本发明专利技术公开了一种彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及其制作方法，所述彩膜基板包括位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜；所述阵列基板包括位于所述第二基片和绝缘层之间的第二偏光膜；所述液晶显示装置包括所述彩膜基板和/或所述阵列基板。本发明专利技术通过将偏光作用的偏光膜制作在彩膜基板或阵列基板内部，克服了现有的液晶显示装置中采用粘贴于彩膜基板或阵列基板外表面的偏光片时，偏光片容易磨损，以及偏光片与彩膜基板或阵列基板外表面之间容易夹杂气泡和灰尘等问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示设备
，尤其涉及一种。
技术介绍
目前常见的 TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的结构如图I所示，包括第一偏光片101、第一玻璃基片102、色阻层103、平坦层104、第一取向层105、液晶层106、第二取向层107、绝缘层108、第二玻璃基片109、第二偏光片110 ;其中，第一偏光片101、第一玻璃基片102、色阻层103、平坦层104和第一取向层105构成了彩膜基板，第二偏光片110、第二玻璃基片109、绝缘层108和第 二取向层107构成了阵列基板；绝缘层108将像素电极111和公共电极112隔开；第一偏光片101和第二偏光片110都为偏光片结构，二者都具有将透过的光线变为偏振光的功能，并且第一偏光片101的透过轴和第二偏光片110的透过轴相互垂直。由图I所示的结构可以看出，偏光片是目前TFT-IXD中不可缺少的一部分，并且偏光片被设置于彩膜基板和阵列基板的外表面，然而目前这种使用偏光片的技术存在以下几种问题1、在制作偏光片的工艺过程中，需要采用拉伸设备沿设定方向对原始的膜片进行拉伸形成偏光片，以使得通过偏光片的光线能够沿所述设定的方向偏转，该工艺过程中，由于拉伸设备能够实现的拉伸长度有限，因此制作形成的偏光片尺寸也会受到限制；2、将偏光片粘贴在彩膜基板和阵列基板的外表面时，容易产生在偏光片与基板外表面之间夹杂气泡和灰尘等不良现象，从而导致粘贴不够牢固；3、采用胶类物质将偏光片粘贴至彩膜基板和阵列基板最外层的方式，不容易控制偏光片与基板的对齐精度；4、由于偏光片位于彩膜基板和阵列基板的最外层，很容易导致偏光片表面磨损，使得偏光效果降低；5、偏光片的制作成本较高。因此，目前液晶显示设备厂商急需研发一种新型的偏光装置，以避免使用偏光片带来的以上各种问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种，用以解决现有的液晶显示装置采用粘贴于彩膜基板或阵列基板外表面的偏光片时，偏光片容易磨损，偏光片与彩膜基板或阵列基板外表面之间容易夹杂气泡和灰尘等问题。本专利技术包括—种彩膜基板，包括第一基片、色阻层、平坦层和第一取向层，还包括位于所述第一基片和平坦层之间的的第一偏光膜。一种阵列基板，包括第二基片、绝缘层和第二取向层，还包括位于所述第二基片和绝缘层之间的第二偏光膜。一种液晶显示装置，包括如上所述的彩膜基板；和/或，如上所述的阵列基板。一种制作如上所述彩膜基板的方法，包括涂覆偶氮聚合物液晶材料膜层，利用偏振紫外光对所述偶氮聚合物液晶材料膜层进行照射，形成位于第一基片和平坦层之间且具有偏光作用的第一偏光膜；或，涂覆溶致液晶材料膜层，等待所述溶致液晶材料膜层中的溶致液晶分子自组装排列完成，形成位于第一基片和平坦层之间且具有偏光作用的第一偏光膜。一种制作如上所述阵列基板的方法，包括涂覆偶氮聚合物液晶材料膜层，利用偏振紫外光对所述偶氮聚合物液晶材料膜层进行照射，形成位于第二基片和绝缘层之间且具有偏光作用的第二偏光膜；或， 涂覆溶致液晶材料膜层，等待所述溶致液晶材料膜层中的溶致液晶分子自组装排列完成，形成位于第二基片和绝缘层之间具有偏光作用的第二偏光膜。本专利技术提供一种，通过将偏光作用的偏光膜制作在彩膜基板或阵列基板内部，克服了现有的液晶显示装置中采用粘贴于彩膜基板或阵列基板外表面的偏光片时，偏光片容易磨损，以及偏光片与彩膜基板或阵列基板外表面之间容易夹杂气泡和灰尘等问题。附图说明图I为现有技术中的液晶显示装置结构示意图；图2 (I)为本专利技术实施例一提供的彩膜基板结构示意图；图2 (2)为本专利技术实施例二提供的阵列基板结构示意图；图3为本专利技术实施例三提供的液晶显示装置结构示意图；图4为本专利技术实施例三中采用偶氮聚合物液晶材料制作第一偏光膜313的工艺流程图；图5为本专利技术实施例三中采用偶氮聚合物液晶材料制作第二偏光膜332的工艺流程图；图6为本专利技术实施例三中采用溶致液晶材料制作第一偏光膜313的工艺流程图；图7为本专利技术实施例三中采用溶致液晶材料制作第二偏光膜332的工艺流程图；图8为本专利技术实施例四提供的液晶显示装置结构示意图。