光学组件及其制造方法、光伏器件技术

本发明专利技术提供一种光学组件及其制造方法、光伏器件。光学组件包括：基底、抗反射膜以及位于基底和抗反射膜之间、与基底和抗反射膜相接触的预备层，其中，预备层与基底两者相接触的面分别带有不同电性的电荷；预备层与抗反射膜两者相接触的面分别带有不同电性的电荷。相应地，本发明专利技术还提供一种包括光学组件的光伏器件。相应地，本发明专利技术还提供一种光学组件的制造方法，包括：提供基底；在基底表面上形成预备层，使预备层与基底相接触的一面带有与基底表面不同电性的电荷；在预备层表面上形成抗反射膜，使抗反射膜与预备层相接触的一面带有与预备层表面不同电性的电荷。本发明专利技术能提高光学组件的机械强度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学材料领域，尤其涉及一种光学组件及其制造方法、光伏器件。
技术介绍
光在传播时，在不同介质的分界面上通常会有一部分改变传播方向而返回原来介质中。这被称为光的反射。通常，不同介质之间折射率的差异越大，光在该分界面处的反射将越强。在光伏器件、显示器等产品中，如何减小光的反射一直是研究的热点。本领域技术人员研究发现，对于光从空气投射至基底的情形，可以在基底上形成一层抗反射膜，在所述抗反射膜的折射率为空气折射率与基底折射率乘积的平方根时(即满足折射率匹配的条件)，且所述抗反射膜厚度为波长厚度的四分之一时(即满足厚度匹配的条件)，所述抗反射膜对该波长光能起到良好的减少反射作用。·在公开号为CN102169195A的中国专利申请中公开了一抗反射膜的制造方法，所述制造方法包括在光学或光电器件上形成至少一层纳米阵列结构的抗反射薄膜。所述中国专利申请公开的抗反射膜可以提高光学或光电器件的光利用率。但是，所述中国专利申请公开的抗反射膜具有较差的机械强度。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是提供一种光学组件及其制造方法、包含所述光学组件的光伏器件，提高光学组件中抗反射膜的机械强度。为了解决上述问题，本专利技术提供一种光学组件，包括基底、抗反射膜以及位于所述基底和所述抗反射膜之间、与所述基底和所述抗反射膜相接触的预备层，其中，所述预备层与所述基底两者相接触的面分别带有不同电性的电荷；所述预备层与所述抗反射膜两者相接触的面分别带有不同电性的电荷。可选地，所述基底的材料为玻璃或塑料。可选地，所述预备层为单层带电层。可选地，所述预备层包括多层带电层。可选地，所述带电层的材料为电解质。可选地，所述带电层包括带有不同电性电荷的第一带电层和第二带电层，所述预备层由第一带电层、第二带电层交替堆叠构成。可选地，所述基底为表面带负电荷的玻璃，所述第一带电层由带正电荷的聚丙烯氯化铵构成，所述第二带电层由带负电荷的聚苯乙烯磺酸钠构成，所述第一带电层与所述基底相接触。可选地，所述预备层中带电层的数量位于3飞层的范围内。可选地，所述抗反射膜包括至少两层抗反射层。可选地，所述抗反射层由带电的透光材料微球构成，所述抗反射层之间还设置有与所述透光材料微球电性不同的粘合层。可选地,所述粘合层由电解质或带电颗粒构成。可选地，所述透光材料微球为带负电荷的二氧化硅微球，所述粘合层由电解质构成，所述电解质为带正电荷的聚丙烯氯化铵。可选地，所述透光材料微球为带负电荷的二氧化硅微球，所述粘合层由带电颗粒构成，所述带电颗粒为带正电荷的二氧化钛颗粒。可选地，所述二氧化硅微球的粒径位于5 IOnm的范围内。相应地，本专利技术还提供一种光伏器件，包括所述的光学组件，所述光学组件中的基底为透明基底；太阳能电池，位于所述透明基底未设置抗反射膜的一侧。 可选地，所述透明基底的材料为有机玻璃或塑料。相应地，本专利技术还提供一种光学组件的制造方法，包括提供基底；在基底表面上形成预备层，使所述预备层与基底相接触的一面带有与所述基底表面不同电性的电荷；在预备层表面上形成抗反射膜，使所述抗反射膜与所述预备层相接触的一面带有与所述预备层表面不同电性的电荷。可选地，所述基底的材料为玻璃或塑料。可选地，形成预备层的步骤包括在基底上交替堆叠第一带电层、第二带电层，所述第一带电层和第二带电层所带电荷的电性不同。可选地，所述第一带电层和第二带电层的材料为电解质。可选地，所述基底的材料为带负电的玻璃，所述第一带电层由带正电荷的聚丙烯氯化铵构成，所述第二带电层由带负电荷的聚苯乙烯磺酸钠构成，形成预备层的步骤包括提供浓度为O. 