一种多级干式真空泵的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及真空泵清洗技术，具体地说是一种多级干式真空泵的清洗装置，包括减压阀、质量流量控制器、电磁阀及气体管路，减压阀的一端与气体输入端相连，另一端连接有质量流量控制器；气体管路分为封闭独立的第一部分及第二部分，质量流量控制器的输出端分为两路、分别与气体管路的第一、二部分相连接；质量流量控制器与气体管路连接的每一路均设有电磁阀；气体管路中的第一部分与干式真空泵的一级腔体相连接，第二部分分别与干式真空泵的二～五腔体连接。本实用新型专利技术对每一级腔体均起到了清洗作用，清洗彻底，具有控制简单、准确，真空度高等优点。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空泵清洗技术，具体地说是一种多级干式真空 泵的清洗装置。
技术介绍
随着半导体工业、电子工业的蓬勃兴起，对于真空环境的要求 越来越多、越来越严格。由于由普通的油封机械泵、扩散泵所组成的 真空系统易于向真空室中返油，真空室中的油分子会在硅片晶体上沉 积，使硅晶体成为废品。所以这样的真空系统在半导体工业、电子工 业中的应用受到了限制。相反，由于干式真空泵不需要润滑油来润滑 密封，做到了无油蒸汽污染，而且对被抽气体中含有的灰尘和水蒸气 不敏感。所以，由干式真空泵组成的真空系统得到了广泛的应用，并 在半导体工业、电子工业的发展过程中起到了推动的作用。由于在半导体工艺(特别是中等工艺、苛刻工艺，例如离子注入源、CVD(化学气相沉积)、PECVD (等离子体增强化学气相沉积) 等)中会产生大量的有毒以及腐蚀性气体(例如氨气、甲烷等)，这 些气体通过干泵的腔体经排气口排出。由于这些气体对人体的毒害非 常大，对设备的腐蚀性也非常强，因此避免废气对干式真空泵的腐蚀， 将产生的废气进行稀释从而达到保护人体以及设备的安全，已成为亟 待解决的问题。
技术实现思路
为了解决干式真空泵被废气腐蚀的问题，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：包括减压阀（１）、质量流量控制器（２）、电磁阀及气体管路（４），减压阀（１）的一端与气体输入端相连，另一端连接有质量流量控制器（２）；气体管路（４）分为封闭独立的第一部分（１０）及第二部分（１１），质量流量控制器（２）的输出端分为两路、分别与气体管路（４）的第一、二部分（１０、１１）相连接；质量流量控制器（２）与气体管路（４）连接的每一路均设有电磁阀；气体管路（４）中的第一部分（１０）与干式真空泵的一级腔体（Ａ）相连接，第二部分（１１）分别与干式真空泵的二～五腔体（Ｂ～Ｅ）连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王光玉，秦佰林，房伟，刘在行，
申请(专利权)人：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司，
类型：实用新型
国别省市：89[中国|沈阳]