带密封材料层的玻璃构件的制造方法及电子器件的制造方法技术

通过抑制激光密封时玻璃基板和密封材料层的裂缝、破裂、剥离等，可提高玻璃面板的激光密封性及其可靠性。将不含激光吸收材料的第一密封材料用糊料和包含激光吸收材料的第二密封材料用糊料依次涂布于玻璃基板（２）的密封区域（２ａ）。对第一密封材料用糊料的涂布层（１１）和第二密封材料用糊料的涂布层（１２）的层叠膜进行烧成，从而形成具有第一密封用玻璃材料层（４）和第二密封用玻璃材料层（５）的叠层结构的密封材料层（３）。将具有这样的密封材料层（３）的第二玻璃基板（２）与具有元件形成区域的玻璃基板层叠后，透过第二玻璃基板（２）从第一密封用玻璃材料层（４）侧对密封材料层（３）照射激光来进行密封。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
有机EL显示器(有机电致发光显示器，Organic Electro-Luminescence Display :0ELD)、等离子体显示屏(PDP)、液晶显示装置(IXD)等平板型显示装置(FPD)具有如下结构将形成有发光元件的元件用玻璃基板和密封用玻璃基板相向配置，用将这两块玻璃基板密封而得的玻璃封装将发光元件密封(参照专利文献1)。另外，对于染料敏化型太阳能电池之类的太阳能电池，也对采用以两块玻璃基板将太阳能电池元件(光电转换元件)密封而得的玻璃封装的技术方案进行了研究(参照专利文献2)。作为对两块玻璃基板之间进行密封的密封材料，采用密封树脂或密封玻璃。因为有机EL(OEL)元件等容易因水分而劣化，所以优选采用耐湿性等良好的密封玻璃。采用密封玻璃时的密封温度为400 600°C左右，因此用普通的加热炉进行烧成的情况下，OEL元件等电子元件部的特性劣化。于是，尝试在设置于两块玻璃基板的周边部的密封区域之间配置包含激光吸收材料的密封用玻璃材料层，对其照射激光来加热密封用玻璃材料层，使其熔融来进行密封(参照专利文献1、2)。采用激光照射的密封(激光密封)可抑制热量对电子元件部的影响，但存在密封时玻璃基板容易产生裂缝或破裂等的难点。采用激光密封的情况下，首先对包含激光吸收材料的密封用玻璃材料进行烧结而在密封用玻璃基板的密封区域形成密封用玻璃材料层。 接着，将密封用玻璃基板与元件用玻璃基板介以密封用玻璃材料层层叠后，从密封用玻璃基板侧照射激光，将密封用玻璃材料层整体加热而使其熔融，从而对玻璃基板之间进行密封。在密封用玻璃材料层内激光吸收材料均勻地分散，因此照射激光时存在于密封用玻璃基板与密封用玻璃材料层的界面附近的激光吸收材料集中地吸收激光，界面附近部分局部地发热。由于这样的局部发热，玻璃基板产生裂缝或破裂等。构成玻璃面板的玻璃基板采用无碱玻璃或钠钙玻璃，但钠钙玻璃的热膨胀系数特别大，因此激光密封时容易产生裂缝或破裂等。专利文献3中记载了如下的内容为了加大密封层的厚度，在密封用玻璃基板上依次形成不含激光吸收材料的透明的第一密封用玻璃材料层和包含激光吸收材料的不透明的第二密封用玻璃材料层。在这里，经过烧成工序形成第一密封用玻璃材料层后，在其上经过另一烧成工序形成第二密封用玻璃材料层。该情况下，激光照射时不含激光吸收材料的第一密封用玻璃材料层与包含激光吸收材料的第二密封用玻璃材料层的界面附近部分容易局部地发热。因此，两层密封用玻璃材料层间的界面可能会发生剥离或者在界面附近部分产生裂缝或破裂等而使密封可靠性下降。专利文献1 日本专利特表2006-5M419号公报专利文献2 日本专利特开2008-115057号公报专利文献3 日本专利特开2007-200836号公报专利技术的揭示本专利技术的目的在于提供通过抑制激光密封时玻璃基板和密封用玻璃材料层的裂缝、破裂、剥离等而实现密封性及其可靠性的提高的。本专利技术的一种形态所涉及的带密封材料层的玻璃构件的制造方法的特征在于，包括准备具有密封区域的玻璃基板的工序；将含有第一密封用玻璃材料的第一密封材料用糊料和含有第二密封用玻璃材料的第二密封材料用糊料依次涂布于所述玻璃基板的密封区域的工序，所述第一密封用玻璃材料不含激光吸收材料，所述第二密封用玻璃材料包含激光吸收材料；对所述第一密封材料用糊料的涂布层和所述第二密封材料用糊料的涂布层的层叠膜进行烧成，在所述密封区域上形成具有所述第一密封用玻璃材料层和所述第二密封用玻璃材料层的叠层结构的密封材料层的工序。