本发明专利技术一实施例提供一种透镜模块及其形成方法，该透镜模块包括：一第一透镜组，包括：一第一图案化基底；一第一凹陷，形成自该第一图案化基底的一第一表面；一第一透镜元件，设置于该第一凹陷之中；以及一第二透镜元件，设置于该第一图案化基底之上，其中该第二透镜元件对齐于穿过该第一透镜元件的一光轴。本发明专利技术的透镜元件可全部或至少部分对齐于相同的光轴。
【技术实现步骤摘要】
本披露涉及透镜模块，尤其涉及具有图案化基底的。
技术介绍
微光学构件(micro-optical components)(例如，一维及/或二维透镜组)一般用于例如是透镜模块的元件中。便携式电子产品的透镜模块的设计与制造非常具有挑战性。 一些挑战性因素包括高生产量、固定价钱损耗、尺寸限制、效能改变、及功能需求。图1显示公知图像透镜模块的剖面图。请参照图1，公知图像透镜模块10包括 第一双平行面基底(plano-plano substrate) 12，其具有形成于基底12的两侧上的第一透镜14及第二透镜16 ；第二双平行面基底22，其具有形成于基底22的两侧上的第三透镜M 及第四透镜26 ；以及夹置于第一基底12与第二基底22之间的间隔物(spacer) 36。可于第二透镜16上形成黑色阻光层(black yard coating (layer)) 18以作为光圈(aperture)。 可于第四透镜26上形成抗反射膜(antireflection film08。间隔物36可分离第一基底 12及第二基底22，使其间隔有预定间隙(predetermined gap)。此外，分别于第一基底12 的前表面上及第二基底22的背表面上形成间隔物34及38。于间隔物(34、36、38)与基底 (12,22)之间使用堆叠胶(stacking glue) 32。一般而言，当堆叠与对准图像透镜模块10时，使用封装技术。公知封装的透镜模块遭遇一些问题，例如间隔物造价昂贵、所使用的基底受限、间隔物厚度不精确、透镜模块的光学中心因间隔物工艺而造成对不准。
技术实现思路
为了解决现有技术的问题，本专利技术一实施例提供一种透镜模块，包括一第一透镜组，包括一第一图案化基底；一第一凹陷，形成自该第一图案化基底的一第一表面；一第一透镜元件，设置于该第一凹陷之中；以及一第二透镜元件，设置于该第一图案化基底之上，其中该第二透镜元件对齐于穿过该第一透镜元件的一光轴。本专利技术一实施例提供一种透镜模块的形成方法，包括形成一第一透镜组，该第一透镜组的形成包括提供一第一基底，具有一第一表面及一第二表面；自该第一基底的该第一表面移除部分的该第一基底以形成一第一凹陷；将一第一透镜元件设置于该第一凹陷之中；以及将一第二透镜元件设置于该第一基底之上，其中该第二透镜元件对齐于穿过该第一透镜元件的一光轴。本专利技术的透镜元件可全部或至少部分对齐于相同的光轴。 附图说明图1显示公知图像透镜模块的剖面图。图2A-图2D显示根据本专利技术实施例，对基底进行处理的剖面图。图3A-图3C显示根据本专利技术实施例的各种图案化基底。图4A-图4F显示根据本专利技术实施例，于图案化基底上形成透镜的剖面图。图5显示根据本专利技术实施例，堆叠两图案化基底，并接着将其切割成多个独立的透镜模块的立体图。图6根据本专利技术一实施例的透镜组的剖面图。图7根据本专利技术一实施例的堆叠透镜模块的剖面图。图8A-图8D图显示根据本专利技术一实施例的透镜组的工艺剖面图。图9A-图9E显示根据本专利技术另一实施例透镜组的工艺剖面图。图IOA-图IOE显示根据本专利技术又一实施例的透镜组的工艺剖面图。图IlA-图11Z、图IlAA显示根据本专利技术实施例的堆叠透镜模块的剖面图。