基材处理设备和在该设备中转移基材的方法技术

本发明专利技术提供一种基材处理设备，其包括将基材装载到储存件和从其中取出基材的转移件以及控制该转移件的控制单元。该转移件包括多个转移臂和水平移动各转移臂的臂驱动部，基材被装载在各转移臂上。该控制单元控制该转移件的运动速度和位置并比较各转移臂的运动速度变化，从而控制各转移臂的运动速度。因此，同时被驱动的转移臂同时到达目标点，所以该基材处理设备缩短了转移时间并提高了生产性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种制造半导体基材的设备，更具体而言，涉及处理半导体基材的基 材处理设备和在该基材处理设备中转移基材的方法。
技术介绍
在基材制造过程中，绝缘体和金属材料的沉积和蚀刻、光致抗蚀剂的涂布和显影、 灰化处理等被重复多次，从而实现精细的图案结构排列。然而，虽然进行了包括蚀刻或灰化 处理的这些处理，但是在基材中仍然存在杂质。除去这些杂质的处理包括使用去离子水或 化学品的清洁处理。进行清洁处理的基材清洁设备分为成批基材清洁设备和单个基材清洁设备。成批 基材清洁设备包括尺寸能够一次处理25片基材或50片基材的化学浴、冲洗浴和干燥浴。成 批基材清洁设备通过将基材浸入各个浴中预定时间而除去杂质。这种成批基材清洁设备同 时清洁基材的上部和下部，并同时处理大量的基材。然而，随着基材直径的增大，各个浴的 尺寸也要增大，这增大了设备的尺寸和化学品的用量。另外，从邻近的基材上分离的杂质会 附在正在化学浴中清洁的基材上。近来，由于基材直径的增大，单个基材清洁设备被广泛使用。在单个基材清洁设备 中，基材被固定在适用于处理单个基材的具有较小尺寸的腔室中的基材卡盘上，然后由电 机转动，接着经由位于基材上方的喷嘴向基材提供化学品或去离子水。基材的旋转使化学 品或去离子水在基材的上部上扩散，以便从基材除去杂质。单个基材清洁设备的尺寸小于 成批基材清洁设备的尺寸，并且可以实现均勻的清洁效果。一般而言，单个基材清洁设备从其一侧开始包括装载/卸载单元、分度自动装置、 缓冲单元、处理室和主转移自动装置。分度自动装置在缓冲单元和装载/卸载单元之间转 移基材，主转移自动装置在缓冲单元和处理室之间转移基材。在缓冲单元中，将要清洁的基 材等待被插入处理室中，或者已被清洁的基材等待被转移到装载/卸载单元。转移自动装置(例如，分度自动装置和主转移自动装置)包括多个臂部，基材被装 载在各臂部上。各臂部水平移动，从而从储存装置(例如前开式晶片盒(FOUP))或缓冲单 元取出基材，或者将基材装载到其中。这种转移自动装置的臂部被独立地驱动，因而各臂部具有独立的水平驱动轴，在 各臂部之间会产生装配公差。因此，当一起驱动至少两个臂部时，各臂部的速度不同，使得 各臂部到达目标点的时间点不同。同样地，当同时驱动转移自动装置的各臂部时，各臂部到 达目标点的时间点不同，因此，从储存装置同时取出多个基材很困难。
技术实现思路
技术问题本专利技术提供一种提高装载和卸载基材效率的基材处理设备。本专利技术还提供一种在该基材处理设备中转移基材的方法。技术方案本专利技术的实施例提供了一种基材处理设备，其包括储存件、转移件和控制单元。所述储存件沿垂直方向排列多个基材并储存基材。所述转移件包括沿垂直方向彼 此面对的多个转移臂和臂驱动部，所述臂驱动部设置在所述转移臂下方并与所述转移臂连 接，用于水平移动各转移臂，基材被装载在各转移臂上，所述转移件从所述储存件取出至少 一个基材和向其中装载至少一个基材。所述控制单元控制所述转移件的运动速度和位置并 控制所述臂驱动部，使得至少两个转移臂同时到达在所述储存件中的目标点，并且所述控 制单元将与被同时控制的各转移臂的目标点对应的各预期速度变化作比较，从而控制各转 移臂的运动速度。在一些实施例中，所述转移件还可以包括转动部、垂直移动部和水平移动部。所述 转动部设置在所述臂驱动部下方并与所述臂驱动部连接，用于转动所述臂驱动部。所述垂 直移动部设置在所述转动部下方并与所述转动部连接，用于上下移动所述转动部，从而调 节所述转移臂的垂直位置。所述水平移动部设置在所述垂直移动部下方并与所述垂直移动 部连接，用于水平移动而调节所述转移件的水平位置。在其他实施例中，所述控制单元可以包括输入处理部、比较运算部、输出控制部、 移动卡和驱动单元。