贴合性功能性薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种贴合性功能性薄膜，该贴合性功能性薄膜即使在室外、室内等使用，基材与硅酮层的粘接力也不会降低。进一步提供了一种贴合性功能性薄膜，其即使在暴露于直射阳光的地方，硅酮层与被粘物的密合力也不升高。该贴合性功能性薄膜在基材的至少一个面上层叠有粘接剂层、硅酮层，其中，粘接剂层中含有的树脂由选自酸值在7～100的范围内的聚酯系树脂中的树脂形成。进一步，在上述树脂中存在羧酸基。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种贴合用装饰薄膜，其对基材上设有硅酮层的贴合性功能性薄膜施予印刷功能，可在平滑的表面上进行若干次贴合和剥离。进一步涉及赋予除了印刷以外的功能例如紫外线阻断、红外线阻断等特定功能的贴合性功能性薄膜。此外涉及在产业上的广泛领域中使用的密封材料、缓冲材料等。
技术介绍
基材上设有硅酮层的贴合性功能性薄膜通过在基材上实施印刷而成为能够在窗户等平滑面上容易地进行若干次贴合和剥离的装饰用薄膜。(专利文献I)另外，通过赋予 基材和/或叠层以特定功能，形成各种贴合性功能性薄膜。在基材上设置有硅酮层的材料、在硅酮层的相反面的基材上设置有硬涂层的材料贴合在液晶屏幕上，可用作屏幕的保护薄膜利用。作为其它用途，基材上设有硅酮层的贴合性功能性薄膜用于作为各种领域的工业材料的密封材料、缓冲材料等中。(专利文献2)然而，由塑料形成的基材与硅酮层的粘接力低，具有在使用中在基材与硅酮的界面上发生剥离的问题。因此，用电晕放电处理、紫外线照射处理、等离子处理等活性射线处理基材的表面。另外提供了使用在基材的表面上层叠由提高粘接性的化合物形成的易粘接层的易粘接性薄膜的方法。然而，在贴合到被粘物上时，密合力经时升高，硅酮层粘接于被粘物上，发生了想要剥离贴合性功能性薄膜时，只有基材被剥离的问题。此外，在暴露于直射阳光的地方，显著地发生了同样的问题。现有技术文献专利文献专利文献I日本实公平6-21711号公报专利文献2日本特开平10-95071号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术解决了上述问题。提供了即使在室外、室内等使用贴合性功能性薄膜，基材与硅酮层的粘接力也不降低的贴合性功能性薄膜。进一步提供了即使在暴露于直射阳光的地方硅酮层与被粘物也不固着的贴合性功能性薄膜。用于解决问题的方案第一专利技术是一种贴合性功能性薄膜，该贴合性功能性薄膜在基材的至少一个面上层叠有粘接剂层、硅酮层，其中，粘接剂层中含有的树脂由选自酸值在7 110范围内的聚酯系树脂中的树脂形成。第二专利技术是第一专利技术所述的贴合性功能性薄膜，其特征在于，在所述聚酯系树脂中存在羧酸基。第三专利技术是第一专利技术所述的贴合性功能性薄膜，其中，所述硅酮层由通过下述硅酮(I) ⑷的至少一种与SiH基的羟基化反应进行交联而获得的聚有机硅氧烷(polyorganosiIoxane)形成。(I)由仅在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷形成的硅酮，(2)由在两末端和侧链上具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷形成的硅酮，(3)由仅在末端具有乙烯基的支链状聚有机硅氧烷形成的硅酮，⑷由在末端和侧链上具有乙烯基的支链状聚有机硅氧烷形成的硅酮。第四专利技术是第二专利技术所述的贴合性功能性薄膜，其中，所述硅酮层由通过下述硅 酮(I) (4)的至少一种与SiH基的羟基化反应进行交联而获得的聚有机硅氧烷形成。(I)由仅在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷形成的硅酮，(2)由在两末端和侧链上具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷形成的硅酮，(3)由仅在末端具有乙烯基的支链状聚有机硅氧烷形成的硅酮，⑷由在末端和侧链上具有乙烯基的支链状聚有机硅氧烷形成的硅酮。第五专利技术是第二专利技术所述的贴合性功能性薄膜，其中，所述基材和/或叠层被赋予至少一种以上的特定功能，所述叠层是指粘接剂层、硅酮层、其它根据需要附加的功能层和/或薄膜和/或布帛。