一种嵌段聚合物在弹性基底上的可控自组装的方法技术

本发明专利技术提供了一种嵌段聚合物在弹性基底上的可控自组装的方法，步骤是：将固化的弹性体PDMS切成小片后用氧等离子体处理0.5~2分钟；将质量浓度0.5%的PS-b-PVP的甲苯/四氢呋喃混合溶液，旋涂在经过上述处理的PDMS上，形成了以PDMS作为基底的聚合物薄膜；将上述薄膜放入甲苯/四氢呋喃混合饱和蒸汽中处理3~5小时后浸入乙醇中30分钟，真空干燥；最终，在以PDMS作为基底的聚合物薄膜上形成有规则的纳米级微区结构，实现了嵌段聚合物在弹性基底上的可控自组装。本发明专利技术利用廉价易得的弹性体聚二甲基硅氧烷（PDMS）作为基底旋涂嵌段聚合物得到了与硬质基底上同等规整的孔洞状微区结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于大分子自组装领域，尤其涉及一种实现嵌段聚合物在弹性基底上的可控自组装的方法。
技术介绍
有序高分子膜材料由于其特征尺度和结构特征以及对外场的响应特性，成为高分子科学研究的热点。一方面图案化的高分子模板 可以进行进一步的纳米加工，以制作纳米电子、光电子器件等纳米材料；另一方面，图案化的高分子本身可以用作分离膜、高比表面积的吸附剂、组织工程支架等。利用嵌段聚合物的微相分离可构筑有序纳米结构。但目前嵌段聚合物薄膜所使用基底均为质硬且昂贵的娃基底。
技术实现思路
针对上述现有技术，本专利技术提供，是以弹性体作为基底，利用嵌段聚合物来构筑在纳米尺度上高分子薄膜表面有序微结构的方法。本专利技术方法用氧等离子体处理的弹性体聚二甲基硅氧烷(PDMS)和聚苯乙烯-聚乙烯基吡咯烷酮嵌段聚合物(PS-b-PVP)复合成膜，利用选择性溶剂处理来诱导PS-b-PVP微相分离形成纳米尺度的微区，从而实现了嵌段聚合物在弹性体基底上的可控自组装。为了解决上述技术问题，本专利技术，步骤如下(I)将固化的PDMS切成小片，放入氧等离子体清洗器中进行氧等离子体处理0. 5^2分钟；(2)将质量浓度0. 5%的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种嵌段聚合物在弹性基底上的可控自组装的方法，步骤如下：（1）将固化的弹性体PDMS切成小片，放入氧等离子体清洗器中进行氧等离子体处理0.5~2分钟；（2）将质量浓度0.5%的PS？b？PVP的甲苯/四氢呋喃混合溶液，旋涂在经过上述处理的PDMS上，形成了以PDMS作为基底的聚合物薄膜；（3）将上述制备好的聚合物薄膜放入甲苯/四氢呋喃混合饱和蒸汽中处理3~5小时，真空干燥2小时；然后，浸入乙醇中30分钟，真空干燥；最终，在以PDMS作为基底的聚合物薄膜上形成有规则的纳米级微区结构，实现了嵌段聚合物在弹性基底上的可控自组装。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁从华，邱鑫，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：