【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种制造半导体基材的设备，更具体而言，涉及处理半导体基材的基 材处理设备和在该基材处理设备中转移基材的方法。
技术介绍
在基材制造过程中，绝缘体和金属材料的沉积和蚀刻、光致抗蚀剂的涂布和显影、 灰化处理等被重复多次，从而实现精细的图案结构排列。然而，虽然进行了包括蚀刻或灰化 处理的这些处理，但是在基材中仍然存在杂质。除去这些杂质的处理包括使用去离子水或 化学品的清洁处理。进行清洁处理的基材清洁设备分为成批基材清洁设备和单个基材清洁设备。成批 基材清洁设备包括尺寸能够一次处理25片基材或50片基材的化学浴、冲洗浴和干燥浴。成 批基材清洁设备通过将基材浸入各个浴中预定时间而除去杂质。这种成批基材清洁设备同 时清洁基材的上部和下部，并同时处理大量的基材。然而，随着基材直径的增大，各个浴的 尺寸也要增大，这增大了设备的尺寸和化学品的用量。另外，从邻近的基材上分离的杂质会 附在正在化学浴中清洁的基材上。近来，由于基材直径的增大，单个基材清洁设备被广泛使用。在单个基材清洁设备 中，基材被固定在适用于处理单个基材的具有较小尺寸的腔室中的基材卡盘上，然后由电 机转...
【技术保护点】
１．一种基材处理设备，包括：储存件，沿垂直方向排列多个基材并储存基材；转移件，包括沿垂直方向彼此面对的多个转移臂和臂驱动部，所述臂驱动部设置在所述转移臂下方并与所述转移臂连接，用于水平移动各转移臂，基材被装载在各转移臂上，所述转移件从所述储存件取出至少一个基材和向其中装载至少一个基材；以及控制单元，控制所述转移件的运动速度和位置并控制所述臂驱动部，使得至少两个转移臂同时到达在所述储存件中的目标点，其中所述控制单元将与被同时控制的各转移臂的目标点对应的各预期速度变化作比较，从而控制各转移臂的运动速度。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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