【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及,更特别地,涉及保持保密信息以将其保持为对于来自外部的攻击是隐秘的半导体装置,以及将保密信息写入到半导体装置的方法。
技术介绍
近些年来,提出了许多利用加密技术改善对半导体装置的未授权的访问的抵抗性 或防止仿造的安全技术。在所述加密技术中,使用加密密钥。然而该技术具有这样的问题在攻击者获得了加密密钥时,对半导体装置的非法访问变得可能。因此,要求防止哪些在被泄漏时较不利的信息(诸如,密钥信息)作为保密信息被泄漏到外部。专利文献I至4公开了对作为保密信息之一的密钥信息的安全措施的技术。在专利文献I至4的所有技术中,通过利用根据半导体装置的制造变化而不同的特征值(诸如,硅ID或PUF(物理不可克隆的功能))来生成诸如密钥信息的保密信息。在专利文献I至4中,由于这样的特征值包括错误,因此在利用这样的特征值生成可靠的保密信息的情况下不得不对特征值执行错误校正处理。通过基于这样的特征值生成保密信息,变得不需要将保密信息保持作为固定值,可以改善半导体装置的安全性。相关技术文献专利文献专利文献I :W0 2008/056612专利文献2 :日本未审查专利公开No. ...
【技术保护点】
一种半导体装置,包括:独有码生成单元,其生成初始独有码,所述初始独有码是对于装置独有的值并且包含以随机比特形式的错误;第一错误校正单元,其校正初始独有码中的错误以生成中间独有码;第二错误校正单元,其校正中间独有码中的错误以生成第一确定独有码;以及解密单元,其利用所述第一确定独有码解密传输数据,以生成保密信息,所述传输数据是由外部装置利用基于所述中间独有码生成的密钥信息加密保密信息而获得的。
【技术特征摘要】
2011.06.20 JP 2011-1361331.一种半导体装置,包括 独有码生成単元,其生成初始独有码,所述初始独有码是对于装置独有的值并且包含以随机比特形式的错误; 第一错误校正単元,其校正初始独有码中的错误以生成中间独有码; 第二错误校正単元,其校正中间独有码中的错误以生成第一确定独有码;以及 解密单元,其利用所述第一确定独有码解密传输数据,以生成保密信息,所述传输数据是由外部装置利用基于所述中间独有码生成的密钥信息加密保密信息而获得的。2.根据权利要求I所述的半导体装置, 其中所述第一错误校正単元从所述外部装置接收比特掩码数据,并利用所述比特掩码数据生成所述中间独有码,所述比特掩码数据指定构成所述初始独有码的比特中的要被掩码的比特,以及 其中所述第二错误校正単元利用预先保持在内部的ECC码生成所述第一确定独有码。3.根据权利要求I所述的半导体装置, 其中所述第一错误校正単元从所述外部装置接收ECC码并利用所述ECC码生成所述中间独有码,以及 其中所述第二错误校正単元利用指定构成被预先保持在内部的所述初始独有码的比特中的要被掩码的比特的比特掩码数据生成所述第一确定独有码。4.根据权利要求I至3中任何一项所述的半导体装置,其中在所述外部装置中生成的所述密钥信息是通过在所述外部装置中执行的与所述第二错误校正単元的处理过程相同的处理过程耳生成的第二确定独有码。5.根据权利要求I至4中任何一项所述的半导体装置,还包括标识信息保持単元,其输出作为固定值预设在每ー装置中的标识信息, 其中用于所述第一错误校正単元中的错误校正处理的数据是与所述标识信息相关联的数据。6.根据权利要求5所述的半导体装置,还包括 校正数据解密単元,其接收用于所述第一错误校正単元中的错误校正处理的并且处于加密状态的数据,执行对所接收的数据的解密处理,并将解密的数据输出至所述第一错误校正単元。7.根据权利要求I至6中任何一项所述的半导体装置,其中所述初始独有码是物理不可克隆功能PUF数据,其包含由于所述半导体装置的元件中的制造变化而变得不确定的比特。8.根据权利要求I至7中任何一项所述的半导体装置,还包括 加密单元,其利用所述保密信息作为加密密钥进行加密通信。9.根据权利要求I至7中任何一项所述的半导体装置, 其中所述保密信息包含独有的校正数据以及算法表示信息,所述独有的校正数据用于校正作为对于装置独有的值的独有码中的错误,所述错误是以随机比特形式,所述算法表示信息用于从错误校正后的初始独有码生成加密密钥,并且 其中所述半导体装置还包括 密钥生成単元,其基于所述保密信息和所述独有码生成所述加密密钥;以及加密单元,其利用所述密钥生成単元生成的加密密钥进行加密通信。10.一种将保密信息写入到半导体装置的数据写入方法,所述半导体装置使用所述保密信息,所述方法包括以下步骤 对初始独有码执行第一错误校正处理以校正所述初始独有码中的错误,从而生成中间独有码,所述初始独有码是对于所述半导体装置独有的值并且包含以随机比特形式的错误; 对所述中间独有码执行第二错误校正处理以生成第一确定独有码; 在与所述半导体装置不同的外部装置中对所述中间独有码执行与所述第二错误校正处理相同的错误校正...
【专利技术属性】
技术研发人员:押田大介,古田茂,广川祐之,山崎晓,藤森隆,盐田茂雅,
申请(专利权)人:瑞萨电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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