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一种高压辅助激光解吸离子化质谱分析离子源制造技术

技术编号:7601054 阅读:181 留言:0更新日期:2012-07-22 03:08
本实用新型专利技术公开了一种高压辅助激光解吸离子化(HALDI,High?Voltage?Assisted?Laser?Desorption?Ionization)质谱分析离子源,包括激光器、支架、控温板、高压电源和至少一个表面导电的样品表面,控温板水平固定在支架上,样品表面平放在控温板上并与控温板绝缘,高压电源与样品表面电连接,激光器位于样品表面上方。本实用新型专利技术操作简便、快速,在正、负离子分析模式下均可以得到较好的样品信号,并可连续分析多个样品;通过样品表面控温,还可以考察样品在不同温度下的信号响应,以及获得反应的热力学和动力学数据等。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学分析领域,尤其涉及一种高压辅助激光解吸离子化质谱分析离子源
技术介绍
离子源是质谱仪的核心部件之一,其作用是将样品转变成气相的离子。目前,常见的质谱离子源主要有电子轰击电离源(EI)、化学电离源(Cl)、快原子轰击源(FAB)、电喷雾电离源(ESI)、大气压化学电离源(APCI)、基质辅助激光解吸电离源(MALDI)等。这些离子源的离子化机理不同,分别适用于离子化不同类型的化合物,得到相应化合物的分子离子及其碎片离子。这些离子源大多需要在真空条件下使用或者在測定前需要繁琐的预处理过程,不能够在样品原有状态下对其进行连续、实时、高通量分析。近年来,出现了以解吸电喷雾离子化(DESI)和直接实时分析(DART)技术为代表的多种新型常压敞开式离子源,它们将样品的常压解吸附技术与其离子化方法相结合,从而不需任何(或很少)的样品预处理,就可对样品进行直接快速分析。在各种新型常压敞开式离子源中,基于激光解吸附技术的离子源因其独具的优势而受到了广泛的关注。一方面激光能瞬时给样品表面提供较高的能量,有利于蛋白质、DNA 等大分子物质的解吸附;另一方面激光有较高的空间分辨率,适合于材本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张成森罗海任昕昕刘佳
申请(专利权)人:北京大学
类型:实用新型
国别省市:

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