共用一个射频源的多等离子体装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种共用一个射频源的多等离子体装置，包括射频源，所述射频源通过导线连接有射频源分配器，所述射频源分配器通过导线连接有若干匹配器，每个所述匹配器连接有电极。本实用新型专利技术简化了结构，降低了成本；避免了因射频源相互干扰过程中形成锯齿状的波形的缺陷，可以持续地稳定工作；具有能长时间保证等离子体的密度，实现连续化生产；既能保证等离子体的密度，也能保证等离子体的均匀度。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及射频
的一种共用一个射频源的多等离子体装置。
技术介绍
射频高功率应用中，终端负载，比如天线、射频等离子腔体、射频加热设备等应用。他们因型号或者使用环境各不相同而呈现不同的负载复阻抗。这样通常与射频功率源的输出阻抗不批配(一般合格的射频功率源输出阻抗为50欧姆)。射频源与匹配器的单一对应使用，在实验室中。单一的，小型设备是没有太大问题。中型，大型工厂。或者现代化的生产线中就会出现功率不均匀，有时严重影响产品的品质。从节能上也造成一定的浪费。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种共用一个射频源的多等离子体装置。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术通过以下技术方案实现共用一个射频源的多等离子体装置，包括射频源，所述射频源通过导线连接有射频源分配器，所述射频源分配器通过导线连接有若干匹配器，每个所述匹配器连接有电极。进一步的，设置有两个所述匹配器。本技术的有益效果是(I)简化了结构，降低了成本；(2)避免了因射频源相互干扰过程中形成锯齿状的波形的缺陷，可以持续地稳定工作；(3)具有能长时间保证等离子体的密度，实现连续化生产；(4)既能保证等离子体的密度，也能保证等离子体的均匀度。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本技术的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。附图说明此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中图I本技术连接关系不意图。图中标号说明1、射频源，2、射频源分配器，3、匹配器，5、电极。具体实施方式下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本技术。参照图I所示，共用一个射频源的多等离子体装置，包括射频源I，所述射频源I通过导线连接有射频源分配器2，所述射频源分配器2通过导线连接有若干匹配器3，每个所述匹配器3连接有电极5。进一步的，设置有两个所述匹配器3。所属的装置为基于单片机的模块化系统，包括负载阻抗实时独立监测模块、W型匹配网络及变量自动控制系统，其中所述负载阻抗实时监测模块包含双定向耦合和信号调理电路，用于实时性测量并提供单片机进行负载阻抗计算的原参数，所述W型匹配网络为由至少4个可调电容构成的原件W型匹配系统。其中，射频源I和射频源分配器2、匹配器3的装置。在射频源I与匹配器3之间是射频源分配器2。电极5在的载体(设备外壳)应接地E.该装置为基于单片机(也称作微处理器，以下均以英文简称MPU。没有图示)的模块化系统，包括负载阻抗实时监测总路。射频源分配器可以均匀性的把能量输送给匹配器3实现均一性。在能量许可的情况下，也可以把根据生产工艺需求，调整射频源分配器的相应参数，实行差额的能量传送。差额的能 量传送单一体现是阶梯状，当然阶梯的差值可以通过分配器进行调整。如果，用于不同的产线、产品、或者不同的工艺。在保证功率许可的范围内，可实现各匹配器的独立性校正。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.共用一个射频源的多等离子体装置，其特征在于包括射频源(I)，所述射频源(I)通过导线连接有射频源分配器(2)，所述射频源分配器(2)通过导线连接有...

【专利技术属性】
技术研发人员：房永峰，张亮，
申请(专利权)人：苏州汇智真空科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：