一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法技术

一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法：其步骤：预刻刻槽：对经退火后的冷轧取向硅钢板的单面采用激光束预刻成线状或点线状刻槽，其预刻刻槽的深度为目标刻槽深度的30～50%，预刻刻槽的宽度为目标刻槽宽度的60～80%；相邻两刻槽的间隙为3～6mm；精刻刻槽：并使其深度d及宽度w达到目标值。本发明专利技术通过激光往复式扫描在取向硅钢片的单面形成一系列平行布置的线状或点线状刻槽，实现了刻槽形貌稳定的控制，尤其是刻槽深度和刻槽宽度的精确控制，使铁损根据板厚现有的水平下降至少8%，且不破坏板型又可明显降低铁损。其铁损降低效果经800℃、2小时消除应力退火后未消失，叠片系数也未降低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及取向硅钢生产方法，具体地指一种多次激光刻槽降低取向硅钢铁损的方法。
技术介绍
取向硅钢片主要用作变压器的铁芯材料。降低取向硅钢片的铁损可以减少变压器工作过程中的能量损耗，这对于节能减排是非常重要的。取向硅钢片的铁损由磁滞损耗和涡流损耗构成，涡流损耗又分为经典涡流损耗和异常涡流损耗。异常涡流损耗是以磁畴壁的移动为基础的涡流损失，与磁畴壁的移动速率成正比，在相同频率下，磁畴壁的移动速率与移动距离成正比，所以磁畴宽度越大，涡流损失也越大。在工频状态下，异常涡流损耗约占铁损的一半左右，随着取向硅钢片的不断进步，其所占的比例还在不断增大。·为了降低异常涡流损耗，科研人员一般采用减小取向硅钢片主畴宽度的方法。如日本专利特开昭58-26405，提出了一种通过激光照射减小主畴宽度、降低铁损的方法，其通过激光照射的热冲击作用在照射区域产生应力从而细化磁畴。这种方法的缺陷是激光照射产生的应力经过去应力退火后会消失，从而失去磁畴细化的效果，因此这种方法不适合用作卷绕铁芯的取向硅钢片。另有一些可以经受去应力退火的磁畴细化技术已经被提出，这些技术是在取向硅钢片表面垂直于轧制的方向引入与基体磁导本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法：刻槽的参数：刻槽的目标深度用d表示，刻槽的目标宽度用w表示，控制刻槽的目标深度d在5～30μm；控制25μm≤w?d≤40μm；?每相邻两刻槽之间的间隙为3～6mm；刻槽的形状为线状或点线状，刻槽与刻槽之间为平行的?；刻槽与钢板轧制方向成80o～90?o刻槽；其刻槽步骤：1）进行预刻刻槽：对经退火后的冷轧取向硅钢板的单面采用激光束预刻成线状或点线状刻槽，其预刻刻槽的深度为目标刻槽深度的30～50%，预刻刻槽的宽度为目标刻槽宽度的60～80%；相邻两刻槽之间的间隙为3～6mm；2）进行精刻刻槽：采用激光束对经预刻后线状或点线状刻槽进行再次刻制，使其深度d及...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱业超，王向欣，王若平，郭小龙，田文洲，孙山，陈卫星，张福斌，林勇，
申请(专利权)人：武汉钢铁集团公司，
类型：发明
国别省市：