本专利技术的另一种形态所涉及的电子器件的制造方法的特征在于，包括准备第一玻璃基板的工序，所述第一玻璃基板具有具备电子元件的元件形成区域和设于所述元件形成区域的外周侧的第一密封区域；准备第二玻璃基板的工序，所述第二玻璃基板具有与所述第一玻璃基板的第一密封区域对应的第二密封区域；将含有第一密封用玻璃材料的第一密封材料用糊料和含有第二密封用玻璃材料的第二密封材料用糊料依次涂布于所述第二玻璃基板的所述第二密封区域的工序，所述第一密封用玻璃材料不含激光吸收材料，所述第二密封用玻璃材料包含激光吸收材料；对所述第一密封材料用糊料的涂布层和所述第二密封材料用糊料的涂布层的层叠膜进行烧成，在所述第二密封区域上形成具有所述第一密封用玻璃材料层和所述第二密封用玻璃材料层的叠层结构的密封材料层的工序；在所述元件形成区域上形成间隙的同时，介以所述密封材料层层叠所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的工序；透过所述第二玻璃基板从所述第一密封用玻璃材料层侧对所述密封材料层照射激光，至少使所述第二密封用玻璃材料层熔融而形成将所述第一玻璃基板与所述第二玻璃基板之间密封的密封层的工序。如果采用本专利技术的， 则第一密封用玻璃材料层与第二密封用玻璃材料层的界面结构得到改善，因此激光照射时界面附近的局部发热受到抑制。藉此，可抑制对两块玻璃基板之间进行激光密封时玻璃基板和密封用玻璃材料层的裂缝、破裂、剥离等。附图的简单说明附图说明图1是表示本专利技术的实施方式的电子器件的制造工序的剖视图。图2是表示图1所示的电子器件的制造工序中使用的第一玻璃基板的俯视图。图3是沿图2的A-A线的剖视图。图4是表示图1所示的电子器件的制造工序中使用的第二玻璃基板的俯视图。图5是沿图4的A-A线的剖视图。图6是表示图1所示的电子器件的制造工序中在第二玻璃基板上形成密封材料层的过程的俯视图。实施专利技术的方式以下，参照附图对用于实施本专利技术的方式进行说明。图1 图6是表示本专利技术的实施方式的电子器件的制造工序的图。在这里，作为采用本专利技术的实施方式的制造方法的电子器件，可例举0ELD、PDP、IXD等FPD，使用OEL元件等发光元件的照明装置，或者染料敏化型太阳能电池之类的密封型太阳能电池。如图1(a)所示，准备第一玻璃基板1和第二玻璃基板2。如图2和图3所示，第一玻璃基板1具有具备电子元件的元件形成区域la。在元件形成区域Ia形成有与电子器件相对应的电子元件，例如OELD或OEL照明时的OEL元件、PDP时的等离子体发光元件、LCD 时的液晶显示元件或太阳能电池时的染料敏化型光电转换部等。OEL元件等发光元件和染料敏化型光电转换部等太阳能电池元件具备各种公知的结构。第一玻璃基板1具有设于元件形成区域Ia的外周侧的第一密封区域lb。第一密封区域Ib设置成包围元件形成区域la。另一方面，如图4和图5所示，第二玻璃基板2具有第二密封区域加。第二密封区域加与第一密封区域Ib对应。即，将第一玻璃基板1与第二玻璃基板2相向配置时，设定为第一密封区域Ib与第二密封区域加相对，如后所述成为密封层的形成区域(对于第二玻璃基板2为密封材料层的形成区域)。第一玻璃基板1和第二玻璃基板2由例如无碱玻璃和钠钙玻璃等构成。无碱玻璃具有35 40X 10_7°C左右的热膨胀系数。钠钙玻璃具有85 90X 10_7°C左右的热膨胀系数。如图4和图5所示，在第二玻璃基板2的密封区域加形成有二层结构的密封材料层3。密封材料层3具有不含激光吸收材料的第一密封用玻璃材料层4和包含激光吸收材料的第二密封用玻璃材料层5的叠层结构。在第二密封区域加上形成有不含激光吸收材料的第一密封用玻璃材料层4，在其上形成有包含激光吸收材料的本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种带密封材料层的玻璃构件的制造方法，其特征在于，包括：准备具有密封区域的玻璃基板的工序；将含有第一密封用玻璃材料的第一密封材料用糊料和含有第二密封用玻璃材料的第二密封材料用糊料依次涂布于所述玻璃基板的所述密封区域的工序，所述第一密封用玻璃材料不含激光吸收材料，所述第二密封用玻璃材料包含激光吸收材料；对所述第一密封材料用糊料的涂布层和所述第二密封材料用糊料的涂布层的层叠膜进行烧成，在所述密封区域上形成具有所述第一密封用玻璃材料层和所述第二密封用玻璃材料层的叠层结构的密封材料层的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：涉谷幸一，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP