【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及气体激光器
，具体涉及气体激光器的放电腔，特别是具有微流道结构的放电腔及相应的气体激光器。本专利技术特别适合应用于需要具有良好的放电区流场状态的准分子气体激光器的场合。
技术介绍
气体激光器，尤其是准分子激光器是最佳的光刻用激光光源。典型的准分子激光器主要由放电腔、高压脉冲源两部分组成，而放电腔主要由放电电极、气体循环系统和散热系统组成。准分子激光器在高重复频率下工作时，需要在放电区形成高速气流，带走已经放过电的废气，不断为放电腔补充新鲜的工作气体，以保证放电质量，从而提高激光能量及其 稳定性。但是，在目前的常用技术中，电极背风面常存在涡旋区，造成这种结果的原因是放电区流道没有设计成流线型或者电极侧面安装的预电离电极破坏了流线型流道。图I是现有技术的准分子激光器的不具有微流道结构的放电腔的示意图，其中显示了放电区附近的流场状态。如图I所示，在准分子激光器放电腔中，放电阴极4安装在陶瓷板(或其它绝缘材料)3上，陶瓷板3安装在放电腔的腔体I上，从而实现阴极4与放电腔腔体I的绝缘。阳极9与放电腔的腔体I相连，二者是等电位的。在图I所示的传统准分子激...
【技术保护点】
一种用于气体激光器的放电腔，该放电腔内具有放电电极和风机，所述风机驱动所述放电腔内的气体经过所述放电电极而进行流动，从而形成一个主气流，在所述主气流的流道的两侧存在凹陷区，其特征在于，在所述主气流的流道两侧设置有微流道，所述微流道具有用于气体流入的入口和用于气体流出的出口，所述入口位于所述主气流的下游，所述出口朝向所述凹陷区。
【技术特征摘要】
1.一种用于气体激光器的放电腔，该放电腔内具有放电电极和风机，所述风机驱动所述放电腔内的气体经过所述放电电极而进行流动，从而形成一个主气流，在所述主气流的流道的两侧存在凹陷区，其特征在于，在所述主气流的流道两侧设置有微流道，所述微流道具有用于气体流入的入口和用于气体流出的出口，所述入口位于所述主气流的下游，所述出口朝向所述凹陷区。2.如权利要求I所述的用于气体激光器的放电腔，其特征在于，在所述放电电极的两侧设置有导流板，所述微流道设置有所述导流板上，并且所述微流道的出口朝向所述导流板与所述放电电极之间的间隙。3.如权利要求2所述的用于气体激光器的放电腔，其特征在于，所述放电腔内还包括有一个预电离装置，其支撑于所述导流板与所述放电电极之间，所述微流道的出口朝向该预电离装置。4.如权利要求3所述的用于气...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘斌，丁金滨，张立佳，赵江山，周翊，王宇，
申请(专利权)人：中国科学院光电研究院，
类型：发明
国别省市：
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