具体实施例方式为了克服了现有的液晶显示装置中采用粘贴于彩膜基板或阵列基板外表面的偏光片时，偏光片容易磨损，以及偏光片与彩膜基板或阵列基板外表面之间容易夹杂气泡和灰尘等问题，本专利技术实施例提供了一种液晶显示装置及其制作方法，以下结合说明书附图对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。以下实施例一 实施例三以ADS (Advanced Super Dimension Switch,高级超维场转换)模式为例对本专利技术进行介绍，实施例四以TN (Twisted Nematic，扭曲向列)模式为例对本专利技术进行介绍。实施例一本实施例提供一种彩膜基板，如图2 (I)所不,彩膜基板21内部包括第一偏光膜211。为了实现本实施例提供的彩膜基板21，可以采用具有分子定向的材料制作第一偏光膜211，以使其既可以制作在彩膜基板21内部，又可以具有将透过的光线转变为偏振光的偏光特性。较佳的，本实施例采用偶氮聚合物液晶材料或溶致液晶材料制作第一偏光膜211 ；当采用偶氮聚合物液晶材料制作第一偏光膜211时，首先需要涂覆一层偶氮聚合物液晶材料薄膜，然后利用偏振紫外光对其进行照射，以使其具有偏光特性；当采用溶致液晶材料制作第一偏光膜211时，首先需要涂覆一层溶致液晶材料薄膜，然后等待溶致液晶分子完成自组装排列过程(整个自组装排列过程约需要几十秒)，即可具有偏光特性。本实施例中 涂覆偶氮聚合物液晶材料或溶致液晶材料制作所述第一偏光膜211时,可以采用ink-jet(喷涂)、coater (包括旋涂和狭缝涂布)、APR plate (Asahikasei Photosensitive ResinPlate,印刷板转印)等设备完成。较佳的，本实施例中，所述第一偏光膜211的厚度小于lOiim。本实施例中，所述彩膜基板21具有显示由R、G、B三基色光混合形成的各种颜色的功能，除了第一偏光膜211之外，彩膜基板21由外向内大致可以分为以下几种结构 第一基片，用于承载组成彩膜基板21的各功能元件，常采用玻璃材料或石英材料制作；色阻层，用于将透过该层的光线转变成R、G、B三基色光；平坦层，用于平坦化与其相接触的第一取向层的凹凸不平表面；第一取向层，表面具有一定方向的沟槽，用于使得液晶层中的液晶分子能够沿着所述沟槽的方向排列。其中，第一偏光膜211可以设置于第一基片和平坦层之间，即设置于第一基片和色阻层之间，或色阻层和平坦层之间，这种结构设计的原因是当采用偶氮聚合物液晶材料或溶致液晶材料制作第一偏光膜211时，由于其本身为液晶材料，不能将第一偏光膜211设置于彩膜基板21的最内侧，即不能使得第一偏光膜211与液晶显示装置中的液晶层接触，否则将会因为两种液晶材料(构成第一偏光膜211的液晶材料和构成液晶层的液晶材料)接触而造成液晶互相渗透的问题；并且，也不能将第一偏光膜211设置于平坦层和第一取向层之间，这是由于第本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种彩膜基板，包括第一基片、色阻层、平坦层和第一取向层，其特征在于，还包括：位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜。
【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括第一基片、色阻层、平坦层和第一取向层，其特征在于，还包括位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜。2.如权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一偏光膜位于第一基片和色阻层之间。3.如权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一偏光膜位于色阻层和平坦层之间。4.如权利要求I 3任一所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一偏光膜采用偶氮聚合物材料或溶致液晶材料制作。5.如权利要求I 3任一所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一偏光膜的厚度小于10 u m06.一种阵列基板，包括第二基片、绝缘层和第二取向层，其特征在于，还包括位于所述第二基片和绝缘层之间的第二偏光膜。7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第二偏光膜采用偶氮聚合物材料或溶致液晶材料制作。8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层采用有机材料制作。9.如权利要求6 8任一所述的阵列基板,其特征在于,所述第二偏光膜的厚度小于10...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜玙璠，宋勇志，马国靖，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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