彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及其制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及其制作方法，所述彩膜基板包括位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜；所述阵列基板包括位于所述第二基片和绝缘层之间的第二偏光膜；所述液晶显示装置包括所述彩膜基板和/或所述阵列基板。本发明专利技术通过将偏光作用的偏光膜制作在彩膜基板或阵列基板内部，克服了现有的液晶显示装置中采用粘贴于彩膜基板或阵列基板外表面的偏光片时，偏光片容易磨损，以及偏光片与彩膜基板或阵列基板外表面之间容易夹杂气泡和灰尘等问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示设备
，尤其涉及一种。
技术介绍
目前常见的 TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的结构如图I所示，包括第一偏光片101、第一玻璃基片102、色阻层103、平坦层104、第一取向层105、液晶层106、第二取向层107、绝缘层108、第二玻璃基片109、第二偏光片110 ;其中，第一偏光片101、第一玻璃基片102、色阻层103、平坦层104和第一取向层105构成了彩膜基板，第二偏光片110、第二玻璃基片109、绝缘层108和第 二取向层107构成了阵列基板；绝缘层108将像素电极111和公共电极112隔开；第一偏光片101和第二偏光片110都为偏光片结构，二者都具有将透过的光线变为偏振光的功能，并且第一偏光片101的透过轴和第二偏光片110的透过轴相互垂直。由图I所示的结构可以看出，偏光片是目前TFT-IXD中不可缺少的一部分，并且偏光片被设置于彩膜基板和阵列基板的外表面，然而目前这种使用偏光片的技术存在以下几种问题1、在制作偏光片的工艺过程中，需要采用拉伸设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，包括第一基片、色阻层、平坦层和第一取向层，其特征在于，还包括：位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括第一基片、色阻层、平坦层和第一取向层，其特征在于，还包括位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜。2.如权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一偏光膜位于第一基片和色阻层之间。3.如权利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一偏光膜位于色阻层和平坦层之间。4.如权利要求I 3任一所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一偏光膜采用偶氮聚合物材料或溶致液晶材料制作。5.如权利要求I 3任一所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一偏光膜的厚度小于10 u m06.一种阵列基板，包括第二基片、绝缘层和第二取向层，其特征在于，还包括位于所述第二基片和绝缘层之间的第二偏光膜。7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第二偏光膜采用偶氮聚合物材料或溶致液晶材料制作。8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层采用有机材料制作。9.如权利要求6 8任一所述的阵列基板,其特征在于,所述第二偏光膜的厚度小于10...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜玙璠，宋勇志，马国靖，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：