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一种微透镜阵列母模转印方法技术
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文档序号:40844047
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本发明公开了一种微透镜阵列母模转印方法,包括如下步骤:步骤S10,制作微透镜阵列母模,所述微透镜阵列母模的一侧设有凸起阵列,所述凸起阵列与微透镜阵列的排布、形状及大小完全一致;步骤S20,采用纳米压印技术将微透镜阵列母模转印成微透镜阵列子模...
该专利属于上海景燊智腾科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海景燊智腾科技有限公司授权不得商用。
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