【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光束斯托克斯參量的測量,特别是ー种光束斯托克斯參量測量装置及測量方法。
技术介绍
193nm浸没式光刻是32nm节点主流光刻技木。在浸没式光刻技术中,采用某种液体填充在物镜最后一片镜片和硅片上的光刻胶之间,使得投影物镜和数据孔径得到了显著的提高,当投影物镜的数值孔径接近I或者更大时,照明光的偏振态对光刻成像的影响已无法忽略。采用合适的偏振光照明能在大数值孔径光刻系统中有效地提高成像对比度。随着浸没式光刻机投影物镜的数值孔径不断増大,采用偏振光照明结合分辨率增强技术成为提闻光刻分辨率、提闻光刻成像质量的有效途径。在偏振光照明技术中,由于偏振控制的需要,应实时检测照明光的偏振信息。目前,最常用的光束偏振态检测技术是通过对光束斯托克斯參量測量来实现的,提高光束斯托克斯參量的測量精度至关重要。在先技术1(參见 D. Sabatke, M. R. Descour, E. I. Dereniak, W. C. Sweatt, S.A.Kemme,and b. S.Phipps, “Optimization of retardance for a completeStokespolarimeter, ”0pt. Lett. 25(11),802-804 (2000))对基于分立旋转波片法的光束斯托克斯參量测量装置进行了优化,采用四个优化的波片快轴角度,从而提高了检测系统的信噪比。该方法为了测量获得光束的全部四个斯托克斯參量,必须至少旋转四次波片,因此无法实现斯托克斯參量的实时测量。在先技术2 (參见 T. Hamamoto, H. Toyota, an ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.ー种光束斯托克斯參量測量装置,其特征在于该装置的构成包括沿系统光轴依次设置的分光棱镜组(2)、相位延迟器阵列(3)、检偏器(4)和光电探测器阵列(5),所述的光电探测器阵列(5)的输出端接信号处理系统(6),所述的光电探测器阵列(5)各単元与所述的相位延迟器阵列(3)各単元一一对应,井根据所述待测光的偏振方向,调整所述的检偏器(4)的透光轴方向与所述待测光束的偏振方向平行及垂直后,分别再进行待测光束的偏振參量测量。2.根据权利要求I所述的光束斯托克斯參量測量装置,其特征在于所述的分光棱镜组(2)为分光比已知的分光棱镜的组合,将一束入射光形成多个出射子光束。3.根据权利要求I所述的光束斯托克斯參量測量装置,其特征在于所述相位延迟器阵列(3)是由四个相同的相位延迟器在同一平面内按四象限排列组成,分别为第一相位延迟器(301)、第二相位延迟器(302)、第三相位延迟器(303)、第四相位延迟器(304);所述的第一相位延迟器(301)、第二相位延迟器(302)、第三相位延迟器(303)、第四相位延迟器(304)的快轴方向与所述的检偏器(4)的透光轴方向夹角0i(i = 1,2, 3,4)分别为-45°、0°、30°和60°,所述相位延迟器产生90°相位延迟量。4.根据权利要求I所述的光束斯托克斯參量測量装置,其特征在于所述的光电探测器阵列(5)为多个光电探测器形成的组合体,或为ニ维面阵探测器,所述的光电探测器阵列(5)各単元与所述的相位延迟器阵列(3)各単元一一对应,是由相同的在同一平面内按四象限排列的第一光电探测器(501)、第二光电探测器(502)、第三光电探测器(503)、第四光电探測器(504)组成。5.利用权利要求I所述的光束斯托克斯參量測量装置进行光束斯托克斯參量测量的方法,其特征在于当已知待测光束(I)的偏振方位角为P时,该方法包括下列步骤 ①调整所述的检偏器(4)的透光轴方向与所述的待测光束(I)的偏振方向垂直,调整所述的相位延迟器阵列(3)使其第一相位延迟器(301)、第二相位延迟器(302)、第三相位延迟...
【专利技术属性】
技术研发人员:汤飞龙,李中梁,王向朝,步扬,曹绍谦,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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