所述输入处理部接收和输出包括所述转移臂、所述转动部、所述垂直移 动部和所述水平移动部的各自速度值的速度信息以及有关各转移臂的目标点的位置信息。 所述比较运算部基于从所述输入处理部接收的速度信息和位置信息计算出各转移臂的预 期速度变化，并将各转移臂的预期速度变化与预设参考变化作比较，以将对应于各转移臂 的速度值复位并输出复位的速度值。所述输出控制部输出从所述比较运算部输出的各转移 臂的速度值以及对应于所述转动部、所述垂直移动部和所述水平移动部的各自速度值。所 述移动卡将对应于所述转移臂、所述转动部、所述垂直移动部和所述水平移动部的各自速 度值以及所述输出控制部的输出分别变换为脉冲值，并输出变换的脉冲值。所述驱动单元 放大从所述移动卡输出的脉冲值并将放大的脉冲值供应到所述转移件。在本专利技术的其他实施例中，转移基材的方法包括接收包括用于转移基材的转移 件的各运动轴线的速度值的转移信息以及有关所述转移件取出或装载基材的在储存件中 目标点的位置信息；比较所述转移件的各转移臂的预期速度变化，以将各转移臂的速度值 复位，使得所述转移臂水平移动并在同一时间点分别到达对应目标点；输出复位的速度值 和所述转移件的除了所述转移臂之外的各运动轴线的速度值；将输出的速度值变换为脉冲 值；放大所述脉冲值并将放大的脉冲值供应到所述转移件；以及在根据复位的速度值将所 述转移臂水平移动到对应目标点并使所述转移臂同时到达对应目标点后，同时将基材装载 到所述储存件或从中取出基材。有益效果根据本专利技术，所述基材处理设备包括调节转移臂的速度的控制部，并控制同时被 驱动的各转移臂同时到达目标点。因此，转移件一次向储存件装载多个基材或从其中取出 多个基材，使得所述基材处理设备缩短了转移时间并提高了生产性。附图说明附图用于进一步理解本专利技术，且被并入说明书中构成说明书的一部分。附图显示本专利技术的示例性实施例，并且与说明书一起用于解释本专利技术的原理。在附图中图1是根据本专利技术实施例的基材处理系统的示意图；图2是示出图1的分度自动装置的立体图；图3是示出图1的缓冲单元的立体图；图4是示出图1的主转移自动装置的立体图；图5是示出图1的第一控制单元构造的方框图；以及图6是示出图5的第一控制单元控制分度臂的水平运动的方法的流程图。具体实施例方式下面参照附图更详细地说明本专利技术的优选实施例。然而，本专利技术可以体现为多种 不同形式，并且不应当认为本专利技术受限于在此提出的实施例。相反，提供这些实施例是为了 使本专利技术的公开内容清楚和完整，并向本领域技术人员全面地表达本专利技术的范围。下面，将结合附图对本专利技术的示例性实施例进行描述。图1是根据本专利技术实施例的基材处理系统1000的示意图，图2是示出图1的分度 自动装置200的立体图。参照图1和图2，基材处理系统1000可以包括装载/卸载单元110、分度自动装置 200、缓冲单元300、主转移自动装置500、多个处理室600、第一控制单元710和第二控制单 元 720。装载/卸载单元110包括多个装载口 110a、110b、110c和110d。尽管在本实施例 中装载/卸载单元110包括四个装载口 110a、110b、110c和110d，但是装载口 IlOaUlOb, IlOc和IlOd的数量可以根据基材处理系统1000的处理效率和占地面积条件增大或减小。前开式晶片盒(FOUP)120a、120b、120c 和 120d 安置在装载口 110a、110b、IlOc 和 I本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基材处理设备，包括：储存件，沿垂直方向排列多个基材并储存基材；转移件，包括沿垂直方向彼此面对的多个转移臂和臂驱动部，所述臂驱动部设置在所述转移臂下方并与所述转移臂连接，用于水平移动各转移臂，基材被装载在各转移臂上，所述转移件从所述储存件取出至少一个基材和向其中装载至少一个基材；以及控制单元，控制所述转移件的运动速度和位置并控制所述臂驱动部，使得至少两个转移臂同时到达在所述储存件中的目标点，其中所述控制单元将与被同时控制的各转移臂的目标点对应的各预期速度变化作比较，从而控制各转移臂的运动速度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪祥硕，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR