镭射加工装置的改良结构制造方法及图纸

技术编号:8170937 阅读:164 留言:0更新日期:2013-01-08 18:27
本实用新型专利技术公开了一种镭射加工装置的改良结构,包括一镭射光源、一镭射工作台面和工件,在所述镭射工作台面上设有一能够活动的反射件,所述反射件与所述镭射光源相对设置,所述工件位于所述反射件与所述镭射光源之间。本实用新型专利技术能够将镭射光源精准聚焦于工件的加工处,有效地提高了生产效率和产品良率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种镭射加工装置领域,尤其涉及一种镭射加工装置的改良结构
技术介绍
现有的镭射加工机台,其镭射光源是以X-Y轴为常见规格,但是在加工处理ー些弾性材料吋,则会因为只有ニ维平面的运动,使得加工自由度受限。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本技术提供了一种镭射加工装置的改良结构,该结构简单,能够将镭射光源精准聚焦于エ件的加工处,很好的提高了エ件良率和工作效率。本技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种镭射加工装置的改良结构,包括ー镭射光源、ー镭射工作台面和エ件,在所述镭射工作台面上设有一能够活动的反射件,所述反射件与所述镭射光源相对设置,所述エ件位于所述反射件与所述镭射光源之间。作为本技术的进ー步改进,在所述镭射工作台面上还设有一基座,所述エ件置于所述基座上。作为本技术的进ー步改进,所述反射件呈L型板状结构,所述反射件的拐角处将其分为两个长条段,其中一长条段铰接于所述基座上,另ー长条段能够相对所述镭射工作台面位移。本技术的有益效果是通过在镭射工作台面上设有一能够活动的反射件,能够将镭射光源精准聚焦于エ件的加工处,有效地提高了生产效率和产品良率。而且由于镭射光源不会长时间的停留本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镭射加工装置的改良结构,包括一镭射光源(1)、一镭射工作台面和工件(2),其特征在于:在所述镭射工作台面上设有一能够活动的反射件(3),所述反射件与所述镭射光源相对设置,所述工件位于所述反射件与所述镭射光源之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:严福笙黄君逸
申请(专利权)人:镒生电线塑料昆山有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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