【技术实现步骤摘要】
本技术涉及刻蚀
，尤其涉及一种刻蚀终点检测装置。
技术介绍
在IXD显示器的生产制造过程中，经常涉及到采用湿刻工艺对基板表面的导电层进行刻蚀，得到具有特殊导电功能的电极，例如栅极、源极等。在湿刻工艺中需要较好的把握刻蚀时间，因为刻蚀时间过短可能会造成导电层残留过多，而刻蚀时间过长则可能会造成过刻甚至电极被刻断，因此，刻蚀时间控制的精确与否会直接关系到能否形成原始设计所要求的电极，刻蚀时间成为需要监控的一个重要参数。实际生产中，通常预先确定出某类基板在刻蚀过程中所需的刻蚀时间，然后在大批量生产同一类基板的过程中，都按照该确定出的刻蚀时间进行刻蚀。亥Ij蚀时间为从刻蚀开始到刻蚀终点的一段时间，其中，刻蚀开始时间较好确定，而 刻蚀终点则需要根据具体的刻蚀情况确定，因此，确定刻蚀时间时，最主要是确定出刻蚀终点。目前，现有的刻蚀终点检测装置主要通过检测压力变化、质谱分析、发射光谱分析、激光干涉、反射测量等方法来检测刻蚀终点，这些装置多是通过测量刻蚀液的各种变化情况，或者产生的副产品的各种变化情况等来测量是否到达刻蚀终点，这些测试装置往往价格昂贵，对湿刻设备密封性等方...
【技术保护点】
一种刻蚀终点检测装置，用于在湿法刻蚀基板的过程中检测出刻蚀终点，所述湿法刻蚀过程中，所述基板表面未涂布刻蚀保护层部位的导电层被刻蚀掉，露出绝缘层，其特征在于，包括：机械臂、两个导电器件、电源、电流检测器、控制电路，其中，所述机械臂与所述两个导电器件分别固定连接，且分别与所述两个导电器件之间绝缘，在所述控制电路的控制下，可带动所述两个导电器件沿垂直于基板表面的方向上下移动；所述两个导电器件分离设置，各自的一端与电源电连接，在所述机械臂的带动下，各自的另一端能够与所述基板表面未涂布刻蚀保护层的部位接触，当接触时，在所述电源供电的作用下，所述两个导电器件通过所述基板表面未涂布刻蚀...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张家祥，姜晓辉，郭建，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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