第六专利技术是第三专利技术所述的贴合性功能性薄膜，其中，所述基材和/或叠层被赋予至少一种以上的特定功能，所述叠层是指粘接剂层、硅酮层、其它根据需要附加的功能层和/或薄膜和/或布帛。第七专利技术是第四专利技术所述的贴合性功能性薄膜，其中，所述基材和/或叠层被赋予至少一种以上的特定功能，所述叠层是指粘接剂层、硅酮层、其它根据需要附加的功能层和/或薄膜和/或布帛。专利技术的效果实施了印刷的本专利技术的贴合性功能性薄膜可以贴合在玻璃窗等平滑面上，可以重复若干次贴合和剥离。由于基材与硅酮层的粘接力强，不论贴合场所为室外和室内，即使从被粘物上剥离，也不发生仅硅酮层残留于被粘物的问题。赋予特定功能的贴合性功能性薄膜除了密封材料和缓冲材料用途以外，还可有效用于紫外线截止薄膜、热线截止薄膜、电磁波截止薄膜、抗静电性薄膜、喷墨墨受像薄膜、液晶屏幕保护薄膜等各种用途。具体实施例方式本专利技术中使用的基材只要是由各种塑料形成的薄膜即可，没有特别限制。例如，可例示出由聚酯、聚酰胺、丙烯酸系树脂等形成的薄膜，但不限于这些。从处理性、提高与硅酮层的粘接力的方面考虑，优选使用聚酯薄膜。基材的厚度通常采用4 400 范围的厚度。可以使用表面用活性射线处理过的该聚酯薄膜、或在聚酯薄膜的表面上层叠有提高粘接性的化合物的易粘接性聚酯薄膜。作为利用活性射线的处理方法，可例示出电晕放电处理、紫外线照射处理、等离子处理。作为易粘接层层叠薄膜的易粘接成分，可列举出聚氨酯系、聚丙烯酸系化合物或它们的混合物。另外，层叠有易粘接层的薄膜的易粘接层的表面可以用上述活性射线处理。即使在上述活性射线的处理基材、基材上层叠易粘接层，再层叠硅酮层，基材与硅酮层的粘接力也是不充分的。进行耐光性试验时发生剥离。作为其对策，在硅酮层中配混粘接性改良剂。然而，本专利技术的粘接剂层中，即使在硅酮层中不配混粘接性改良剂，基材与硅酮层也以强的粘接力粘接。在耐光性试验中，硅酮层也不从基材上剥离。粘接剂层使用选自酸值在7 110范围内的聚酯系树脂中的树脂。也可以并用两种以上的聚酯系树脂。酸值不足上述范围时，硅酮层与被粘物的密合力随着时间的推移而变得过高，从被粘物上剥离本专利技术的薄膜时变得难以剥离。酸值超过上述范围的聚酯系树脂则难以制造。更优选酸值为8 100范围的聚酯系树脂。另外，聚酯系树脂优选是水溶性聚酯系树脂或水分散聚酯系树脂。其理由是因为赋予粘接剂层以抗静电功能时，水性的粘合剂层涂布液与有机溶剂型粘合剂层涂布液相比，涂布液中可以含有更多的水中分散性好的、抗静电效果高的抗静电剂。例如，通过使粘 合剂层的固体成分中含有40 70重量％的抗静电剂，可以防止粘合剂层上涂布的硅酮涂布液的涂布不均。另外，在将本专利技术的贴合性功能性薄膜的硅酮层贴合于被粘物上之后再剥离时，可以防止静电的发生，即防止所谓剥离起电。使用上述树脂时，树脂中的酸基与硅酮层中残留的SiH基发生交联反应，可以减少硅酮自身的交联反应后残留的SiH基的数目。其结果，可以防止在贴合时因被粘物表面、尤其是玻璃面与硅酮层的反应导致的密合力的升高。作为聚酯系树脂中的酸基，可列举出羧酸基、磺酸基、磷酸基等。作为上述酸基，羧酸基是特别优选的。粘接剂层的厚度优选为0.01 5 iim的范围。更优选为0. I 3 y m的范围。粘接剂层的厚度不足上述范围时，硅酮层容易从基材上脱离。超过上述范围时，粘接剂层自身的柔软性消失，形成硬的层，粘接剂层对基材的粘接力降低。可以在不降低本专利技术的效果的范围内向粘接剂层中添加除上述树脂以外的热塑性树脂。作为热塑性树脂，例如可列举出丙烯酸树脂、聚酰胺树脂、二甲苯树脂、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、醇酸树脂、聚氨酯树脂等，也可以使用这些树脂的一种以上。作为本专利技术的硅酮层中使用的硅酮，例如，可以使用加成聚合型的硅酮聚合物。加成聚合型硅酮树脂可列举出通过钼催化剂聚合而获得的树脂。作为适于本专利技术的目的的硅酮层的性状，要求具有如橡胶那样的柔软性，对于被粘物表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种贴合性功能性薄膜，所述贴合性功能性薄膜在基材的至少一个面上层叠有粘接剂层、硅酮层，其中，粘接剂层中含有的树脂由选自酸值在7～110的范围内的聚酯系树脂中的树脂形成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山野正通，寺胁广繁，
申请(专利权)人：富士高品印株式会社，
类型：发明
国别省市：