一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘，所述抛光盘包括用于安装抛光盘的抛光机主轴承基座，所述的抛光盘为大理石材质的抛光盘，在所述抛光盘的表面附着有一层聚四氟乙烯膜，抛光盘直接安装在抛光机主轴承基座上；所述的抛光盘抛光盘表面研磨平整，采用螺栓固定在抛光机主轴承基座上。由于太阳能硅片的单面抛光是在机械作用和化学作用的双重作用下进行，使用金属抛光盘，很难在合适的化学反应温度和抛光盘的平坦度之间找到一个平衡点。而使用大理石抛光盘，不管抛光温度如何变化，抛光盘的平坦度始终维持在比较理想的范围内。同时，不使用冷却水可以降低生产成本。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能硅片加工工具，具体涉及一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘。
技术介绍
太阳能硅片单面抛光机抛光盘的平坦度控制是影响到晶片抛光精度的关键技术， 目前国际上通用的做法是将金属材质的抛光盘安装于带有冷却水槽的基座上，通过冷却水的流动及时散发抛光过程中产生的热量以缓解抛光盘受热变形，维持硅片抛光的几何精度。带有水冷基座的抛光盘的设计结构有如下问题和缺陷1、金属抛光盘受热变形具有不可逆性，在特定的温度下(通常是硅片抛光的工艺温度)将抛光盘研磨平整后，在抛光盘的温度经过变化后(如设备停机)再回归到工艺温度时，抛光盘并不能恢复到原先的平坦度状态；2、金属抛光盘的材质(通常为不锈钢有部分厂家使用铸铁)和水冷基座因材质不同而导致抛光盘和水冷基座的受热变形不同从而导致有温度变化时，抛光盘和水冷基座之间产生张力导致变形；3、金属材质的抛光盘和水冷基座因在生产及加工过程中产生内部应力，这种应力缓慢释放导致抛光盘的平坦度发生变化；4、水冷基座的冷却水槽在使用过程中水冷槽内壁水垢凝结导致冷却效果下降，并且对抛光盘的冷却温度不均勻，导致抛光盘平坦度变差。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种太阳能硅片单面抛光机用抛光盘，采大理石盘作为太阳能硅片单面抛光机的抛光盘。为实现上述目的，本技术的技术方案是设计一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘，所述抛光盘包括用于安装抛光盘的抛光机主轴承基座，其特征在于，所述的抛光盘为大理石材质的抛光盘，在所述抛光盘的表面附着有一层聚四氟乙烯膜，抛光盘直接安装在抛光机主轴承基座上。作为优选的技术方案，所述的抛光盘抛光盘表面研磨平整，采用螺栓固定在抛光机主轴承基座上。本技术的优点和有益效果在于1、可以省却冷却水的使用由于太阳能硅片的单面抛光是在机械作用和化学作用的双重作用下进行，使用金属抛光盘，很难在合适的化学反应温度和抛光盘的平坦度之间找到一个平衡点。而使用大理石抛光盘，不管抛光温度如何变化，抛光盘的平坦度始终维持在比较理想的范围内。同时，不使用冷却水可以降低生产成本。2、由于大理石热变形系数极小且无应力变形的问题，长时间使用也无需对抛光盘进行修整，降低了设备的维护成本。3、使用大理石材质的抛光盘比现有的金属抛光盘降低了设备的制造成本。4、由于在大理石材质的抛光表面附着了一层聚四氟乙烯膜，可提高其耐磨性能， 延长期使用寿命。附图说明图1是本技术太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，而不能以此来限制本技术的保护范围。本技术采用大理石材质作为抛光盘1，其粘贴太阳能硅片抛光布的表面需要被研磨平整。研磨表面可以在抛光盘1安装到抛光机上之前完成，也可在抛光盘1安装到抛光机后再进行研磨。大理石的抛光盘1采用螺栓固定，直接安装于抛光机主轴承基座2 上，在所述抛光盘的表面附着有一层聚四氟乙烯膜3。以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。权利要求1.一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘，所述抛光盘包括用于安装抛光盘的抛光机主轴承基座，其特征在于，所述的抛光盘为大理石材质的抛光盘，在所述抛光盘的表面附着有一层聚四氟乙烯膜，抛光盘直接安装在抛光机主轴承基座上。2.如权利要求1所述的太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘，其特征在于，所述的抛光盘抛光盘表面研磨平整，采用螺栓固定在抛光机主轴承基座上。专利摘要本技术公开了一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘，所述抛光盘包括用于安装抛光盘的抛光机主轴承基座，所述的抛光盘为大理石材质的抛光盘，在所述抛光盘的表面附着有一层聚四氟乙烯膜，抛光盘直接安装在抛光机主轴承基座上；所述的抛光盘抛光盘表面研磨平整，采用螺栓固定在抛光机主轴承基座上。由于太阳能硅片的单面抛光是在机械作用和化学作用的双重作用下进行，使用金属抛光盘，很难在合适的化学反应温度和抛光盘的平坦度之间找到一个平衡点。而使用大理石抛光盘，不管抛光温度如何变化，抛光盘的平坦度始终维持在比较理想的范围内。同时，不使用冷却水可以降低生产成本。文档编号B24D5/00GK202185841SQ20112026317公开日2012年4月11日 申请日期2011年7月22日 优先权日2011年7月22日专利技术者李向清, 沈彪, 胡德良 申请人:江阴市爱多光伏科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：沈彪，李向清，胡德良，
申请(专利权)人：江阴市爱多光伏科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：