双柔性磨头磁流变抛光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种双柔性磨头磁流变抛光装置，所述装置中床身的竖直龙门和X轴均固定在水平底座上，工作台固定在X轴的滑块上，Y轴固定在竖直龙门的横梁上，第一Z轴、第二Z轴并排设置Y轴上。大柔性磨头安装在第一Z轴上，小柔性磨头安装在第二Z轴上。与大柔性磨头相连的大流量循环系统和与小柔性磨头相连的小流量循环系统设置在小车上。控制柜设置在竖直龙门的后面，循环系统柜以及清洗系统设置在竖直龙门的侧面。本发明专利技术的双柔性磨头磁流变抛光装置精度高、刚度高、稳定性高、动态性能高，不仅可用于大口径位相类元件的加工，而且可用于大口径平面类光学元件在全口径范围内的高精度加工，能够实现加工效率与加工精度的最优匹配。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学制造领域，具体涉及一种双柔性磨头磁流变抛光装置，特指一种用于对大口径、高精度位相类光学元件进行磁流变抛光的双柔性磨头磁流变抛光装置。
技术介绍
大口径连续位相板(Continuous Phase Plate, CPP)是一种新型的具有连续波面 深浮雕拓扑结构的位相类光学元件，主要用于大型激光装置的靶面焦斑整形与光强控制。与传统的随机位相板(Random Phase Plate, RPP)、相息位相板(Kinoform Phase Plate,KPP)以及分布相位板(Distribution Phase Plate, DPP)等位相类元件相比，CPP具有更高的能量利用率、更精确的焦斑形态控制特性，被认为是实现大型激光装置光束匀滑最有效的解决方案。CPP通常采用石英材料制作、大小为430mmX 430mm、波面严格连续且面形误差RMS彡30nm、幅值PV彡10 μ m、周期L彡5mm。CPP的这种“低面形误差、大轮廓深度与小空间周期”浮雕波面结构使其精密制造异常困难，传统的位相元件制造技术，例如多掩模套亥IJ、无掩模直写、灰阶掩模以及刻蚀成型技术均无法满足大口径CPP本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何建国，许乔，黄文，王洋，吉方，王亚军，陈东生，唐小会，王健，郑永成，魏齐龙，罗清，刘坤，吴祉群，肖虹，张云飞，王新宽，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所，
类型：发明
国别省市：