所述第二覆盖层的最大厚度范围为70nm～80nm，所述第三覆盖层的最大厚度范围为55nm～65nm。上述的OLED结构的制备方法，其中，制备所述第一显示器件包括第一下电极，红色发光层和第一上电极；制备所述第二显示器件包括第二下电极，绿色发光层和第二上电极；制备所述第三显示器件包括第三下电极，蓝色发光层和第三上电极。上述的OLED结构的制备方法，其中，所述第一上电极、第二上电极和第三上电极为共享电极。上述的OLED结构的制备方法，其中，采用透明材料制备所述覆盖层。上述专利技术具有如下优点或者有益效果：本专利技术公开了一种OLED结构及其制备方法，通过FMM(FineMetalMask，高精密金属掩模板)于每个显示器件(发射红光的第一显示器件、发射绿光的第二显示器件和发射蓝光的第三显示器件)之上均形成覆盖层，且覆盖层的厚度与该显示器件发射的光的波长相匹配。透过不同厚度的覆盖层可调整三色的视角色偏情形，达到更高的色彩正确性，且通过FMM可以将该覆盖层蒸镀成透明半球状，形成出光增强结构，从而有效的提高了OLED结构的出光效率。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术及其特征、外形和优点将会变得更加明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未可以按照比例绘制附图，重点在于示出本专利技术的主旨。图1是本专利技术实施例中OLED结构的示意图；图2是本专利技术实施例中OLED结构的制备方法的流程图；图3是本专利技术实施例中FMM开口设计的示意图；图4是图3中A处的局部放大图。具体实施方式下面结合附图和具体的实施例对本专利技术作进一步的说明，但是不作为本专利技术的限定。目前，根据R/G/B三色的波长不同，需要选择不同的覆盖层厚度，但现在为了量产方便起见，透过模拟，选择了R/G/B组件膜厚所需要的最小公倍数，使用CMM蒸镀覆盖层；但实际上，R/G/B三原色的视角色偏变异程度均不相同，且覆盖层制程膜厚的变异亦会使混合白光的视角色偏变得更为严重，基于上述问题，本专利技术提供了一种OLED结构的实施例和一种OLED结构的制备方法的实施例以解决目前OLED视角色偏情形较为严重，且出光效率不高的问题实施例一：本专利技术公开了一种OLED结构，包括：设置有显示区和非显示区的基板和位于基板的显示区之上的若干显示器件，且任一显示器件用以发射单一颜色的光，若干显示器件发射至少包括三种不同颜色的光；其中，每个显示器件之上均设置有覆盖层，且覆盖层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED结构，其特征在于，包括：基板，设置有显示区和非显示区；若干显示器件，位于所述基板的显示区，且任一所述显示器件用以发射单一颜色的光，所述若干显示器件发射至少包括三种不同颜色的光；其中，每个所述显示器件之上均设置有覆盖层，且所述覆盖层的厚度与该显示器件发射的光的波长相匹配。

【技术特征摘要】
1.一种OLED结构，其特征在于，包括：基板，设置有显示区和非显示区；若干显示器件，位于所述基板的显示区，且任一所述显示器件用以发射单一颜色的光，所述若干显示器件发射至少包括三种不同颜色的光；其中，每个所述显示器件之上均设置有覆盖层，且所述覆盖层的厚度与该显示器件发射的光的波长相匹配。2.如权利要求1所述的OLED结构，其特征在于，所述覆盖层中间高，两边低。3.如权利要求2所述的OLED结构，其特征在于，所述覆盖层的形状为半球形。4.如权利要求1所述的OLED结构，其特征在于，所述若干显示器件至少包括分别用以发射不同颜色的光的第一显示器件、第二显示器件和第三显示器件，所述第一显示器件之上设置有第一覆盖层，所述第二显示器件之上设置有第二覆盖层，所述第三显示器件之上设置有第三覆盖层；其中，所述第一覆盖层、所述第二覆盖层和所述第三覆盖层的最大厚度均不相同。5.如权利要求4所述的OLED结构，其特征在于，所述第一显示器件发射的光的波长大于所述第二显示器件发射的光的波长，所述第二显示器件发射的光的波长大于所述第三显示器件发射的光的波长；其中，所述第一覆盖层的最大厚度大于所述第二覆盖层的最大厚度，所述第二覆盖层的最大厚度大于所述第三覆盖层的最大厚度。6.如权利要求5所述的OLED结构，其特征在于，所述第一显示器件发射红光，所述第二显示器件发射绿光，所述第三显示器件发射蓝光。7.如权利要求6所述的OLED结构，其特征在于,所述第一覆盖层的最大厚度范围为85nm～95nm，所述第二覆盖层的厚度范围为70nm～80nm，所述第三覆盖层的最大厚度范围为55nm～65nm。8.如权利要求6所述的OLED结构，其特征在于，所述第一显示器件包括第一下电极，红色发光层和第一上电极；所述第二显示器件包括第二下电极，绿色发光层和第二上电极；所述第三显示器件包括第三下电极，蓝色发光层和第三上电极。9.如权利要求8所述的OLED结构，其特征在于，所述第一上电极、第二上电极和第三上电极为共享电极。10.如权利要求1所述的OLED结构，其特征在于，所述覆盖层为透明材料。11.一种OLED结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一基板，于所述基板上方设置显示区和非显示区；于所述基板的显示区设置若干显示器件，其中任一所述显示器件用以发射一种颜色的光，所述若干显示器件发射至少包括三种不同颜色的光；于每个所述显示器件之上均...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴明轩，沈仕旻，林盈妃，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31