表面浮雕微结构、相关装置及其制造方法制造方法及图纸

技术编号:7130185 阅读:270 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种用于复制图案化的表面浮雕微结构的方法,该方法包括如下步骤:产生具有图案化的表面浮雕微结构的第一层;通过将第一层的微结构复制到第二层中来产生母版,从而涉及至少一个干法或湿法蚀刻步骤,其特征在于,该方法还包括附加步骤,在该附加步骤中,使母版的微结构与复制品材料进行接触,从而使母版的微结构在复制品材料中被再现。本发明专利技术还涉及根据该方法被制造为复制品的元件。表面浮雕微结构适于显示具有正向-负向和/或彩色图像翻转的图像。根据本发明专利技术的元件特别适用于保护文档和制品以免受伪造和纂改。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种制造图案化的表面浮雕微结构(surface relief microstructure)的复制品的方法。本专利技术还涉及根据该方法制造为复制品的元件。特别地,根据本专利技术的元件用于保护文档和制品以防止伪造和篡改。
技术介绍
现在,通常使用光学装置来防伪造、非法篡改进行保护和产品保护是成熟技术。随着欺诈和伪造的增加,不断需要新颖的防伪措施。许多年以来,全息图已经成为优选的安全技术。其间,这种技术已经超过30年并且由此被广泛了解和应用。今天甚至可以在每个礼品店内发现全息箔。由于许多人可以使用全息图技术,所以这种情形呈现了安全风险。因此,非常希望通过与全息装置明显不同的新颖的安全特征来扩展安全装置的色调(palette)。这种新装置的例子是可供选择的光学可变装置(OVD)。OVD是当视角或照明角度发生变化时改变其外观(例如,亮度、对比度或颜色)的装置。著名的代表性色偏移 OVD是胆留型或干涉膜,其包括基于这些膜的薄片的光学装置。当装置相对于垂直视角倾斜时,这两种膜均呈现出显著的色偏移。在现代薄膜部件的历史中由于光在光学薄膜处的干涉导致的色偏移效应出现很久了(例如,J.本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种复制图案化的表面浮雕微结构的方法,包括如下步骤:在第二层(22)的顶部上产生具有图案化的表面浮雕微结构的第一层(21),第一层包括第一材料,并且第二层包括第二材料;通过将第一层的微结构复制到第二层中来产生母版,从而至少包含一个干法或湿法蚀刻步骤,其特征在于,该方法还包括附加步骤,在该附加步骤中,使母版的微结构与复制品材料进行接触,从而使母版的微结构在复制品材料中被再现,与母版的表面浮雕轮廓相比,该复制品材料具有反向的表面浮雕轮廓。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:M·伊本哈吉
申请(专利权)人:罗利克有限公司
类型:发明
国别省市:CH

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