一种具有降温功能的法拉第屏蔽装置及等离子体处理设备制造方法及图纸

技术编号:8122999 阅读:215 留言:0更新日期:2012-12-22 13:33
本实用新型专利技术提供一种具有降温功能的法拉第屏蔽装置,其包括:一法拉第屏蔽板;以及一放置于所述法拉第屏蔽板之上或插入所述法拉第屏蔽板内部的导热部件,其中,所述导热部件内装有冷却液,所述导热部件至少包括一输入接口以及一输出接口,用于输入及输出冷却液。本实用新型专利技术通过增加一个导热部件,降低法拉第屏蔽板上的温度,从而解决法拉第屏蔽装置往往在工作中容易升温的问题。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制程设备,尤其是对于基板实施等离子体处理的等离子体处理设备,具体地,涉及一种法拉第屏蔽装置以及具有该法拉第屏蔽装置的等离子体处理设备。
技术介绍
在半导体设备的制造过程中,例如蚀刻、沉积、氧化、溅射等处理过程中,通常会利用等离子体对基板(半导体晶片、玻璃基板等)进行处理。一般地,对于等离子体处理设备来说,作为生成等离子体的方式,大体上可分为利用电晕(glow)放电或者高频放电,和利用微波等方式。在高频放电方式的等离子体处理设备中,根据能量耦合方式不同又分为电容式耦 合及电感式耦合两种。电容式耦合等离子体处理设备的反应腔通常配置上部电极和下部电极,优选地这两个电极平行设置。而且,通常在下部电极之上载置被处理基板,经由整合器将等离子体生成用的高频电源施加于上部电极或者下部电极。通过由该高频电源所生成的高频电场来使电子加速,因电子与处理气体的冲击电离而发生射频等离子体,从而进行蚀刻的操作。在电感式耦合等离子体处理设备的反应腔外,配置有电磁感应线圈。高频电磁场能量由线圈通过一个介质窗口耦合进出反应腔产生等离子体。被处理基板通常也是放在下部电极之上,并用另一高频电源施加于下部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有降温功能的法拉第屏蔽装置,其包括:一法拉第屏蔽板;以及一放置于所述法拉第屏蔽板之上或插入所述法拉第屏蔽板内部的导热部件,其特征在于,所述导热部件内装有冷却液,所述导热部件至少包括一用于输入冷却液输入接口以及一用于输出冷却液输出接口。

【技术特征摘要】
1.一种具有降温功能的法拉第屏蔽装置,其包括 一法拉第屏蔽板;以及 一放置于所述法拉第屏蔽板之上或插入所述法拉第屏蔽板内部的导热部件,其特征在于,所述导热部件内装有冷却液,所述导热部件至少包括一用于输入冷却液输入接口以及一用于输出冷却液输出接口。2.根据权利要求I所述的法拉第屏蔽装置,其特征在于,所述导热部件至少包括一根或多根导热管,所述一根或多根导热管组成如下形状中的任一种或任几种 扇叶形;螺旋形;圆形;菱形;以及星形。3.根据权利要求2所述的法拉第屏蔽装置,其特征在于,所述多根导热管均匀地布置于所述法拉第屏蔽板的表面或内部。4.根据权利要求2所述的法拉第屏蔽装置,其特征在于,所述多根导热管在所述法拉第屏蔽板表面或内部呈中心和边缘分布,所述中心区域的导热管的密度大于所述边缘区域的导热管的密度。5.根据权利要求3或4所述的法拉第屏蔽装置,其特征在于,所述导热管包括两根直径不同环状管和多根直管,所述多根直管与两根环状管相连通...

【专利技术属性】
技术研发人员:许颂临左涛涛罗伟义徐朝阳倪图强张亦涛
申请(专利权)人:中微半导体设备上海有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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