本实用新型专利技术公开了一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，硅片传送装置包括转轴和法兰，法兰通过固定组件固定在所述转轴上，还包括转轴隔离垫片，转轴隔离垫片放置在转轴和法兰之间，并通过固定组件固定在转轴和所述法兰间。该沉积工艺腔内的硅片传送装置可避免化学气侵蚀到法兰和转轴的表面直接接触，使得转轴与法兰不会因为等离子体的侵蚀而粘附在一起，拆卸时容易分离，拆卸时无需破坏法兰。因此极大的降低了法兰的更换频率，节省了大量的维护时间，提高了机台的利用率，同时避免转轴表面受到侵蚀损伤，延长了转轴的使用寿命。转轴隔离垫片采用不受等离子体侵蚀的聚四氟乙烯材质制成，成本低廉、更换频率低，且可以起到较突出的有益效果。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片加工设备，具体涉及一种沉积工艺腔内的硅片传送装置。
技术介绍
在化学气相沉积系统的工艺腔内，多个硅片通常放置于转盘的四周上，该转盘通过法兰支撑，法兰通过转轴支撑，转轴带功法兰旋转进而带动转盘旋转。当传送硅片的机械手臂将硅片传送至工艺腔内并将硅片放置在转盘上位于机械手臂下方的某一硅片放置位置上后，转轴带动转盘转动，使得转盘上的下一硅片放置位置对准于传送硅片的机械手臂的下方，这样确保通过机械手臂多次拾取、放置硅片，最终使转盘上的硅片放置位置均被放置上硅片。在维护硅片传送装置时需要经常拆卸传送装置上的转盘，因此不可避免的需要将承载转盘的法兰(flange)与转轴(shaft)分离。在此过程中，通常法兰与转轴非常难以分离。主要原因是使用时间过长且长时间处于等离子体的环境中，转轴与法兰接触的上表面容易被侵蚀，并与法兰粘附后难以分离。现有技术中在拆卸时通常采用异丙醇浸泡法兰和转轴的结合部分，甚至采用敲击等各种破坏性方法将法兰与转轴强行分离。采用现有技术的方法拆分法兰和转轴后必须更换新的法兰，并且很可能对转轴也造成损伤，引起整个硅片传送装置出现多种机械问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，以解决在拆卸硅片传送装置上的转盘时无法将承载转盘的法兰与传送转轴分离的问题。为实现上述目的，本技术的技术方案是设计一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，所述硅片传送装置包括转轴和法兰，所述法兰通过固定组件固定在所述转轴上，其特征在于，还包括转轴隔离垫片，所述转轴隔离垫片放置在所述转轴和所述法兰之间，并通过所述固定组件固定在所述转轴和所述法兰间。其中优选的技术方案是，所述转轴隔离垫片的形状、直径大小同所述转轴的形状、 直径大小相适应。其中优选的技术方案还有，在所述转轴隔离垫片上设置有中通孔。进一步优选的技术方案是，所述中通孔的大小、数量和分布位置与所述固定组件的大小、数量和分布位置相适应。其中优选的技术方案还有，所述固定组件是螺丝或螺钉和螺母组合。其中优选的技术方案还有，所述转轴隔离垫片采用聚四氟乙烯制成。本技术的优点和有益效果在于该沉积工艺腔内的硅片传送装置可避免化学气侵蚀到法兰和转轴的表面直接接触，使得转轴与法兰不会因为等离子体的侵蚀而粘附在一起，拆卸时容易分离，拆卸时无需破坏法兰。因此极大的降低了法兰的更换频率，节省了大量的维护时间，提高了机台的利用率，同时避免转轴表面受到侵蚀损伤，延长了转轴的使用寿命。本技术的转轴隔离垫片采用不受等离子体侵蚀的聚四氟乙烯材质制成，成本低廉、更换频率低，且可以起到较突出的有益效果。附图说明图1为本技术中转轴隔离垫片的结构示意图；图2为本技术中转轴隔离垫片安装于硅片传送装置中的法兰和转轴之间时的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，而不能以此来限制本技术的保护范围。如图1所示，为本技术中转轴隔离垫片的结构示意图，本技术的转轴隔离垫片100上设置有中通孔101。