荧光体基板及其制造方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的荧光体基板（5）是形成有通过激发光进行发光的荧光体层（3）的荧光体基板（5），具备设置在荧光体层（3）的侧面和激发光入射的面上的反射膜（10），其使激发光中的峰值波长的成分透过，并且使来自荧光体层（3）的发光中的峰值波长的成分反射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及荧光体基板及其制造方法，和使用该荧光体基板的显示装置。
技术介绍
近年来，随着高度信息化，对于平板面板显示器的需求增高。作为这样的显示器，公知的有非自发光型的液晶显示器(LCD)、自发光型的液晶显示器(PDP)、无机电致发光(无机EL)显示器和有机电致发光(有机EL)显示器等。其中，有机EL显示器其自发光的特点备受:关注。在有机EL显示器中，主要的2个显示技术被人们公知。一个是通过无源矩阵驱动显示动态图像的技术。另一个是使用薄膜晶体管(TFT)通过有源矩阵驱动有机EL元件而显示动态图像的技术。 在现有的显示器中，将发出红色、绿色或者蓝色的光的多个像素集合作为一个单位排列配置。由此，制造出以白色为代表的多种颜色，其结果是使显示图像全彩化。为了实现这样的显示，在有机EL元件的情况下，通常通过使用阴影掩模的掩模蒸镀法区分涂敷有机发光层，由此形成红色、绿色和蓝色像素。但是在该方法中，掩模的加工精度、掩模的对准精度和掩模的大型化分别成为重大的课题。这些课题特别在以电视装置为代表的大型显示器的领域尤其显著。该领域的基板尺寸的大型化不断发展，例如经历了从第六代(G6、1500mmX本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.14 JP 2010-0934441.一种荧光体基板，其特征在于 所述荧光体基板形成有通过激发光进行发光的荧光体层， 所述荧光体基板包括反射膜，该反射膜设置于所述荧光体层的侧面和所述激发光入射的面上，使所述激发光中的峰值波长的成分透过，并且使来自所述荧光体层的发光中的峰值波长的成分反射。2.如权利要求I所述的荧光体基板，其特征在于 所述反射膜使所述激发光中的峰值波长的成分透过80%以上，并且使来自所述荧光体层的发光中的峰值波长的成分反射80%以上。3.如权利要求2所述的荧光体基板，其特征在于 所述反射膜使所述激发光中的峰值波长的成分透过90%以上，并且使来自所述荧光体层的发光中的峰值波长的成分反射90%以上。4.如权利要求I至3中任一项所述的荧光体基板，其特征在于 当将所述反射膜的激发光入射侧和激发光入射侧作为正面，将光取出侧作为背面时，所述反射膜的侧面的膜厚的最大值大于所述反射膜的正面的膜厚的最大值。5.如权利要求I至4中任一项所述的荧光体基板，其特征在于 所述反射膜为至少含有金的膜。6.如权利要求5所述的荧光体基板，其特征在于 所述至少含有金的反射膜的膜厚为IOnm 40nm。7.如权利要求I至6中任一项所述的荧光体基板，其特征在于 所述荧光体为无机荧光体。8.如权利要求I至7中任一项所述的荧光体基板，其特征在于 在所述荧光体基板上设置有包含不同的荧光...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田悦昌，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：
国别省市：