本发明专利技术提供一种制造共轭二烯聚合物的方法，使用比较容易使用且具有高活性的含钇化合物催化剂，制造出顺式－１，４构造含有率高的共轭二烯聚合物。该共轭二烯聚合物的制造方法其特征在于：于由（Ａ）特定的钇化合物、（Ｂ）由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及（Ｃ）有机铝化合物所构成的催化剂的存在下，进行共轭二烯聚合，而制造出含有顺式－１，４构造９９％以上的共轭二烯聚合物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种使用含钇化合物催化剂的顺式-1，4构造含有率非常高的。
技术介绍
关于1，3_ 丁二烯、异戊二烯等的共轭二烯的聚合催化剂过去就已有许多被提出讨论，而其中有部分已工业化。例如制造顺式_1，4构造含有率高的共轭二烯聚合物时，常使用组合钛、钴、镍、钕等的过渡金属化合物与有机铝的催化剂。已知使用周期表第3族元素作为催化剂来聚合共轭二烯，目前为止已被提出各式各样的聚合方法。例如日本专利特开平7468013号公报(专利文献1)中已揭示由稀土类金属的盐、周期表第I III族元素的有机金属化合物、含氟有机硼化合物所构成的催化剂系。此外，日本专利特开平11-80222号公报(专利文献2)中已揭示由周期表第III B族金属化合物、非配位性阴离子与阳离子构成的离子性化合物、周期表第I III族元素的有机金属化合物所构成的聚合催化剂。作为使用钇化合物的聚合催化剂，于国际公开第2006/049016号说明书(专利文献3)已揭示使用具有大体积取代基的钇化合物的催化剂系，而于日本专利特开 2007-161918号公报(专利文献4)已揭示使用以双(三甲硅基)酰胺基作为配体的钇化合物催化剂系。由该些的催化剂系所获得的共轭二烯聚合物的顺式_1，4构造含有率一般为 97 98. 5%左右。关于可获得顺式_1，4构造含有率非常高的共轭二烯聚合物的催化剂系，于日本专利特开平2002-256012号公报(专利文献5)、日本专利特开平2004-027179号公报(专利文献6)已揭示一种含有烯土类金属化合物的茂金属型(metallocene)阳离子络合物者。 然而，茂金属型络合物的合成以及分离较难，此外对于空气、水等非常敏感，故有难以使用的问题。另外，顺式_1，4构造含有率非常高的共轭二烯聚合物具有只能于低聚合温度才能获得的问题。先前技术文献专利文献1 日本专利特开平7-70143号公报专利文献2 日本专利特开平7468013号公报专利文献3 国际公开第2006/049016号说明书专利文献4 日本专利特开平2007-161918号公报专利文献5 日本专利特开平2002-256012号公报专利文献6 日本专利特开平2004-027179号公报
技术实现思路
专利技术所欲解决的课题本专利技术的课题在于提供一种制造共轭二烯聚合物的方法，使用比较容易使用且具有高活性的催化剂，制造出顺式_1，4构造含有率高，特别是含有顺式_1，4构造99%以上的共轭二烯聚合物。用以解决课题的手段本专利技术提供一种，其特征在于于由(A)下述的通式⑴所表示的钇化合物、⑶由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及(C)有机铝化合物所构成的催化剂的存在下，以低于40°C的条件进行共轭二烯聚合；权利要求1. 一种，其特征在于于由(A)下述的通式(1)所表示的钇化合物、(B)由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及(C)有机铝化合物所构成的催化剂的存在下，以低于40°C的条件进行聚合；2. 一种，其特征在于使用由(A)下述的通式(2)表示的钇化合物、(B)由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及(C)氢化有机铝化合物所构成的催化剂；该催化剂的(C)成分与(A) 成分的摩尔比(C)/㈧为5 50;3.如权利要求1或2所述，其中，共轭二烯聚合物为含有顺式-1，4构造99 %以上的聚丁二烯。4.一种共轭二烯聚合物制造用催化剂，其特征在于由(A)下述的通式(2)表示的钇化合物、(B)由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及(C)氢化有机铝化合物所构成；该催化剂的(C)成分与(A)成分的摩尔比 (C)/(A)为 5 50 ；5.如权利要求4所述共轭二烯聚合物制造用催化剂，其中，氢化有机铝化合物为氢化-~-乙 ο6.如权利要求4或5所述共轭二烯聚合物制造用催化剂，其中，共轭二烯聚合物为含有顺式_1，4构造99%以上的聚丁二烯。全文摘要本专利技术提供一种制造共轭二烯聚合物的方法，使用比较容易使用且具有高活性的含钇化合物催化剂，制造出顺式-1，4构造含有率高的共轭二烯聚合物。该其特征在于于由(A)特定的钇化合物、(B)由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及(C)有机铝化合物所构成的催化剂的存在下，进行共轭二烯聚合，而制造出含有顺式-1，4构造99％以上的共轭二烯聚合物。文档编号C08F4/54GK102245647SQ200980150529公开日2011年11月16日 申请日期2009年12月25日 优先权日2008年12月25日专利技术者斯波晃司, 村上真人, 铃木通典 申请人:宇部兴产株式会社本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种共轭二烯聚合物的制造方法，其特征在于：于由（Ａ）下述的通式（１）所表示的钇化合物、（Ｂ）由非配位性阴离子与阳离子所构成的离子性化合物、以及（Ｃ）有机铝化合物所构成的催化剂的存在下，以低于４０℃的条件进行聚合；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３表示氢、或碳数为１～１２的取代基、Ｙ表示钇原子。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：铃木通典，
申请(专利权)人：宇部兴产株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。