所述转轴隔离垫片100的形状、直径大小同化学气相沉积腔内的硅片传送装置上的转轴的形状、直径大小相适应；所述通孔101的大小、数量和分布位置与所述化学气相沉积腔内的硅片传送装置上的将所述法兰固定于所述转轴上的固定螺丝的大小、数量和分布位置相适应，所述通孔101通常为三个，间距均勻地分布于所述转轴隔离垫片100上。所述转轴隔离垫片100优选采用聚四氟乙烯材质制成。如图2，图2为本技术中转轴隔离垫片安装于硅片传送装置中的法兰和转轴之间时的结构示意图。在将硅片传送装置的法兰201固定于转轴202上时，将转轴隔离垫片100放置于所述转轴202的顶端，并将所述转轴202连同其上所放置的所述转轴隔离垫片100插入至所述法兰头201上的转轴安装槽204内，将所述法兰头201固定于所述转轴 202上的固定螺丝穿过所述转轴隔离垫片100上的通孔101内，通过所述固定螺丝将所述法兰201和转轴隔离垫片100固定于所述转轴202上。本技术的化学气相沉积工艺腔内的硅片传送装置可避免化学气相沉积腔内的硅片传送装置上法兰和转轴的表面直接接触，使得转轴与法兰不会因为等离子体的侵蚀而粘附在一起，拆卸时容易分离，拆卸时无需破坏法兰头，极大的降低了法兰头的更换频率，节省了大量的维护时间，提高了机台的利用率，同时避免转轴表面受到侵蚀损伤，延长了转轴的使用寿命。本技术的转轴隔离垫片采用不受等离子体侵蚀的聚四氟乙烯材质制成，成本低廉、更换频率低，且可以起到较突出的有益效果。以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。权利要求1.一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，所述硅片传送装置包括转轴和法兰，所述法兰通过固定组件固定在所述转轴上，其特征在于，还包括转轴隔离垫片，所述转轴隔离垫片放置在所述转轴和所述法兰之间，并通过所述固定组件固定在所述转轴和所述法兰间。2.如权利要求1所述的沉积工艺腔内的硅片传送装置，其特征在于，所述转轴隔离垫片的形状、直径大小同所述转轴的形状、直径大小相适应。3.如权利要求1所述的沉积工艺腔内的硅片传送装置，其特征在于，在所述转轴隔离垫片上设置有中通孔。4.如权利要求3所述的沉积工艺腔内的硅片传送装置，其特征在于，所述中通孔的大小、数量和分布位置与所述固定组件的大小、数量和分布位置相适应。5.如权利要求1所述的沉积工艺腔内的硅片传送装置，其特征在于，所述固定组件是螺丝或螺钉和螺母组合。6.如权利要求1所述的沉积工艺腔内的硅片传送装置，其特征在于，所述转轴隔离垫片采用聚四氟乙烯制成。专利摘要本技术公开了一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，硅片传送装置包括转轴和法兰，法兰通过固定组件固定在所述转轴上，还包括转轴隔离垫片，转轴隔离垫片放置在转轴和法兰之间，并通过固定组件固定在转轴和所述法兰间。该沉积工艺腔内的硅片传送装置可避免化学气侵蚀到法兰和转轴的表面直接接触，使得转轴与法兰不会因为等离子体的侵蚀而粘附在一起，拆卸时容易分离，拆卸时无需破坏法兰。因此极大的降低了法兰的更换频率，节省了大量的维护时间，提高了机台的利用率，同时避免转轴表面受到侵蚀损伤，延长了转轴的使用寿命。转轴隔离垫片采用不受等离子体侵蚀的聚四氟乙烯材质制成，成本低廉、更换频率低，且可以起到较突出的有益效果。文档编号C23C16/44GK202187063SQ20112026136公开日2012年4月11日 申请日期2011年7月22日 优先权日2011年7月22日专利技术者李向清, 沈彪, 胡德良 申请人:江阴市爱多光伏科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：沈彪，李向清，胡德良，
申请(专利权)人：江阴市爱多光伏科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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