05、. 15摩尔/升，PH值为3飞的聚丙烯氯化铵；提供浓度为O. 05、. 15摩尔/升，PH值为3飞的聚苯乙烯磺酸钠；通过浸溃涂膜工艺在玻璃上交替涂覆所述聚丙烯氯化铵、聚苯乙烯磺酸钠。可选地，通过旋涂、喷涂、浸溃或提拉的涂膜工艺在基底形成所述预备层。可选地，形成抗反射膜的步骤包括在预备层上交替堆叠带有不同电性的透光材料微球、粘合层。可选地,所述粘合层由电解质或带电颗粒构成。可选地，所述透光材料微球为带负电荷的二氧化硅微球，所述粘合层由带正电荷的聚丙烯氯化铵构成。可选地，所述透光材料微球为带负电荷的二氧化硅微球，所述粘合层由带正电荷的二氧化钛带电颗粒构成。可选地，通过旋涂、喷涂、浸溃或提拉的涂膜工艺在预备层形成抗反射膜。与现有技术相比，本专利技术具有以下优点预备层与基底的相接触的面分别带有不同电性的电荷；所述预备层与抗反射膜的相接触的面分别带有不同电性的电荷；基于异性电荷相吸的原理，所述预备层与基底、所述预备层与抗反射膜之间均有较大的吸力，从而提高了所述基底和抗反射膜之间的结合力，进而提高了光学组件的机械强度。附图说明图I是本专利技术光学组件一实施例的示意图；图2是图I所示预备层一实施例的示意图；图3是本专利技术光学组件制造方法一实施方式的流程示意图；图4至图6是本专利技术光学组件制造方法一实施例的示意图。具体实施例方式在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。其次，本专利技术利用示意图进行详细描述，在详述本专利技术实施例时，为便于说明，所 述示意图只是示例，其在此不应限制本专利技术保护的范围。为了解决现有技术的问题，专利技术人对多层纳米阵列结构形成的抗反射膜进行了分析，发现层与层之间的纳米阵列结构结合力较差，容易脱离，因此具有较差的机械强度。同时，专利技术人还发现所述多层纳米阵列结构由于结合力较差难以获得厚度较大的抗反射膜，这容易造成抗反射膜不能满足厚度匹配条件，而影响抗反射膜的减反效果。相应地，本专利技术提供一种光学组件，结合参考图I和图2，分别示出了本专利技术光学组件一实施例的侧面示意图及局部放大图。需要说明的是，为了使附图更加清楚、简洁，附图中只示意了光学组件的一部分，以示意光学组件中薄膜的位置关系，图中薄膜的数量不应作为对本专利技术的限制。光学组件包括基底100、位于基底100上且与所述基底100相接触的预备层103、位于所述预备层103上且与所述预备层103相接触的抗反射膜105，其中，基底100，用于提供光入射的介质。在不同的光学产品中，所述基底100可以为不同的材料。例如，在光伏器件中，所述基底100材料为玻璃；在液晶显示器的背光源中，所述基底100的材料还可以是塑料。本专利技术对基底100的材料不做限制。此处基底100的材料以表面带负电荷的玻璃为例进行说明。预备层103，位于基底100和抗反射膜105之间，所述预备层103与所述基底100两者相接触面分别带有电性不同的电荷；所述预备层103与所述抗反射膜105两者相接触面分别带有电性不同的电荷，基于异性电荷相吸的原理提高基底100和抗反射膜105之间的结合力。此处由于所述预备层103在形成抗反射膜105之前形成，因此称其为“预备”层。所述预备层103可以是单层带电层，例如，所述基底100表面带负电荷，所述抗反射膜105与预备层103相接触的面带负电荷。相应地，所述预备层103为一单层的携带正电荷的薄膜，可以吸引所述基底100和所述抗反射膜105。本实施例中，如图2所示，所述预备层103包括多层带电层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学组件，其特征在于，包括：基底、抗反射膜以及位于所述基底和所述抗反射膜之间、与所述基底和所述抗反射膜相接触的预备层，其中，所述预备层与所述基底两者相接触的面分别带有不同电性的电荷；所述预备层与所述抗反射膜两者相接触的面分别带有不同电性的电荷。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王正佳，谷鋆鑫，陈捷，林卫标，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃公司，
类型：发明
国别省市：