用于触摸面板的板件及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种用于触摸面板的板件及其制造方法。所述用于触摸面板的板件包括：透明衬底；在所述透明衬底上的中间透明层；以及在所述中间透明层上的导电透明层，其中，所述中间透明层和所述导电透明层中的至少一层包括过氧化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及一种。
技术介绍
在最近的各种电子产品中，应用一种触摸面板，该触摸面板利用这样的输入方法，即，通过使用手指或诸如触控笔的输入设备来接触显示在显示设备上的图像。触摸面板可以分为电阻层式触摸面板和静电电容式触摸面板。在电阻层式触摸面板中，当电极由于输入设备的压力而短路时，检测到位置。在静电电容式触摸面板中，当电极之间的静电电容由于手指接触而变化时，检测到位置。参照图4，电阻层式触摸面板或静电电容式触摸面板包括通过图案化导电透明层形成的感应图案110。在形成感应图案的图案化过程中使用的刻蚀溶液会导致产生污点或薄雾120。这是因为用于图案化过程的刻蚀溶液是向盐酸中加入乙醇酸或醋酸得到的强混合酸。此外，该强酸的刻蚀溶液会损坏导电透明层和中间透明层(例如，SiO2层)，因而在中间透明层中的裂纹会扩展到导电透明层，从而使其耐用性降低。
技术实现思路
技术问题本专利技术提供一种，所述板件除了防止产生污点之外还提高了电特性和光特性，并且提高了耐用性。技术方案在一个实施例中，一种用于触摸面板的板件包括透明衬底；在所述透明衬底上的中间透明层；以及在所述中间透明层上的导电透明层，其中，所述中间透明层和所述导电透明层中的至少一层包括过氧化合物。所述中间透明层可以包括具有SiO3和SiO4中至少一种的过氧化合物。所述导电透明层可以包括氧进一步与氧化铟锡(ITO)键合的过氧化合物。所述中间透明层包括具有3103和SiO4中至少一种的过氧化合物，并且所述导电透明层包括氧进一步与氧化铟锡(ΙΤ0)键合的过氧化合物。所述透明衬底可以是塑料片或塑料膜。一种用于触摸面板的板件的制造方法，包括在透明衬底上形成中间透明层；以及在所述中间透明层上形成导电透明层，其中，所述中间透明层和所述导电透明层中的至少一层包括过氧化合物。所述中间透明层可以包括过氧化合物。所述方法可以进一步包括在形成所述中间透明层之前，通过将氧气注入到氧化物气体中，形成过氧化合物；以及在形成所述中间透明层的过程中，通过在所述透明衬底上沉积所述过氧化合物来形成所述中间透明层。所述形成所述过氧化合物的步骤可以包括通过将氧气注入到SiO2气体中，生成具有SiO3和SiO4中至少一种的过氧化合物。所述导电透明层可以包括过氧化合物。所述形成所述导电透明层的步骤可以包括通过将氧气注入到氧化物气体中，形成过氧化合物；以及在所述中间透明层上沉积所述过氧化合物。所述形成所述导电透明层的步骤可以包括通过将氧气注入到ITO气体中，生成与更多氧键合的ITO过氧化合物；以及在所述中间透明层上沉积所述ITO过氧化合物。 所述透明衬底是塑料片或塑料膜。在以下附图和说明书中将详细描述一个或多个实施例。从说明书、附图和权利要求中，其它特征将显而易见。有益效果根据本专利技术，可以防止导电透明层的图案之间产生污点或薄雾，并且提高中间透明层的耐用性。因此，可以提高触摸面板的电特性和光特性。附图说明图I是根据第一实施例的用于触摸面板的板件的剖视图；图2是图示根据一个实施例的用于触摸面板的板件的制造方法的流程图；图3是将根据对比例的用于触摸面板的板件浸入刻蚀溶液之后的示意图；以及图4是现有技术的触摸面板的俯视图。具体实施例方式在实施例的描述中，应该理解，当层(或膜)、区域、图案或结构被表述为在衬底、层 (或膜)、区域或图案“上面/上方”或“下面/下方”时，它可以是直接在所述衬底、所述层(或膜)、所述区域或所述图案“上面/上方”或“下面/下方”，也可以存在中间层。将基于附图描述每个层的“上面/上方”或“下面/下方”。在附图中，为了清楚和方便，可以修改每个层(或膜)、区域、图案或结构的厚度或尺寸，因此不完全反应其实际尺寸。