用于制造离子传导膜的等离子体喷涂方法技术

提供用于制造离子传导膜的等离子体喷涂方法，该离子传导膜具有离子传导性，在该方法中，该膜在工艺室中以层（11）形式沉积到基底（10）上，其中原材料（P）借助工艺气体（G）以工艺束（2）形式喷涂到基底（10）表面上，其中原材料在最多10,000Pa的低工艺压力下注射到等离子体中并在此部分或完全熔融。在喷涂过程中以相当于工艺气体总流速的至少1%，优选至少2%的流速向工艺室（12）供应氧（O2；22）。?

【技术实现步骤摘要】
用于制造离子传导膜的等离子体喷涂方法本专利技术涉及根据独立专利权利要求的前序部分的用于制造离子传导膜的等离子体喷涂方法。离子传导膜是对特定离子具有高选择透过性的膜，例如对氧具有高选择透过性并对其它气体基本不可透的透氧膜层。相应地，这样的膜用于从气体混合物或流体混合物中提取或提纯氧。这样的膜可以由多种材料制造，例如它们可以包括具有特定化学组成并形成特定相的复合氧化物材料。特别地，包含(composedof)钙钛矿型氧化物并以薄、致密（这意味着非多孔）层形式制造的陶瓷膜是已知的。这样的膜例如具有对氧的离子传导性以及电子传导性。研究和目前用于制造透氧膜的材料是具有钙钛矿结构并除氧外还包括元素镧（La）、锶（Sr）、钴（Co）和铁（Fe）的陶瓷。根据这四种元素的第一个字母，该物质通常被称作LSCF。由此类材料制成的透氧膜或一般而言离子传导膜可以例如借助陶瓷的传统制造技术，例如压制、流延成型（tapecasting）、粉浆浇铸或烧结，或借助热喷涂制造。对后者而言，在真空中进行的热喷涂法特别合适，这通常意味着该喷涂法在小于环境压力（正常空气压力）的工艺压力下进行。特别地，热低压等离子体喷涂方法或真本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.03.23 EP 11159374.51.用于制造具有离子传导性的离子传导膜的等离子体喷涂方法，在该方法中，该膜在工艺室中以层（11）形式沉积到基底（10）上，其中原材料（P）借助工艺气体（G）以工艺束（2）的形式喷涂到基底（10）的表面上，其中该原材料在最多10,000Pa的低工艺压力下注射到等离子体中并在此部分或完全熔融，其特征在于在喷涂过程中以相当于工艺气体总流速的至少1%的流速向工艺室（12）供应氧（O2；22）。2.根据权利要求1的方法，其中该等离子体使工艺束（2）散焦和加速。3.根据权利要求1的方法，其中将该工艺室（12）中的工艺压力设定为至少50Pa和最多2000Pa的值。4.根据权利要求1的方法，其中该原材料（P）是化学组成与层（11）的化学组成相同的粉末。5.根据权利要求1的方法，其中该原材料（P）是相组成与层（11）的相组成相同的粉末。6.根据权利要求1的方法，其中形成该膜的层（11）包含钙钛...

【专利技术属性】
技术研发人员：M金德拉特，RJ达马尼，
申请(专利权)人：苏舍市场及技术有限公司，
类型：发明
国别省市：