光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置及其测试方法制造方法及图纸

一种光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置及其测试方法，测量装置包括反射镜、针孔板、成像物镜、中继物镜、相位补偿板、1/4波片、1/2波片、沃拉斯顿棱镜、聚焦镜、像传感器。本发明专利技术可以实时监测照明光瞳偏振态的动态变化，直接测量得到每一个归一化的斯托克斯参量，或者每一个斯托克斯参量，1/4波片和1/2波片分别仅有2个定位位置，不需要连续旋转，运动控制简单可靠。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光瞳偏振态测量，特别涉及一种光刻机偏振照明系统的光瞳偏振态测量装置以及测试方法。
技术介绍
光刻机是一种将所需图形转移到涂覆有光敏材料的衬底目标位置上的设备。光刻机可以应用于集成电路（IC）制造、印刷电路板（PCB）制造、液晶面板（LCD）制造等。一般情况下，所需图形是在掩模或掩模版（reticle、mask）上，可以将所需图形转移到衬底（例如，硅片）上的目标位置（例如，包括一个或多个芯片的曝光场）上，所述衬底上涂覆有光敏材料（例如，光致抗蚀剂）。公知的光刻机包括：接触式光刻机，掩模版与衬底直接接触，光源发出光通过掩模版在衬底上曝光完成图形转移；接近式光刻机，掩模版与衬底之间有微米量级的间隙，光源发出光通过掩模版在衬底上曝光完成图形转移；投影式光刻机，掩模版与衬底之间有成像用投影物镜，光源发出光经过照明系统、掩模版、投影物镜在衬底上曝光完成图形转移。投影式光刻机的投影物镜是将掩模版上的图形成像在衬底上，其倍率一般为缩小10倍、5倍、4倍、1倍等。公知的投本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，包括反射镜、针孔板、成像物镜、中继物镜、相位补偿板、1/4波片、1/2波片、沃拉斯顿棱镜、聚焦镜、像传感器，其特征在于光刻机照明系统的偏振光束入射到所述反射镜上，被反射到与照明系统光轴垂直的方向，投射到所述针孔板上，通过针孔的光束再经过所述成像物镜和所述中继物镜准直成平行光束，通过所述相位补偿板、所述1/4波片、所述1/2波片，投射到所述沃拉斯顿棱镜上，被所述沃拉斯顿棱镜分成2束光，经过所述聚焦镜投射到所述像传感器上，所述像传感器采用CCD相机。

【技术特征摘要】
1.一种光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，包括反射镜、针孔板、成像
物镜、中继物镜、相位补偿板、1/4波片、1/2波片、沃拉斯顿棱镜、聚焦镜、像传
感器，其特征在于光刻机照明系统的偏振光束入射到所述反射镜上，被反射到与照
明系统光轴垂直的方向，投射到所述针孔板上，通过针孔的光束再经过所述成像物
镜和所述中继物镜准直成平行光束，通过所述相位补偿板、所述1/4波片、所述1/2
波片，投射到所述沃拉斯顿棱镜上，被所述沃拉斯顿棱镜分成2束光，经过所述聚
焦镜投射到所述像传感器上，所述像传感器采用CCD相机。
2.如权利要求1所述的光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，其特征在于，
所述反射镜将偏振照明系统的汇聚到某一视场点的光束转折到所述针孔板的针孔位
置，将所述光瞳偏振态测量装置整体置于一个XY移动平台上，通过所述XY移动
平台的移动测量所有视场点的光瞳偏振态。
3.如权利要求1所述的光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，其特征在于，
所述针孔板的位置与掩模版图形面位置呈现镜像位置关系，通过所述针孔板上的针
孔选定照明视场某个位置的照明光束进行偏振态测量，针孔板选择低热膨胀系数的
熔石英材料，针孔图案由一层金属铬形成，针孔的直径一般为0.1mm～1mm。
4.如权利要求1所述的光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，其特征在于，
所述成像物镜和所述中继物镜将通过针孔的照明光束准直成平行光束，所述中继物
镜将照明系统的光瞳成像在所述相位补偿板平面上。
5.如权利要求1所述的光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，其特征在于，
所述相位补偿板是一种组合相位补偿板，针对不同的照明设置有不同的组合配置，
将不同的照明光瞳偏振态分布转化为X向线偏振或Y向线偏振。
6.如权利要求1所述的光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置，其特征在于，
所述1/4波片和所述1/2波片对输入被测光束按照预定方式进行光强...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡燕民，李中梁，步扬，王向朝，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31