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本发明公开了用于清洗阵列基底的方法。所述方法包括将阵列基底与第一清洗溶液相接触以及触发自动清洗过程。所述的自动清洗过程包括：ａ）将阵列基底与第一清洗溶液分离，ｂ）将阵列基底与第二清洗溶液接触，ｃ）在受控条件下于第二清洗溶液中对阵列基底进行保...
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