【技术实现步骤摘要】
本公开实施例涉及一种光栅装置的形成方法，特别涉及形成具有变化折射率的多个光栅结构。
技术介绍
1、随着光传播穿过一个均匀的材料(如空气)，光表现为在传播方向上传播的一系列平面波。当一平面波遇到阻碍时，由于与阻碍物的互动，使平面波经历改变。在波的波前上的每个未被阻碍的点可被视为二次球形子波(wavelet)的来源，其具有与入射波相同的波长和相位。输出的波长则为这些子波全部的组合。举例来说，若传播穿过水的平面波触及到具有很小的单一口径的障碍物(例如没有比波长宽)，入射平面波可由口径向外绕射成圆形图案。若障碍物包含大于波长的口径，波长则由口径射出。
2、绕射光栅为物体(口径或不透明建物)的重复阵列，其对于由光栅射出的光波的相位及/或振幅产生周期性改变。其中一种类型为一维(线性)布拉格绕射光栅(braggdiffraction grating)。此绕射光栅与梳子相似，其中在梳齿之间有固定且均匀的间隔。这样均匀的间隔、以及梳齿的宽度和深度决定光栅的输出特性。线性布拉格光栅被设计以绕射具有特定波长的光成为沿着多重离散角度射出的模态(mode)。
3、然而，传统的绕射光栅对于波长很敏感。换言之，绕射光栅只能在特定范围的波长下有效率地操作。为了达到不断增加的市场需求，需要解决这些相关问题。
技术实现思路
1、在一实施例中，一种光栅装置的形成方法，包括：提供基底；将基底送入工艺腔体中；以及在基底上沉积光栅材料以于基底上形成光栅材料层。在工艺腔体中沉积光栅材料期间，光栅材料的折
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1.一种光栅装置的形成方法，包括：
2.如权利要求1所述的光栅装置的形成方法，其中沉积该光栅材料还包括一第一阶段、一第二阶段、以及一第三阶段。
3.如权利要求2所述的光栅装置的形成方法，其中该工艺腔体包括：
4.如权利要求3所述的光栅装置的形成方法，其中：
5.如权利要求3所述的光栅装置的形成方法，其中该第一标靶和该第二标靶分别连接至一第一电压控制器和一第二电压控制器，其中在该第一阶段、该第二阶段、以及该第三阶段期间，该工艺气体的流速维持相同。
6.如权利要求5所述的光栅装置的形成方法，其中：
7.如权利要求2所述的光栅装置的形成方法，其中该工艺腔体包括：
8.如权利要求2所述的光栅装置的形成方法，其中该工艺腔体包括：
9.如权利要求8所述的光栅装置的形成方法，其中：
10.如权利要求1所述的光栅装置的形成方法，还包括在该基底上沉积该光栅材料之前，在基底上形成多个工艺前光栅结构，其中该些工艺前光栅结构的每一个包括一第一侧壁和一第二侧壁，该第二侧壁相对于该第一侧壁。
<...【技术特征摘要】
1.一种光栅装置的形成方法，包括：
2.如权利要求1所述的光栅装置的形成方法，其中沉积该光栅材料还包括一第一阶段、一第二阶段、以及一第三阶段。
3.如权利要求2所述的光栅装置的形成方法，其中该工艺腔体包括：
4.如权利要求3所述的光栅装置的形成方法，其中：
5.如权利要求3所述的光栅装置的形成方法，其中该第一标靶和该第二标靶分别连接至一第一电压控制器和一第二电压控制器，其中在该第一阶段、该第二阶段、以及该第三阶段期间，该工艺气体的流速维持相同。
6.如权利要求5所述的光栅装置的形成方法，其中：
7.如权利要求2所述的光栅装置的形成方法，其中该工艺腔体包括：
8.如权利要求2所述的光栅装置的形成方法，其中该工艺腔体包括：
9.如权利要求8所述的光栅装置的形成方法，其中：
10.如权利要求1所述的光栅装置的形成方法，还包括在该基底上沉积该光栅材料之前，在基底上形成多个工艺前光栅结构，其中该些工艺前光栅结构的每一个包括一第一侧壁和一第二侧壁，该第二侧壁相...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄俊维，蔡毓珊，傅柏翰，
申请(专利权)人：采钰科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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