清洗阵列基底的自动方法技术

本发明专利技术公开了用于清洗阵列基底的方法。所述方法包括将阵列基底与第一清洗溶液相接触以及触发自动清洗过程。所述的自动清洗过程包括：ａ）将阵列基底与第一清洗溶液分离，ｂ）将阵列基底与第二清洗溶液接触，ｃ）在受控条件下于第二清洗溶液中对阵列基底进行保育，ｄ）将阵列基底与第二清洗溶液分离，ｅ）将阵列基底与第三清洗溶液接触，以及ｆ）将阵列基底与第三清洗溶液分离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般地涉及以阵列形式被结合到不可溶基底表面上的生物分子(典型地，所述分子可用于大规模筛选试验)，例如在DNA杂交试验中所使用的DNA样品阵列，所述杂交试验是用于遗传研究和诊断应用的。更具体地，本专利技术涉及。
技术介绍
固定到平面阵列基底上的生物分子，例如肽或寡核苷酸，作为诊断或筛选工具是越来越有用了。此类“微阵列”包括以预定的构型排列于阵列基底上的通常不相同的生物分子的区域。这些区域(有时被称作“特征”或“点”)定位于所述阵列基底的各个位置(地址)上。通过将预先获得的生物分子沉积到阵列基底的表面上，或者通过在所述阵列基底表面对生物分子进行原位合成，可以制造出此类微阵列。所述微阵列暴露于样品时，将显示出可以观察到的结合图案。通过对所述微阵列进行探询或成像能够探测到所述的结合图案。然后对从探询(interrogation)或成像(imaging)过程获得的数据进行分析，以确定关于样品的信息。例如，可以用适当的标记(例如荧光化合物)对样品中所有的多核苷酸目标(例如DNA)进行标记，以在探询或成像过程中提供适当的结合信号，然后可以用寡核苷酸微阵列来检验被标记的样品。与被标记的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗阵列基底的方法，所述方法包括将阵列基底与第一清洗溶液接触，以及触发自动清洗过程，所述自动清洗过程包括ａ）将所述阵列基底与所述第一清洗溶液分离，其中，所述分离消耗少于大约１０秒的时间，ｂ）在将所述阵列基底与所述第一清洗溶液分离之后大约１５秒之内，将所述阵列基底与第二清洗溶液接触，ｃ）在包括时间和温度的受控条件下，于所述第二清洗溶液中对所述阵列基底进行保育，ｄ）将所述阵列基底与所述第二清洗溶液分离，其中，所述分离消耗少于大约１０秒的时间，ｅ）将所述阵列基底与前种清洗溶液分离之后大约１５秒之内，将所述阵列基底与第三清洗溶液接触，和ｆ）将所述阵列基底与所述第三清洗溶液分离，其中所述分离消耗至少...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：阿瑟施莱费尔，
申请(专利权)人：安捷伦科技有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]