一种寄生效应低品质因子高的改进型开关电容结构制造技术

技术编号:8302192 阅读:206 留言:0更新日期:2013-02-07 07:04
本发明专利技术公开了一种寄生效应低、品质因子高的改进型开关电容结构。相对于由一个NMOS管和一个电容实现的传统开关电容结构,本开关电容结构主要进行了如下改进:将NMOS管的栅极电压通过一个反相器和一个电阻连接到NMOS管的漏极,降低了开关管开启时的等效寄生电阻,减小了开关管关闭时的等效寄生电容,优化了NMOS开关管的开关特性。改进后的开关电容结构具有寄生效应低,品质因子高以及有效容差大的特性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种寄生效应低、品质因子高的改进型开关电容结构,其特征在于:它包括一个NMOS开关管(N1)、一个反相器(INV)、一个电阻(R0)、一个电容(C),所述NMOS开关管(N1)栅极为开关控制信号D的输入端,漏极与电容(C)的一端连接,源极和衬底都接电源地(GND),所述反相器(INV)的输入为开关控制信号D的输入端,输出接电阻(R0)的一端,电阻(R0)的另一端接NMOS开关管的漏极,电容的另一端为开关电容的输出端OUT。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭斌
申请(专利权)人:长沙景嘉微电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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