本发明专利技术涉及镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品；本发明专利技术包括玻璃基片层和镀膜层，结构依次为Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4；本发明专利技术对于可见光波段具有较高的透过率，能保证良好的自然采光，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过，尤其是近红外热辐射的透过；本发明专利技术不仅保证了镀膜具有良好的耐磨耐刮伤特性、优良的抗酸碱耐腐蚀特性，而且保证了在相同的可见光透过率和辐射率下，光的反射率更加低、光的污染更小、抗氧化性能增强、耐氧化的时间更长。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃
，尤其涉及一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品。
技术介绍
市面上已有多种镀膜玻璃产品出现，但是这些镀膜玻璃产品所使用的镀膜材料都不能耐高温，对于需要钢化的玻璃，镀膜过程必须在钢化以后进行。对一些有特殊形状要求的玻璃，钢化以后定型为曲面，而曲面玻璃镀膜时很难保证膜层均匀。另外由于玻璃的钢化过程必须在被切割成所需尺寸后进行，因此将钢化后的玻璃进行镀膜时，工作台面上的玻璃也是按照切割后的尺寸来放置的。这样，那些不规则形状的玻璃使得工作台面的装载率低下，镀膜的效率也很低。为此，人们对镀膜进行了大量研究，希望能得到可以耐高温的镀膜，以便能在镀膜后进行玻璃钢化工艺。申请号为200920068698. 5的专利文献就公开了一种可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃，该膜层结构自玻璃向外层依次为玻璃、包含吸收层的基层复合 电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层，该技术通过选择各层的厚度和膜层成分，生产出可以进行高温热处理的双银结构低辐射镀膜玻璃。这对于镀膜后再进行钢化是一个突破，但是，该技术的层结构复杂，成本高，而且其性能单一，只是为了可以进行高温处理的性能。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供了一种结构简单，成本低廉，性能多元化的可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、NiCr层、Ag层、NiCr层、和Si3N4层，所述玻璃制品结构为 Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N40较佳地，所述镀膜层还包括Si3N4层和NiCr层，所述玻璃制品结构为=Glass/S i 3N4/NiCr/Si 3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si 3N4较佳地，所述镀膜层还包括ZnO层、Si3N4层和TiO2层，所述玻璃制品结构为Glass/S i 3N4/Ni Cr/ZnO/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i 3N4/T i O2。较佳地，所述镀膜层结构为S i3N4/Ni Cr/S i3N4/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i3N4/Ti O2。较佳地，所述NiCr层单层的厚度为I IOnm;所述Si3N4层单层的厚度为5 60nm ;所述Ag层单层的厚度为5 20nm ;所述Si3N4层单层的厚度为30 60nm ;所述TiO2层单层的厚度为2 15nm ;所述ZnO层单层的厚度为5 40nm。本专利技术包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自玻璃基片向外，依次包括Si3N4层、NiCr 层、Ag层、NiCr 层、和 Si3N4层，所述玻璃制品结构为 Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4 ；在此基础上，本专利技术还包括多一 Si3N4/NiCr层结构，相对现有技术的多层结构节约成本，工序简单。其中Ag层为功能层，其对于可见光波段具有较高的透过率，能保证自然采光良好，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过、尤其是近红外热辐射的透过。Si3N4层是硅氮复合物层，其结构致密、硬度高、防水性好。在高温条件下底层的Si3N4层能够阻止玻璃的Na离子穿透，避免对Ag功能层造成影响。而位于外层的Si3N4层由于其具有高硬度，保证了膜层具有良好的耐磨耐刮伤特性。NiCr层为保护层，其具有优良的抗酸碱耐腐蚀特性，能够保护Ag功能层不被氧化。本专利技术还可以包括，ZnO层、Si3N4层和TiO2层在相同的可见光透过率和辐射率下，光的反射率更加低，光的污染更小。在最外层增加了一层TiO2，抗氧化性能增强，耐氧化的时间更长。本专利技术通过对每层的厚度及其材质选择，使得本专利技术不仅结构简单，成本低廉，而且性能多元化，它对于可见光波段具有较高的透过率，能保证自然采光良好，但同时又能有 效限制太阳热辐射的透过、尤其是近红外热辐射的透过；本专利技术不仅保证了镀膜具有良好的耐磨耐刮伤特性、优良的抗酸碱耐腐蚀特性，而且保证了在相同的可见光透过率和辐射率下，光的反射率更加低、光的污染更小、抗氧化性能增强、耐氧化的时间更长。附图说明图I为本专利技术5层膜的结构示意图；图2为本专利技术7层膜的结构示意图；图3为本专利技术8层膜的结构示意图。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步的详细说明。实施例I见图1，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片O层和镀膜层，镀膜层有五层，从基片开始，依次为厚度为5nm的Si3N4层I、厚度为Inm的NiCr层2、厚度为5nm的Ag层3、厚度为5nm的NiCr层4、和厚度为IOnm的Si3N4层5。玻璃制品结构为Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。经检测，可见光透过率58%，反射14%，遮阳系数O. 56，传热系数3. 4W/M2*K。实施例2见图2，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有七层，从基片开始，依次为厚度为IOnm的Si3N4层I、厚度为2nm的NiCr层2、厚度为5nm的Si3N4层3、厚度为IOnm的NiCr层4、厚度为20nm的Ag层5、厚度为8nm的NiCr层6、和厚度为5nm的Si3N4层7。玻璃制品结构为Glass/Si3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。经检测，可见光透过率62%，反射10%，遮阳系数O. 56，传热系数3. 4W/M2*K。实施例3见图3，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为15nm的Si3N4层I、厚度为2nm的NiCr层2、厚度为5nm的ZnO层3、厚度为2nm的NiCr层4、厚度为20nm的Ag层5、厚度为4nm的NiCr层6、厚度为30nm的Si3N4层7、厚度为2nm的TiO2层8。玻璃制品结构为Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o经检测，可见光透过率61%，反射10%，遮阳系数O. 57，传热系数3. 4W/M2*K。实施例4见图3，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为5nm的Si3N4层I、厚度为IOnm的NiCr层2、厚度为5nm的ZnO层3、厚度为8nm的NiCr层4、厚度为IOnm的Ag层5、厚度为Inm的NiCr层6、厚度为30nm的Si3N4层7、厚度为15nm的TiO4层8。 玻璃制品结构为Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o经检测，可见光透过率63%，反射11%，遮阳系数O. 58，传热系数3. 4W/M2*K。实施例5见图3，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为IOnm的Si3N4层I、厚度为5nm的NiCr层2、厚度为8nm的ZnO层3、厚度为5nm的NiCr层4、厚度为20nm的Ag层5、厚度为5nm的NiCr层6、厚度为50nm的Si3N4层7、厚度为IOnm的TiO2层8。玻璃制品结构为本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，其特征在于：所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、NiCr层、Ag层、NiCr层和Si3N4层，所述玻璃制品结构为：Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：余华骏，黄颖，崔平生，
申请(专利权)人：东莞南玻工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：
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