【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微透镜阵列，具体涉及一种微透镜阵列母模转印方法。
技术介绍
1、微透镜阵列是由通光孔径及浮雕深度为微米级的透镜组成的阵列，它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。
2、制作微透镜阵列的技术一般有直写技术、光刻胶热熔技术、灰度光刻技术和纳米压印技术等，其中直写技术的设备价格较高，光刻胶热熔技术的可重复性较低，灰度光刻技术加工周期长、成本较高，而纳米压印技术具有精度较高、工艺简单、成本较低的优点，适合规模化生产。
3、目前，采用纳米压印制造微透镜阵列时，是通过微透镜阵列母模直接纳米压印制作微透镜阵列，微透镜阵列母模多次使用后需要更换，这样会缩短母模的使用寿命，从而提高纳米压印加工成本。
技术实现思路
1、针对现有技术中的缺陷，本专利技术提供了一种微透镜阵列母模转印方法，以延长微透镜阵列母模的使用期限，从而降低纳米压印加工成本。
2、本专利技术提供了一种微透镜阵列母模转印方法，包括如下步骤：
3、步骤s10，制作微透镜阵列母模，所述微透镜阵列母模的一侧设有凸起阵列，所述凸起阵列与微透镜阵列的排布、形状及大小完全一致；
4、步骤s20，采用纳米压印技术将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模，所述微透镜阵列子模的一侧具有与所述凸起阵列吻合的凹槽阵列；
5、步骤s30，通过微透镜阵列子模纳米压印制作微透镜
6、进一步地，所述微透镜阵列母模的材质为金属、玻璃或者硅。
7、进一步地，所述微透镜阵列子模的材质为pmma。
8、进一步地，所述微透镜阵列为正交排布或蜂窝排布。
9、进一步地，所述微透镜为球面透镜或非球面透镜。
10、本专利技术的有益效果体现在：
11、由于微透镜阵列母模的成本较高，本专利技术将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模，再通过微透镜阵列子模制作微透镜阵列，一个微透镜阵列母模可以转印n个微透镜阵列子模，一个微透镜阵列子模可以制作m个微透镜阵列，这样一个微透镜阵列母模就可以制作n*m个微透镜阵列，这样延长了微透镜阵列母模的使用期限，从而降低了纳米压印加工成本。
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1.一种微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列母模转印方法，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的微透镜阵...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈思，程思，
申请(专利权)人：上海景燊智腾科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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