光学组件及其制造方法、光伏器件技术

本发明专利技术提供一种光学组件及其制造方法、光伏器件。光学组件包括：基底、抗反射膜以及位于基底和抗反射膜之间、与基底和抗反射膜相接触的预备层，其中，预备层与基底两者相接触的面分别带有不同电性的电荷；预备层与抗反射膜两者相接触的面分别带有不同电性的电荷。相应地，本发明专利技术还提供一种包括光学组件的光伏器件。相应地，本发明专利技术还提供一种光学组件的制造方法，包括：提供基底；在基底表面上形成预备层，使预备层与基底相接触的一面带有与基底表面不同电性的电荷；在预备层表面上形成抗反射膜，使抗反射膜与预备层相接触的一面带有与预备层表面不同电性的电荷。本发明专利技术能提高光学组件的机械强度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学材料领域，尤其涉及一种光学组件及其制造方法、光伏器件。
技术介绍
光在传播时，在不同介质的分界面上通常会有一部分改变传播方向而返回原来介质中。这被称为光的反射。通常，不同介质之间折射率的差异越大，光在该分界面处的反射将越强。在光伏器件、显示器等产品中，如何减小光的反射一直是研究的热点。本领域技术人员研究发现，对于光从空气投射至基底的情形，可以在基底上形成一层抗反射膜，在所述抗反射膜的折射率为空气折射率与基底折射率乘积的平方根时(即满足折射率匹配的条件)，且所述抗反射膜厚度为波长厚度的四分之一时(即满足厚度匹配的条件)，所述抗反射膜对该波长光能起到良好的减少反射作用。·在公开号为CN102169195A的中国专利申请中公开了一抗反射膜的制造方法，所述制造方法包括在光学或光电器件上形成至少一层纳米阵列结构的抗反射薄膜。所述中国专利申请公开的抗反射膜可以提高光学或光电器件的光利用率。但是，所述中国专利申请公开的抗反射膜具有较差的机械强度。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是提供一种光学组件及其制造方法、包含所述光学组件的光伏器件，提高光学组件中抗反射膜的机械强度。为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学组件，其特征在于，包括：基底、抗反射膜以及位于所述基底和所述抗反射膜之间、与所述基底和所述抗反射膜相接触的预备层，其中，所述预备层与所述基底两者相接触的面分别带有不同电性的电荷；所述预备层与所述抗反射膜两者相接触的面分别带有不同电性的电荷。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王正佳，谷鋆鑫，陈捷，林卫标，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃公司，
类型：发明
国别省市：