用于减少球形氧化物颗粒排列中的缺陷的方法技术

技术编号:8368613 阅读:201 留言:0更新日期:2013-02-28 13:23
本发明专利技术涉及一种处理球形氧化物颗粒的方法,所述方法包括使球形氧化物颗粒经历室温以上的热处理。将通过溶胶-凝胶方法合成的球形氧化物颗粒尤其是二氧化硅颗粒进行热处理,以使在颗粒排列过程中出现的缺陷最少化,由此最终提高二氧化硅颗粒的体积稳定性。因为根据本发明专利技术制造的具有较少结构缺陷的二氧化硅层具有高的物理稳定性,并提供大面积的高结晶度,所以其可以用在需要光学性能优异的光子晶体的领域中,例如用在光折射层、波导件等中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请要求于2010年4月30日提交的第10-2010-40420号韩国专利申请的优先权,上述申请的主题通过引用被全部包含于此。本专利技术涉及用于减少在球形氧化物颗粒排列过程中的缺陷的方法、通过这样的方法处理的球形氧化物颗粒和包括所述球形氧化物颗粒的光子晶体。更具体地讲,本专利技术涉及一种提高单分散的二氧化硅颗粒的体积稳定性的方法,由此减少在颗粒排列过程中的裂纹(缺陷)的产生。
技术介绍
单分散的球形氧化物颗粒在功能性陶瓷材料的制备中作为原料起着重要作用。具体地讲,通常使用的单分散二氧化硅颗粒由于其根据沿特定方向排列的颗粒的取向展现出不同的光学性质、结晶性质和光谱性质的特性,而被广泛地用作光子晶体和涂布剂、(非) 导电薄膜等的原料。因此,沿一维、二维和三维方式大面积控制这样的单分散二氧化硅颗粒而不产生任何缺陷的技术在利用单分散二氧化硅光子晶体用于各种装置的用途中非常重要。有各种方法来制备单分散的球形二氧化硅颗粒,其中之一是称作Stoeber合成的普通方法。利用此方法,可以制备具有在IOnm至2,OOOnm的范围内的各种颗粒尺寸的单分散二氧化硅颗粒。单分散二氧化硅颗粒通常使用溶胶-凝本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.30 KR 10-2010-00404201.一种用于处理球形氧化物颗粒的方法,所述方法包括 使球形氧化物颗粒经历室温以上的热处理,其中,球形氧化物颗粒满足下述特征中的至少一个 (1)在至少550°c的热处理之后,重量减少12重量%或更少; (2)在至少550°C的热处理之后,比表面积增大9%或更小; (3)在至少550°C的热处理之后,基于平均直径的变化,尺寸减小2%或更小; (4)当使用FT-IR光谱在粉末状态下进行测量时,与在llOOcnT1下的透射率相比,在960CHT1下的透射率增大9%或更小、具体地8%或更小、最具体地7%或更小;以及 (5)在至少550°C的热处理之...

【专利技术属性】
技术研发人员:朴钟九赵素惠崔碧波朴洙永
申请(专利权)人:韩国科学技术研究院
类型:
国别省市:

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