【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种光学零件的加工方法，尤其涉及ー种光学零件中高频误差的控制エ艺方法。
技术介绍
传统的光学加工手段中，加工工具同光学元件之间存在大面积的空间几何接触形态，有利于面形误差连续性的生成，误差表现为宏观尺度，即低频形状误差；而微纳米量级研抛磨料同光学元件材料间的机械化学综合作用，主要体现为微观尺度的误差演变，即高频粗糙度误差。因此，传统加工手段(如古典抛光、环抛等)所得到的エ件表面误差中基本不包含严重的中高频误差形态，能够保证光学元件的良好光学性能。现代先进光学制造方法的发展，趋向于采用计算机控制小工具对光学表面进行确定性可控材料去除，属于计算机控制子口径抛光技术的范畴。由于采用的小工具尺寸一般都远远小于エ件尺寸，因此在实现低频面形误差确定收敛的过程中，越来越倾向于在中高频段形成周期性的小尺度制造误差特征。人们通俗的把这类小尺度制造误差特征归为中高频误差，中高频误差已经成为计算机控制子口径类加工方法的显著特征。磁流变抛光(MRF)的材料去除，主要由高强度梯度磁场下磁流变液的剪切作用实现。磁流变液在高強度磁场的作用下，虽然具有一定的硬度，但其仍然属于柔...
【技术保护点】
一种光学零件中高频误差的组合式加工方法，所述组合式加工方法是先对待加工光学零件进行中高频误差可加工性评估，然后根据评估结果选择性进行下述操作(a)或操作(b)，其中：所述中高频误差可加工性评估包括以下步骤：首先利用干涉仪测量待加工光学零件的面形误差，然后对得到的面形误差进行PSD分析，得到面形误差的PSD曲线，基于PSD曲线确定中高频误差频率分布特征；根据预先确定的加工时间和加工精度对磁流变抛光工具的去除函数进行优化，得到优化后的去除函数模型；对去除函数模型进行频谱分析，得到去除函数的幅值谱线；再根据该幅值谱线获得去除函数的截止频率，并将该截止频率同需要控制的前述中高频误差...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：石峰，胡皓，宋辞，彭小强，戴一帆，王贵林，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科学技术大学，
类型：发明
国别省市：
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