一种实验室用的单面刻蚀器件制造技术

本实用新型专利技术公开了一种实验室用的单面刻蚀器件，包括刻蚀槽体（1）和吸液板（2），所述的刻蚀槽体（1）的上表面设置有一个凹槽（3），所述的吸液板（2）的形状与凹槽（3）匹配，吸液板（2）放置于凹槽（3）内，吸液板（2）的边缘处设置有一个缺口（4），吸液板（2）的中心均匀分布有小孔（5）。本实用新型专利技术的有益效果是：能够对不同规格、不同形貌的试验片进行刻蚀实验，并且有效的控制反应时间、刻蚀深度等技术参数，使实验所得的结果更加真实可靠；本装置在实验中所需要的反应液需要量比较少，降低了不必要的能源浪费和环境污染；本实用新型专利技术还具有结构简单、操作方便、成本低等优点。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及到一种实验室用的单面刻蚀器件。
技术介绍
在太阳能电池生产中，刻蚀作为第三道エ序，其主要作用是去除扩散后硅片背面和边缘的p-n结，以及在扩散过程中产生的磷硅玻璃，同时去除金属杂质，防止漏电。通常我们采用的是湿法刻蚀即酸刻蚀，一般采用HF/HN03体系，在刻蚀的同时增强硅片背面的反射率，増加光的吸收，有利于增大短路电流。生产中我们常用的湿法刻蚀的设备有RENA和SCHMID，它们适用于大規模的量化生产。产业化生产前通常都会进行实验性的研究，现今没有针对实验室专用的器械，在实验室中一般都是采用RENA或SCHMID等大型生产设备，这样带来了以下缺点 (I)由于实验中片源较少，采用大型设备将会对人力、物力等资源造成极大的浪费；(2)大型生产设备对片源的规格要求较为严格，通常所处理的都是125mmX 125mm或者156_X 156mm大小的娃片,对于不符合其要求的娃片无法正常刻蚀；(3)大型生产设备对刻蚀深度、腐蚀速率等技术參数较难控制，无法为产业化生产提供准确有效的数据支持。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足，提供一种实验室用的单面刻蚀器件，解决现有刻蚀实验本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实验室用的单面刻蚀器件，其特征在于，包括刻蚀槽体（1）和吸液板（2），所述的刻蚀槽体（1）的上表面设置有一个凹槽（3），所述的吸液板（2）的形状与凹槽（3）匹配，吸液板（2）放置于凹槽（3）内，吸液板（2）的边缘处设置有一个缺口（4），吸液板（2）的中心均匀分布有小孔（5）。

【技术特征摘要】
1.一种实验室用的单面刻蚀器件，其特征在于，包括刻蚀槽体(I)和吸液板(2)，所述的刻蚀槽体(I)的上表面设置有一个凹槽(3)，所述的吸液板(2)的形状与凹槽(3)匹配，吸液板(2)放置于凹槽(3)内，吸液板(2)的边缘处设置有一个缺口(4),吸液板...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖涛，刘杰，王慧，路忠林，盛雯婷，张凤鸣，
申请(专利权)人：天威新能源控股有限公司，保定天威集团有限公司，
类型：实用新型
国别省市：