干式清洁容器和干式清洁设备制造技术

本发明专利技术公开了一种干式清洁容器和干式清洁设备，其通过促使清洁媒介借助于气流飞扬并接触清洁对象而清洁清洁对象。干式清洁容器包括内部空间，清洁媒介被促使飞扬在其中；开口，其与清洁对象相接触从而使得清洁媒介与清洁对象相碰撞；通风通道，来自外部的空气通过其被传递到内部空间；吸入开口，其被设置以在内部空间中产生旋转气流，借助于吸入通过通风通道被引导进入内部空间的空气；多孔单元，其被设置以传递去除的物质，其被从清洁对象上去除，到吸入开口的一端；以及加湿单元，其被设置以在清洁媒介飞扬的区域中增加湿度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种干式清洁设备，其用于通过促使飞扬的清洁媒介接触(碰撞)清洁对象而清洁该清洁对象，以及更具体地涉及ー种干式清洁设备，其能够通过被应用到清洁对象的任意部分而清洁清洁对象，并且作为手持型设备尤其可取，以及ー种干式清洁容器，其被用于干式清洁设备中。
技术介绍
近年来，在使用流动焊接箱用于制造印刷电路板焊接过程中，用于掩模经历焊接过程的区域之外的区域的夹具被经常使用。当此类型的掩模板夹具(被提及为浸板或载板)被反复地使用时，助焊剂被积聚并被固定到表面上，其降低了掩模板的精度。因而，掩模板夹具需要被定期地清洁。通常地，掩模板夹具通过被浸泡在溶剂中而被清洁，并因而大量的溶剂被消耗。从而，成本不可避免地增加，并且相当大的工作量被施加给工人。目前已知ー种方法，其将溶剂喷洒到在设备中的清洁对象上，而不是将清洁对象浸泡在溶剂中。然而，此方法也使用了大量的溶剤。作为解决该问题的技木，目前已知ー种干式清洁设备，其通过促使飞扬的清洁媒介接触清洁对象而清洁清洁对象。专利文献I和2披露了以下的清洁方法。具体地，开ロ被提供在圆柱形容器的侧表面上，且借助于压缩空气流所形成的旋转气流，清洁媒介被促使在容器中的圆周方向上飞扬，以促使清洁媒介与和开ロ相接触的清洁对象碰撞。然而，在此方法中，旋转气流由压缩空气流所形成，且因而当清洁对象与开ロ相分离时，清洁媒介泄露到容器外。为解决此问题，在专利文献I中，网元件被提供在开ロ处以防止清洁媒介泄露到外面。然而，在此构造中，出现了新的问题例如清洁媒介与清洁对象相碰撞的能量減少，以及由于清洁媒介被捕获在网元件中而清洁能力减弱。专利文献2披露了ー种方法，其提供了用于阻挡开ロ的开/闭盖，以避免清洁媒介泄露到外面。然而，当清洁对象与该盖相分离时，工人需要迅速地移动开/闭盖以阻挡开ロ。因此，工人需要更加专心而且工人的工作量増加了。此外，机械结构是复杂和难以操作的，而且容易故障损坏。鉴于上述情况，本申请的申请人提出了以下的干式清洁设备。具体地，在吸入単元被连接到该容器且开ロ被清洁对象所阻挡的状态中，薄片形式的清洁媒介借助于由空气流所产生的旋转气流而被促使在容器内侧飞扬，所述空气流从外面经由通风通道流动到容器里面。此外，网式多孔単元被提供在该容器内侧，其允许气体和灰尘通过但不允许清洁媒介通过。因此，清洁媒介停留在旋转气流形成区域，从而使得借助于旋转气流清洁媒介被促使连续不断地飞扬并循环(日本专利申请第2010-175687号)。按照这种干式清洁设备，即使清洁对象与开ロ相分离，在通风通道中的压カ也变得和大气压力相同，并因而旋转气流消失。此外，大量的外部空气因抽吸所产生的负压而通过开ロ进入容器，并因而在容器内的清洁媒介被吸入到多孔元件中并停留在容器内，从而使得清洁媒介不会从开ロ泄露到外面。由本申请的申请人提交的上述在先申请通过以下构造清洁清洁对象。如图8中所示，吸入単元6抽吸容器4的内部，容器4的开ロ 18被清洁对象20阻挡，且容器4内部的压カ被转化为负压，从而使得外部空气通过入口 24以高速流入容器4内，并且产生旋转气流30。从而，清洁媒介5被促使飞扬并与在开ロ 18处发清洁对象20的清洁表面碰撞。旋转气流30的流动路径的横截面积被流动路径限制元件16所限定。在开ロ 18被阻挡之前，清洁媒介5被吸取功能吸入到作为多孔単元的分离板14，并被容纳在容器4内。按照此构造，工人能够通过将它拿在手里而移动该容器，并且清洁对象20上的所需要的位置能够被局部地清洁。因而，清洁能够以高的自由度而被执行。然而，因为此设备是具有灵活性的手持型，在此类型的干式清洁设备的干式清洁容器中，清洁媒介通过高速旋转的气流被促使在有限的、狭窄的空间中飞扬。从而，引起多种类型的摩擦/碰撞。例如，清洁媒介与清洁对象碰撞，多片清洁媒介相互碰撞,并且清洁媒介与容器的内壁相接触。因而,在此清洁机构中,清洁媒介往往是带电的。特别地，在如冬天这种具有低湿度的环境中中，已引起以下的问题。