【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及大口径平面光学元件面型干涉法测试领域，特别涉及。
技术介绍
现代光学元件的制造是一种动态的集成制造模式，面型测试作为一项重要的反馈和评估指标，对于确保光学元件的制造质量是必不可少的。随着大型光学元件加工质量要求的不断提升，其质量标准的内涵也不断丰富，全口径、全空间频率的质量控制成为制造过程的新目标，而全口径、全空间频率的面型误差的检测也就成了大口径光学元件的主要目标。子孔径拼接干涉测量是大口径光学元件测量的重要技术手段之一，也是世界各国广泛认同的技术方式。子孔径拼接干涉测量的原理是，利用小口径的干涉仪获取大口径光 学元件的小部分面型，并通过多孔径的拼接算法复原全口径面型。这样不但保证了干涉测量的高精度，而且免去了使用和全孔径尺寸相同的标准面，从而大大降低了成本，并同时可以测得大口径干涉仪所难以测得的中、高频信息。目前，采用全口径覆盖的方式测量大口径平面，即子孔径的覆盖面积大于或等于待测平面。因此，在光学平面尺寸较大时，需要测量的子孔径数量较多，测量需要较多的时间。这对于交替进行的加工和检验来说，在检验步骤上大大降低了效率。大口径高精度平面元件大多采...
【技术保护点】
一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法，其特征在于采用平面光学元件检测装置进行检测，所述检测装置包括二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，所述标准平面透镜固定于干涉仪出瞳端，所述二维平移台上放置有平面光学元件，所述干涉仪的出瞳正对平面光学元件，使平面光学元件平行于标准平面透镜，以便测量干涉图像，具体步骤如下：(1)将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；(2)调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；(3)在平面光学元件边缘找出距离几何中心点最...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：沈正祥，徐旭东，孙晓雁，王晓强，马彬，程鑫彬，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：
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