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本实用新型公开了一种高压辅助激光解吸离子化(HALDI，High?Voltage?Assisted?Laser?Desorption?Ionization)质谱分析离子源，包括激光器、支架、控温板、高压电源和至少一个表面导电的样品表面，控温...
该专利属于北京大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京大学授权不得商用。

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