青瓷釉及其制备方法技术

技术编号:8383286 阅读:175 留言:0更新日期:2013-03-07 00:12
本发明专利技术青瓷釉及其制备方法,属于陶瓷技术领域。本发明专利技术原料的重量百分比组成为:石英27~38%、苏州土7~15%、钾长石18~27%、钠长石6~14%、钟乳石12~20%、滑石1~2%、氧化铜0.4~0.5%和氧化铁0.15~0.25%。本发明专利技术采用氧化气氛烧成,制备步骤为:第一、配料,采用一次入磨,湿法球磨工艺,球磨至釉浆粒度小于10μm的颗粒占65~75%;第二、施釉,釉层厚度在1~2mm之间;第三、采用氧化气氛烧成。本发明专利技术操作简单、节约能源和减少有害气体的排放;且生产的青瓷,釉色稳定,成品率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷
,涉及一种。
技术介绍
中国传统青瓷的制作,主要是通过还原气氛阶段的控制来实现,烧成过程中,釉层中的三价铁根据还原气氛的强弱被 部分还原成二价铁,因二价和三价铁离子含量的不同而呈现出类似于粉青、影青、梅子青和冬青等不同程度的色调。整个烧成过程中,还原阶段的气氛较难控制,易导致产品釉色出现不同程度的偏差、熏烟和积碳等问题,成品率较低。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种,解决了青瓷釉在氛烧成过程中,因气氛控制不当而造成的烟熏和釉色不均的问题。本专利技术操作简单,污染小,节约能源,生产的青瓷釉色稳定,无熏烟和积碳,成品率高。本专利技术青瓷釉,基础配料的重量百分比组成如下石英27 38%、苏州土 7 15%、钾长石18 27%、钠长石6 14%、钟乳石12 20%、滑石I 2%、氧化铜0. 4 0. 5%和氧化铁0. 15 0. 25%。其中青瓷釉中氧化铜和氧化铁为着色剂,用来调整釉色。利用氧化铜在氧化气氛下呈现青绿色的特点,以氧化铜显色为主,氧化铁等显色为辅的着色方式,呈现出传统青釉葱翠欲滴的釉色。着色剂严格控制其用量,以免造成釉色偏黄或偏蓝。在基础配料中还可加入乳浊剂,乳浊剂为锆、锡的氧化物或矿物,优选氧化锆和/或氧化锡,用来增强青瓷釉层的玉质感。氧化锆占基础配料的重量百分比为0. 5^1. 1% ;氧化锡占基础配料的重量百分比为 0. 4 I. 0%。本专利技术青瓷釉的制备方法,采用氧化气氛烧成,步骤如下第一、配料,采用一次入磨,湿法球磨工艺,球磨至釉衆粒度小于IOlim的颗粒占65 75% ;第二、施釉,至釉层厚度在I 2mm之间;第三、采用氧化气氛烧成。其中在配料时,还加入乳浊剂。湿法球磨工艺,料球:水=1:1. 8:0. 6烧成升温分为三个阶段,第一阶段为室温 600°C,升温速度为3. 5°C /min ;第二阶段60(Tl000°C,升温速度为4. 50C /min ;第三阶段为1000°C 最高烧成温度,升温速度为3. 5°C /min。最高烧成温度为123(Tl270°C,最高烧成保温时间5 lOmin。本专利技术与现有技术相比,具有以下有益效果本专利技术生产的青瓷釉色稳定,无熏烟和积碳的缺陷,釉层的玉质感增强,成品率高。本专利技术操作简单,改变了传统青瓷还原气氛烧成的现状,采用氧化焰烧成,使燃料充分燃烧,节约能源,同时也减少了一氧化碳等有害气体的排放;显色原理方面,采用以氧化铜显色为主、氧化铁等显色为辅的着色方式。具体实施例方式下面结合实施例对本专利技术做进一步说明。下列实施例中所用原料成分的重量百分比组成如表一。表一、原料成分的重量百分比组成权利要求1.一种青瓷釉,其特征在于,基础配料的重量百分比组成如下 石英27 38%、苏州土 7 15%、钾长石18 27%、钠长石6 14%、钟乳石12 20%、滑石I 2%、氧化铜0. 4 0. 5%和氧化铁0. 15 0. 25%。2.根据权利要求I所述的青瓷釉,其特征在于,基础配料中加入乳浊剂,乳浊剂为氧化错和/或氧化锡。3.根据权利要求2所述的青瓷釉,其特征在于,氧化锆占基础配料的重量百分比为0.5^1.1%;氧化锡占基础配料的重量百分比为0. ri. 0%。4.一种权利要求I所述的青瓷釉的制备方法,其特征在于,采用氧化气氛烧成,制备步骤如下 第一、配料,采用一次入磨,湿法球磨工艺,球磨至釉衆粒度小于10 ii m的颗粒占65 75% ; 第二、施釉,釉层厚度在f 2mm之间; 第三、采用氧化气氛烧成。5.根据权利要求4所述的青瓷釉的制备方法,其特征在于,配料时,还加入乳浊剂。6.根据权利要求4所述的青瓷釉的制备方法,其特征在于,湿法球磨工艺中,料球水=1:1. 8:0. 6。7.根据权利要求4所述的青瓷釉的制备方法,其特征在于,烧成升温分为三个阶段,第一阶段为室温 600°C,升温速度为3. 50C /min ;第二阶段60(Tl000°C,升温速度为4. 5°C /min ;第三阶段为1000°C 最高烧成温度,升温速度为3. 5°C /min。8.根据权利要求4所述的青瓷釉的制备方法,其特征在于,最高烧成温度为123(Tl270°C,最高温度烧成保温时间为5 lOmin。全文摘要本专利技术,属于陶瓷
本专利技术原料的重量百分比组成为石英27~38%、苏州土7~15%、钾长石18~27%、钠长石6~14%、钟乳石12~20%、滑石1~2%、氧化铜0.4~0.5%和氧化铁0.15~0.25%。本专利技术采用氧化气氛烧成,制备步骤为第一、配料,采用一次入磨,湿法球磨工艺,球磨至釉浆粒度小于10μm的颗粒占65~75%;第二、施釉,釉层厚度在1~2mm之间;第三、采用氧化气氛烧成。本专利技术操作简单、节约能源和减少有害气体的排放;且生产的青瓷,釉色稳定,成品率高。文档编号C04B41/86GK102951930SQ201210473938公开日2013年3月6日 申请日期2012年11月20日 优先权日2012年11月20日专利技术者任允鹏, 岳剑, 桑爱美, 齐志红, 陈化东 申请人:山东硅元新型材料有限责任公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种青瓷釉,其特征在于,基础配料的重量百分比组成如下:石英27~38%、苏州土7~15%、钾长石18~27%、钠长石6~14%、钟乳石12~20%、滑石1~2%、氧化铜0.4~0.5%和氧化铁0.15~0.25%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:任允鹏岳剑桑爱美齐志红陈化东
申请(专利权)人:山东硅元新型材料有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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