具体地，当清洁媒介的电荷水平(电荷电势)增长时，清洁媒介借助于静电附着到多孔単元(分离板)，其是用于克服吸入作用而将清洁媒介容纳在容器内。从而，吸入作用变得被阻止并且容器内部的负压减小，其减小了旋转气流的速度。在此状态中，清洁媒介的飞扬速度减小，并且清洁能力迅速减弱。带电的清洁媒介不仅仅吸附到分离板上，也吸附到容器的内壁上。通过静电而吸附的清洁媒介并不飞扬，即使负压被正常地維持且强的旋转气流被形成。从而，适合于从清洁对象上去除污垢(粉尘)的飞扬的清洁媒介的量变得不足。在此情形中同样地，清洁能カ减弱。专利文献1 :日本公开特许公报第H4-83567号专利文献2 :日本公开特许公报第S60-188123号专利文献3 :日本公开特许公报第2010-279947号
技术实现思路
本专利技术提供了ー种干式清洁容器和一种干式清洁设备，其中ー个或多个上述缺点被消除。本专利技术的优选实施例提供了ー种干式清洁容器和一种干式清洁设备，其能够解决由摩擦充电(因摩擦而带电)所引起的问题，该摩擦充电通常发生在具有上述狭窄飞扬空间的干式清洁设备中。根据本专利技术的ー个方面，提供有ー种干式清洁容器，其通过借助于气流促使清洁媒介飞扬并接触清洁对象来清洁清洁对象，该干式清洁容器包括内部空间，清洁媒介被促使在该内部空间中飞扬；开ロ，该开ロ与清洁对象相接触从而使得清洁媒介与清洁对象相碰撞；通风通道，来自外部的空气通过该通风通道被传递到内部空间；吸入开ロ，该吸入开ロ被设置成借助于吸入通过通风通道被引导进入内部空间的空气以在内部空间中产生旋转气流；多孔単元，该多孔単元被设置成将从清洁对象上去除的物质传递到吸入开ロ的一端；以及加湿単元，其被设置成増加在清洁媒介飞扬的区域中的湿度。附图说明从以下的详细描述并当与附图联系在一起阅读时，本专利技术的其它目的、特征和优点将变得更加明显，其中图1是示出根据本专利技术的第一实施例的干式清洁容器的使用状态的示意的侧面视图；图2是包括图I中所示的干式清洁容器的干式清洁设备的相应部分的水平截面图和垂直截面图；图3是清洁媒介制放出ロ的位置的改进的相应部分的水平截面图和垂直截面图；图4是当干式清洁设备被使用时，指示开ロ的密封状态的相应部分的放大的截面图；图5是示出根据本专利技术的第二实施例的干式清洁容器的使用状态的示意的侧面视图；图6是示出根据本专利技术的第三实施例的干式清洁容器的使用状态的示意的侧面视图；图7是示出根据本专利技术的第四实施例的干式清洁容器的使用状态的示意的侧面视图；图8表示根据本专利技术的实施例的干式清洁设备的基本构造的示意的截面图；图9A和9B不出该干式清洁设备的清洁作业；以及图10不出该干式清洁设备的使用状态。具体实施例方式本申请中的术语的定义被描述于下文。本专利技术的实施例中的容器是具有空间的容器，该空间被成形而使得旋转气流能够被容易地产生于其中。通过其能够被容易地产生旋转气流的形状具有连续的内壁，气流能够沿着该连续的内壁流动和循环。更优选地，内壁或内部空间被成形为一回转体。通风通道是用于促进气流在固定的方向上流动的ー种手段，且通常是具有光滑内表面的管。然而，通风通道可以是用于控制流动路径的具有光滑表面的板，因而这样的板也能够促进流体在沿着它的表面的方向上的流动并实现调整效果。此外，通风通道通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.02.25 JP 2011-040588;2011.10.13 JP 2011-226061.ー种干式清洁容器，其通过促使清洁媒介借助于气流飞扬并接触清洁对象来清洁清洁对象，该干式清洁容器包括 内部空间，所述清洁媒介被促使在该内部空间中飞扬； 开ロ，该开ロ与清洁对象相接触从而使得清洁媒介与清洁对象相碰撞； 通风通道，来自外部的空气通过该通风通道被传递到内部空间； 吸入开ロ，该吸入开ロ被设置成借助于吸入通过通风通道被引导进入内部空间的空气，在内部空间中产生旋转气流； 多孔単元，该多孔単元被设置成将从清洁对象上去除的被去除物质传递到吸入开ロ的一端；以及 加湿単元，该加湿単元被设置成在清洁媒介飞扬的区域中増加湿度。2.根据权利要求I的干式清洁容器，其中 所述加湿单元从旋转气流的外周缘侧喷射水分。3.根据权利要求2的干式清洁容器，其中 所述加湿単...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本洋一，渕上明弘，塚原兴治，村田省藏，种子田裕介，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：