紫外线吸收膜形成用涂布液和紫外线吸收玻璃物品制造技术

本发明专利技术提供用于形成具有耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜的涂布液，以及具备使用该涂布液形成的具有耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜的紫外线吸收玻璃物品。含有由选自水解性硅化合物类中的至少1种构成的氧化硅系基体原料成分、紫外线吸收剂、第一质子的pKa为1.0～5.0的酸、和水的紫外线吸收膜形成用涂布液以及使用它得到的紫外线吸收玻璃物品。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于在玻璃等物品表面形成紫外线吸收膜的涂布液以及具有使用该涂布液而形成的紫外线吸收膜的紫外线吸收玻璃物品。
技术介绍
近年来，已尝试对透明基板形成紫外线吸收膜，上述透明基板包括汽车等车辆用的窗玻璃、安装于房屋、大楼等建筑物的建材用窗玻璃等，上述紫外线吸收膜具有吸收通过它们而射入车内、屋内的紫外线的能力，并且具有耐磨损性等机械耐久性。为了获得上述具有高耐磨损性和紫外线吸收能力的紫外线吸收被膜，从以往开 始，进行了使用将有机系紫外线吸收剂配合于硅烷化合物而得到的涂布液在基板上形成二氧化硅系紫外线吸收膜的尝试。例如，在专利文献I中记载了将含有硅醇盐和聚乙二醇等水溶性有机聚合物、还含有紫外线吸收剂、有机色素的涂布液涂布于玻璃板上，使其固化而得到由有机无机复合膜构成的紫外线吸收膜。但是，专利文献I记载的二氧化硅系紫外线吸收膜虽然具有耐摩擦性等机械耐久性，但在要求无色透明的情况下膜中出现黄色的方面、因长时间曝光而紫外线吸收能力劣化的方面存在问题。因此，需要确保耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜。现有技术文献专利文献专利文献I:国际公开第2006/137454号小册子
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而完成的，其目的在于提供用于形成具有耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜的涂布液，以及具备使用该涂布液而形成的具有耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜的紫外线吸收玻璃物品。本专利技术提供具有以下构成的紫外线吸收膜形成用涂布液以及紫外线吸收玻璃物品O 一种紫外线吸收膜形成用涂布液，含有氧化硅系基体原料成分、紫外线吸收齐U、第一质子的pKa为I. O 5. O的酸和水，该氧化硅系基体原料成分由选自水解性硅化合物类中的至少I种构成。根据所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，以所述酸的第一质子完全离解时质子相对于涂布液总质量的摩尔浓度为O. 005 5. O摩尔/kg的比例含有所述酸。根据或所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述酸是选自乙酸、乳酸、马来酸、丙二酸和草酸中的至少I种。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，作为所述氧化硅系基体原料成分的主成分，含有可包含部分水解缩合物的4官能性水解性硅化合物，该涂布液还含有挠性赋予成分。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，作为所述氧化硅系基体原料成分的主成分，含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物，该4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物可包含各自的部分水解缩合物和/或两者的部分水解共缩合物。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述紫外线吸收剂为二苯甲酮系紫外线吸收剂。根据所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述二苯甲酮系紫外线吸 收剂是含羟基的二苯甲酮系化合物与含环氧基的水解性硅化合物反应而得到的水解性硅化合物。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，相对于所述氧化硅系基体原料成分100质量份，所述紫外线吸收剂的含量为I 50质量份。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，相对于所述氧化硅系基体原料成分的SiO2换算量，所述水的含量以摩尔比计为I 20当量。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，还含有二氧化硅微粒。根据所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，相对于所述氧化硅系基体原料成分100质量份,所述二氧化娃微粒的含量为O. 5 50质量份。根据 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述氧化硅系基体原料成分相对于涂布液总质量的含量，以将该成分所含的硅原子换算成SiO2时的SiO2含量计为I 20质量％。 一种紫外线吸收玻璃物品，具有玻璃基材和紫外线吸收膜，所述紫外线吸收膜是在所述玻璃基材的至少一部分表面使用 中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液而形成的。使用本专利技术的紫外线吸收膜形成用涂布液，能够形成具有耐磨损性等机械耐久性、并且充分确保无色透明性、长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜，具有这样的紫外线吸收膜的本专利技术的紫外线吸收玻璃物品是无色透明的，且对于机械以及紫外线吸收能力均具有长期耐久性。具体实施例方式以下说明本专利技术的实施方式。紫外线吸收膜形成用涂布液含有氧化硅系基体原料成分、紫外线吸收剂、第一质子的PKa为I. O 5. O的酸和水，上述氧化硅系基体原料成分由选自水解性硅化合物类中的至少I种构成。<氧化硅系基体原料成分>本专利技术的紫外线吸收膜形成用涂布液所含的氧化硅系基体原料成分由选自水解性硅化合物类中的至少I种构成。在本说明书中，水解性硅化合物类是作为至少I个水解性基团与硅原子结合的硅烷化合物组以及这样的硅烷化合物组中的I种或2种以上的部分水解(共)缩合物的总称来使用。另外，水解性硅化合物的官能性的数是指与硅原子结合的水解性基团的数。在本专利技术的紫外线吸收膜形成用涂布液中，水解性硅化合物类在作为催化剂的上述酸和水的存在下，水解性基团水解而生成结合于硅原子的羟基(即，硅醇基)，接着，硅醇基彼此脱水缩合而生成一 Si — O — Si —表不的娃氧烧键而闻分子量化。仅由2官能性水解性硅化合物只能生成线状的聚硅氧烷，但由3官能性水解性硅化合物、4官能性水解性硅化合物可生成聚硅氧烷的3维的网络，形成氧化硅系基体。另外，由2官能性水解性硅化合物与3官能性水解性硅化合物、4官能性水解性硅化合物的混合物也能形成聚硅氧烷的3维的网络·氧化硅系基体。在本专利技术的紫外线吸收膜形成用涂布液中，作为氧化硅系基体原料成分的主成分，优选包含可含有部分水解缩合物的4官能性水解性硅化合物，此时，进一步优选含有后 述的挠性赋予成分。作为上述氧化硅系基体原料成分，另外，作为主成分，优选含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物，所述4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物也可以含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物的各自部分水解缩合物和/或它们的部分水解共缩合物。作为氧化硅系基体原料成分的特别优选的方式是以下方式，S卩，氧化硅系基体原料成分仅由可含有部分水解缩合物的4官能性水解性硅化合物构成，与挠性赋予成分一同配合于紫外线吸收膜形成用涂布液。或者是以下方式，即，氧化硅系基体原料成分由可以含有各自部分水解缩合物和/或它们的部分水解共缩合物的4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物构成，根据需要与挠性赋予成分一同配合于紫外线吸收膜形成用涂布液。作为水解性硅化合物所具有的水解性基团，具体而言，可举出烷氧基(包括烷氧取代烧氧基等取代烧氧基)、稀基氧基、酸基、酸氧基、厢基、酸胺基、氣基、亚氣氧基、氣基氧基、烷基取代氨基、异氰酸酯基、氯原子等。其中，作为水解性基团，优选烷氧基、烯基氧基、酰氧基、亚氨氧基、氨基氧基等有机氧基，特别优选烷氧基。作为烷氧基，优选碳原子数4以下的烷氧基和碳原子数4以下的烷氧取代烷氧基(2 —甲氧基乙氧基等)，特别优选甲氧基和乙氧基。上述4官能性水解性硅化合物是4个水解性基团与硅原子结合的化合物。4个水解性基团可以互相本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：小平广和，朝长浩之，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：
国别省市：