【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ー种集尘机构，尤其是ー种能够有效地改善镭射机台集尘效果的镭射设备集尘机构
技术介绍
镭射设备对玻璃进行刻蚀的工作原理是激光头做横向移动，工作平台做纵向移动，且工作平台的移动速度达到1000mm/s ;在刻蚀过程中，膜层产生气化，微爆，从而达到刻蚀的目的。在此过程中如果集尘效果不好，将使刻蚀下来的异物，以很高的速度侵蚀镭射设备，会导致镭射设备部件的更换频度增高，影响设备的使用寿命。
技术实现思路
本技术针对现有技术的不足，提供一种镭射设备的集尘机构，其能够有效地改善镭射机台的集尘效果，減少激光刻蚀后颗粒抛射对镭射设备造成的侵蚀。为实现以上的技术目的，本技术将采取以下的技术方案一种镭射设备的集尘机构，包括用于置放待刻蚀玻璃板的镭射工作平台，其特征在于，所述镭射工作平台为敞ロ端向上设置的半封闭槽，待刻蚀玻璃板与半封闭槽的敞ロ端封接，且半封闭槽的侧壁开设进气ロ，而半封闭槽的槽底开设吸尘ロ ；所述吸尘ロ与抽吸装置的输出端相连接，而进气ロ则与干洁气源输入装置的输入端连接。所述吸尘ロ至少为两组，且各吸尘ロ等间距设置于半封闭槽的槽底。所述进气ロ为开度可调的进气ロ。根据以上的技术方案，可以实现以下的有益效果本技术在工作平台边缘放置进气ロ，当玻璃到达工作平台，并固定，后玻璃下方将形成密闭空间，如果没有进气ロ，那么刻蚀下的异物只受到重力，及工作平台加速度的影响，而吸尘ロ的位置是固定的，而且吸尘ロ吸力不足(不宣吸カ过大，过大将影响平台上的玻璃的屈服度)，所以大部分的异物将落到平台上和吸附到四壁上。而增加可调节进气量的进气ロ，可以在密闭空间内形成环流，对惯性力作为主要动カ的刻蚀...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镭射设备的集尘机构，包括用于置放待刻蚀玻璃板的镭射工作平台，其特征在于，所述镭射工作平台为敞ロ端向上设置的半封闭槽，待刻蚀玻璃板与半封闭槽的敞ロ端封接，且半封闭槽的侧壁开设进气ロ，而半封闭槽的槽底开设吸尘ロ ；所述吸尘ロ与抽吸装置的输出端...
【专利技术属性】
技术研发人员：李志锋，权永春，陈亮，
申请(专利权)人：江苏综艺光伏有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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