银粉及其制造方法技术

技术编号:830850 阅读:217 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
在含银离子的水反应体系中加入还原剂,还原沉积出银颗粒后,干燥银颗粒获得银粉,该银粉在高于100℃但低于400℃温度进行热处理。热处理后的银粉在50-800℃的最大热膨胀系数不大于1.5%,且银粉由50℃加热至800℃时没有加热峰。所述银粉被灼烧直到在800℃银粉重量恒定时的银粉灼烧损失不大于1.0%。银粉的堆密度不小于2g/cm↑[3],BET比表面积不大于5m↑[2]/g。

【技术实现步骤摘要】

概括地说,本专利技术涉及。更具体地说,本专利技术涉及用于电子部件,如多层电容器的内部电极、电路板印刷电路的银粉,及其制造方法。
技术介绍
为形成混合集成电路的电极、多层电容器、芯片电阻等,一直使用金属陶瓷型导电糊剂(或待焙烧型的导电糊剂)。常规的金属陶瓷型糊剂包含银粉、含溶解在有机溶剂中的乙基纤维素或丙烯酸类树脂的载体、玻璃料、无机氧化物、有机溶剂、分散剂等组分。金属陶瓷型糊剂通过浸涂或印刷形成预定的图案,然后焙烧形成导体。作为制备这种导电糊剂用银粉的方法,已知的是湿还原法,它是在水反应体系中加入还原剂,该体系含有银离子,通过还原沉淀出银颗粒(例如,可参见日本专利公开公报8-176620)。但是,某些情况下,用常规湿还原法制备的银粉含有还原时反应母液夹带的杂质。因此,如果使用含有这种银粉的糊剂来形成导体,某些情况下,由于气体组分等在焙烧时蒸发而使导体拱起和/或发生破裂。
技术实现思路
因此,本专利技术的一个目的是解决前述这些问题,并提供一种用来形成糊剂的银粉,该糊剂能焙烧形成没有拱起和破裂的导体,还提供了该种银粉的制备方法。为了达到前述目的及其它目的,本专利技术者进行了深入研究,发现本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造银粉的方法,所述方法包括以下步骤:制备含银离子的水反应体系;在所述含银离子的水反应体系中加入还原剂,以还原沉积出银颗粒;干燥所述银颗粒,以产生银粉;并在高于100℃但低于400℃的温度下,对所述银粉进行热处理。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:藤野剛聡尾木孝造
申请(专利权)人:同和控股集团有限公司
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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