一种在线原子层沉积装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种在线原子层沉积装置，包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少一个装卸元件、提升元件、控制与检测系统、排气系统，其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室，所述前驱物送料系统设置在加工腔室侧面，所述装卸元件设置于加工腔室进、出口位置，所述提升元件设置在所述加工腔室的正下方，通过加工腔室上的开槽与基板承载装置接触，所述控制与检测系统和排气系统分别与加工腔室连接。该在线原子层沉积装置可以解决装载元件和基板承载装置复杂的问题，并能够以批处理的方式实现基板表面的原子层沉积。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种原子层沉积装置，特别涉及一种在线原子层沉积装置。
技术介绍
原子层沉积装置进行ALD反应的方法为在一定温度下，向反应腔室中通入第一种反应前驱物使前驱物分子吸附在基板表面上形成活性剂；当前驱物的吸附达到饱和状态时，除去反应腔室中的第一种前驱物及副产物；通入第二种反应前驱物，第二种前驱物与已吸附在基板表面的活性剂即第一种前驱物发生化学反应，在基板表面生成所要制备的薄膜的单分子层并释放气态的副产物；除去反应腔室中的第二种前驱物及副产物。依次类推，通过两种或两种以上的气态前驱物交替注入反应腔室，在被加工的基板表面形成交替饱和的表面反应，从而实现原子层沉积。通过选择不同数目的生长周期可以制备不同厚度的薄膜。一般的批处理原子层沉积装置，反应前基板被装卸元件装载于基板承载装置。该基板承载装置由机械手或其他类似装置装载于数个低压或常压反应腔室中。不同反应腔室内的基板将被同步地、顺序地或连续地施加气体前驱物。当一批基板在一个或一个以上反应腔室内被同时加工时，另一个反应腔室内的一批基板被装载入或卸载出反应腔室。在上述装置中需要相对复杂的基板装卸元件和基板承载装置，为基板的连续装载和进料带本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在线原子层沉积装置，其特征在于，包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少一个装卸元件、提升元件、控制与检测系统和排气系统，其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室中，所述前驱物送料系统设置在加工腔室的侧面，所述装卸元件设置于加工腔室的进、出口位置，所述提升元件设置在所述加工腔室的正下方，通过加工腔室上的开槽与基板承载装置接触，所述控制与检测系统和排气系统分别与加工腔室连接。

【技术特征摘要】
1.一种在线原子层沉积装置，其特征在于，包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少ー个装卸元件、提升元件、控制与检测系统和排气系统，其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室中，所述前驱物送料系统设置在加工腔室的侧面，所述装卸元件设置于加工腔室的进、出口位置，所述提升元件设置在所述加工腔室的正下方，通过加工腔室上的开槽与基板承载装置接触，所述控制与检测系统和排气系统分别与加工腔室连接。2.如权利要求I所述的在线原子层沉积装置，其特征在于，所述加工腔室包括预热腔室、至少ー个反应腔室和冷却腔室；所述预热腔室、所述反应腔室和所述冷却腔室依序连接。3.如权利要求2所述的在线原子层沉积装置，其特征在于，所述预热腔室、反应腔室和冷却腔室都包括一个与腔室本体分离的上盖，该上盖分别与预热腔室本体、反应腔室本体和冷却腔室本体采用螺栓固定连接，所述上盖上开设有气体扩散ロ，并且所述上盖中间设有开槽，用于放置加热元件。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵星梅，盛金龙，彭文芳，李春雷，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：