一种等离子体源阳极冷却结构制造技术

技术编号:11408050 阅读:101 留言:0更新日期:2015-05-06 07:22
本发明专利技术公开了一种等离子体源阳极冷却结构,涉及等离子体源技术领域。本发明专利技术包括阳极本体(1),所述阳极本体(1)内部设置有冷却通道(2);所述阳极本体(1)上设置有进气口(3)和出气口(4);所述进气口(3)和出气口(4)分别与冷却通道(2)连通;所述冷却通道(2)上设置有冷却结构(21)。本发明专利技术可以实现等离子体源的自冷却,且利用阳极冷却过程中释放的热量,加热工作气体,减小电弧通道内外工作气体压力,稳定等离子体射流。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种等离子体源阳极冷却结构,包括阳极本体(1),其特征在于:所述阳极本体(1)内部设置有冷却通道(2);所述阳极本体(1)上设置有进气口(3)和出气口(4);所述进气口(3)和出气口(4)分别与冷却通道(2)连通;所述冷却通道(2)上设置有冷却结构(21)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王鹏飞黄佳华王井楠杨超赵华任琼英李向阳李露
申请(专利权)人:成都真火科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川;51

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