在下文中，将参照附图详细描述实施例。图I是根据第一实施例的用于触摸面板的板件的剖视图。参照图1，用于触摸面板的板件包括透明衬底210、中间透明层220和导电透明层230。尽管附图中所示的导电透明层230未被图案化，但是也可以图案化导电透明层230，并且这也在本专利技术的范围之内。更详细地，透明衬底210是塑料片或塑料膜。例如，所述塑料材料可以使用丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯树脂(Polyrthylene napthalate resin)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂、聚丙烯树脂、聚芳基树脂(Poly aryl resin)、聚醚砜(PES)树月旨、聚甲基戍烯(Poly Methly Pentene)树脂、聚醚醚酮(Poly Ether Ether Ketone)树脂、聚砜(PSF)树脂、醋酸纤维素(Acetic cellulose)树脂、非晶聚烯烃(Amorphouspolyolefin)树脂、聚乙烯树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚酰胺树脂、PAI (Polyamide-imide,聚酰胺酰亚胺)树脂、PPS(PolyphenyIene sulfide,聚苯硫醚)树脂、PEI(polyether-imide,聚醚酰亚胺)树脂、烯烃树脂、乙烯树脂和氟树脂。此外，透明衬底210上的中间透明层220是氧与透明氧化物(例如，诸如Si02、A1203、SiO、In03、HfO2, Pb5O11, TiO2和Ta2O5等氧化物)进一步键合的化合物。在下文中，在整个说明书中，氧与透明氧化物进一步键合的化合物被称为过氧化合物。这里，所述键合包括各种化学键合(其中氧可以键合)，诸如离子键合、共价键合、金属键合和配价键合。例如，由过氧化合物形成的中间透明层220可以包括SiO3或SiO4层。中间透明层220具有比现有技术 的SiO2层改进的耐化学性和耐用性的结构。更详细地，就诸如SiO2的氧化物的透明电介质而言，由于增加了预定量的氧含量，原子与氧原子之间的键角增大，因此晶体结构缩小并且变得稠密。另外，由于增加了与氧原子的键合，因此增大了透明度。此外，导电透明层230形成在中间透明层220上，并且导电透明层230可以是氧化铟锡(ΙΤ0)。这里，氧还可以与ITO层键合。与此类似，由于ITO层中加入了预定量的氧，可以提闻电导率。下面将参照图2更详细地描述上述板件的制造方法。图2是图示根据一个实施例的用于触摸面板的板件的制造方法的流程图。参照图2，在操作SI中，通过将氧气注入氧化物气体中来产生过氧化合物。例如，将氧气注入到诸如SiO2气体的氧化物气体中，由此生成SiO3或SiO4过氧化合物。接着，在操作S2中，将过氧化合物沉积在透明衬底上，以形成中间透明层。接着，在操作S3中，在中间透明层上形成导电透明层。这里，导电透明层可以是ITO层。此时，ITO层可以进一步与氧键合。根据将更多氧与ITO层键合的方法，在通过将氧气注入到ITO气体中而与更多氧键合的ITO过氧化合物形成之后，可以将ITO过氧化合物沉积在中间透明层上。在下文中，将根据实施例更详细地描述本专利技术。对实施例1、2和3以及对比例中的光学性质(诸如雾度和透射率)和表面损坏进行实验，并且将它们的结果列在表I中。实施例1、2和3包括分别通过将2 3%、7%和15%的氧气注入到SiO2层中而形成的各个中间透明层。对比例包括仅由SiO2形成的中间透明层。此时，在45°C的温度下，在将根据实施例1、2和3的板件浸入刻蚀溶液I分钟之后，确定表面损坏。然后，在图3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金炳秀，李勤植，赵志元，洪赫振，徐忠源，
申请(专利权)人：LG伊诺特有限公司，
类型：发明
国别省市：