【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于在连续式设备中进行液体液位调节的方法以及ー种装置。更确切地，本专利技术涉及一种在对平坦物体进行单侧的以液体为基础的处理期间允许精确地维持期望的液位的方法以及ー种适合于此的装置。
技术介绍
从现有技术中已知用于对平坦物体进行湿法化学处理的连续式设备。待处理的平坦物体例如为硅衬底或者简称为衬底，如其应用于半导体制造和太阳能电池制造。在此，通常在水平延伸的运输平面中进行待处理物体的运输，并且物体自身也是水平定向的。主要将滚筒用作运输机构，但是使用例如为带或皮带的连续输送器、或者如単独的支撑梁、承载架或夹具的单个输送器。也能够使用以液体为基础的输送系统(流体垫)。对于特定的エ艺步骤而言，期望对衬底仅进行单侧处理。为此，从现有技术中已知 不同的方法。根据第一基本类型，通过“主动地”保护不需要处理的ー侧来实现仅单侧地进行处理。根据所述基本类型的第一变型形式，不需要处理的ー侧由保护层来保护，所述保护层在所述エ艺步骤之前施加并且在所述エ艺步骤之后通常必须被移除。此处，针对保护覆层的附加的耗费是不利的。根据所述基本类型的另ー变型形式，不需要处理的一侧例如在真...
【技术保护点】
用于调节在位于处理池中的处理液体的表面和要借助于所述处理液体单侧处理的平坦物体的下侧之间的相对垂直距离的方法，所述平坦物体与运输机构接触地且水平地沿着所述处理液体的所述表面运输，其中（a）借助于调节设备将与当前垂直距离有关的液位实际值和与期望的垂直距离有关的液位理想值进行比较，并且在所述液位实际值和液位理想值不同的情况下（b）所述调节设备生成理想调整值以用于达到所述液位理想值，所述调节设备将所述理想调整值（c）传送给用于控制所述相对垂直距离的设备，其特征在于，根据位于所述处理池中的所述平坦物体的与所述处理池中的液体同时接触的总表面积来求得所述液位实际值。
【技术特征摘要】
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