【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种对位平台，特别涉及一种用于制程中对位的结构。
技术介绍
高科技时代，进入奈米级的处理模式，对许多精密的产品于制程中有更高的要求，才能以最平稳的方式得到最高的产出，特别是光电及晶圆产业，其产品于x、y、θ的二.五维度的精密定位成为必备组件；习知已有于X轴上设置一套横向调整装置，再在I轴上设置一套纵向调整装置，最后于平面上设置一套旋转角度调整装置，层迭之下，便形成有相当高度的机构，层层间有误差，很难达到奈米级的要求。于是进一步提出种种改良结构，从三层式简化为单层式，一种并联式多轴同动的机构，被发展出来，最主要以导螺杆的方式带动，但是层迭之下，传动机构是设于调整机构的侧面；此种结构解决了高度上的问题，却也有侧 面传动，产生影响到部份传动的精密性，为了提供更符合实际需求的物品，创作人乃进行研发，以解决习知使用上易产生的问题。
技术实现思路
针对现有技术存在的缺陷和不足，本技术的主要目的在于提供一种对位平台。为达成上述的目的，本技术采用以下技术方案一种对位平台包括一基座，至少两个对位组件，各对位组件固定于基座上，一载台，载台接于各对位组件之上；各对位组件具有一底...
【技术保护点】
一种对位平台，包括：一基座，至少两个对位组件，各对位组件固定于基座上，一载台，载台接于各对位组件之上；各对位组件具有一底框架，底框架一侧外固定一驱动件，使驱动件连接一驱动轴，驱动轴穿入底框架且枢接于底框架的两侧，驱动轴上枢接一底滑块，底滑块设有两翼，底滑块的两翼分别设置有一底导沟，让各底导沟分别贴靠于底框架另两侧顶端所设的一底导槽，底滑块顶面固定一顶导轨，顶导轨两侧分别设置一顶导槽，顶导轨上套接一顶滑块，顶滑块的两侧分别设置一顶导沟，让各顶导沟分别贴靠于顶导轨的顶导槽，顶滑块的顶面固接一固定环圈，固定环圈的外周侧有一外环沟，外环沟定位有至少两个滚珠，固定环圈外套有一活动环圈...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：董文山，
申请(专利权)人：骏泽科技股份有限公司，惠祥贸易股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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