【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及构成用于控制带电粒子束的电子光学系统的带电粒子束形成带孔部件(aperture)和使用带电粒子束形成带孔部件的带电粒子束曝光装置。
技术介绍
电子束曝光技术是能够实现0. 1 μ m或更小的微细图案曝光的光刻法的强有力的候选。为了提高电子束曝光的产率(throughput)在不使用掩模的情况下同时通过多个电子束在要被曝光的物体上呈现图案的所谓的多束系统是已知的。 在多束系统中,从高输出电子源或高输出电子源组照射的电子束被引入一维阵列状或ニ维阵列状布置开ロ的电子光学系统中,使得获得多个电子束。使用开ロ被布置成阵列的带孔部件来形成这些束。在电子束曝光装置中,电子源和电子光学系统被设置在真空室中,并且,所述室的内部保持在真空状态下。特别地,由热导致的发射部分的蒸发和离子化氛围气体的离子轰击使得电子源(带电粒子源)的寿命缩短,从而在电子源周围需要高的真空度。为了提高电子源周围的真空度,与用于整个室的排气装置分开地在电子源附近安装排气装置的技术是已知的。例如,吸气剂泵作为排气装置被设置在装置的内壁上以排除(exhaust)气体的技术是已知的。吸气剂大致可被分 ...
【技术保护点】
一种形成带电粒子束的带孔部件,所述带孔部件包含:不可蒸发吸气剂,其中,所述不可蒸发吸气剂被设置在所述带孔部件的受带电粒子束照射的位置中。
【技术特征摘要】
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