其中，附图标记说明如下10 透镜模块；12 基底；14、16 透镜；18 黑色阻光层；22 基底；24、26 透镜；28 抗反射膜；32 堆叠胶；；34、36、38 间隔物；100、100a、100b、101a、IOlbUOlc 基底；103a、103b 中间区域；105a、105b、105c 墙；IlOaUlOb 开口；122、124 透镜元件；200 透镜组；201 墙；203 中间区域；212、214 透镜元件；216 抗反射层；218 黑色阻光层；221 墙；223 中间区域；232 透镜元件；234 抗反射层；235 粘着层；300 透镜模块；400 基底；401 中间区域；403、405 墙；407 开口(或凹陷)；410,410' 光致抗蚀剂层；412、414 透镜元件；416 抗反射层；418 黑色阻光层；422 粘着层；似4 间隔物；500a、500a，、500b、500b，、500c、500c，、500d 透镜组；501 基底；502 透镜元件；503、503b、503c、503d 基底；504,506,508 透镜元件；512 黑色阻光层；514、516 抗反射层；602 粘着层；604、606、608 间隔物；H” H2、H3 厚度。具体实施例方式以下将详细说明本专利技术实施例的制作与使用方式。然应注意的是，本专利技术提供许多可供应用的专利技术概念，其可以多种特定形式实施。文中所举例讨论的特定实施例仅为制造与使用本专利技术的特定方式，非用以限制本专利技术的范围。此外，在不同实施例中可能使用重复的标号或标示。这些重复仅为了简单清楚地叙述本专利技术，不代表所讨论的不同实施例及/ 或结构之间必然具有任何关连性。此外，当述及一第一材料层位于一第二材料层上或之上时，包括第一材料层与第二材料层直接接触或间隔有一或更多其他材料层的情形。为了简单与清楚化，许多结构可能会绘成不同的尺寸。作为本专利技术的关键特征之一，本专利技术实施例提供图案化基底，其具有开口或凹陷阵列，其中可形成或设置透镜元件(lens elements) 0可将两图案化基底对齐且堆叠，并接着将其切割成透镜模块。透镜模块包括第一图案化基底，其具有至少一第一凹陷。第一凹陷的底部可包括大抵平坦的中间区域，其由第一图案化基底的第一凹陷的突起侧壁所围绕。 第一透镜元件可设置于大抵平坦的中间区域的前表面上，而第二透镜元件可设置于大抵平坦的中间区域的背表面上。透镜结构的制作可借由模制法(molding)而完成。透镜可由具有UV固化高分子化合物(UV curable polymer compounds)的材料形成。披覆层可选择性或择一设置于第一透镜元件或第二透镜元件之上。图2A及图2B显示根据本专利技术实施例处理一基底的剖面图。请参照图2A及图2B， 提供基底100。基底100可为玻璃基底、熔融硅石(fused silica)基底、石英基底、氟化钙 (CaF2)基底、或其他光学级透明基底。基底100例如借由蚀刻而部分移除以形成图案化开口 IlOa或IlOb的阵列，其例如为沟槽(trenches)、凹陷(recesses)、或沟道(grooves)，具有大抵平坦的中间区域，其由开口的突起侧壁所围绕。开口的截面的形状可为圆形、矩形、六角形、八角形、或其他适合的几何形状。基底100也可两侧均部分移除，如图2C及图2D 所示。图3A-图3C显示根据本专利技术实施例的图案化基底的剖面图。在图3A中，图案化基底IOla中可形成有至少一第一凹陷及至少一第二凹陷。第一及第二凹陷的组合可为一两侧凹陷，其具有两侧突起的墙105a，其围绕大抵平坦的中间区域103a。两侧突起墙的厚度 H1^H3及大抵平坦的中间区域的厚度H2分别小于300 μ m。两侧突起墙与大抵平坦的中间区域的总厚度(HpH2、及H3)可小于300μπι。在图:3Β中，图案化基底IOlb可形成有单侧凹陷 (也称为第一凹陷)，其形成自基底IOlb的顶表面(或第一表面)。单本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：林建邦，钟三源，朱翁驹，
申请(专利权)人：采钰科技股份有限公司，美商豪威科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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